公开(公告)号：CN212560430U

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN202020797191.X

申请日：2020-05-13

申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司

发明人： 刘子优 ,  肖蕴章 ,  陈炳安 ,  钟国仿 ,  张灿

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/458

摘要： 本实用新型公开了一种用于CVD设备的反应室涡轮结构，包括腔室，腔室内设置有旋转支撑柱，旋转支撑柱沿着轴向方向均匀设置有多个叶片，叶片上设置有凹槽，通过所述凹槽安装有晶圆，旋转支撑柱还设置有气体分流板，气体分流板设于所述叶片的下方；气体分流板设置有多个分流孔，腔室的底部设置有连通尾气系统的排气孔；有益效果是：在腔室设置四排出气孔，出气方向与旋转机构方向一致，可产生辅助的旋转动力，出气孔的气体来源与喷淋板的反应气体一致，同时使用气体质量流量计来控制侧壁出气量，出气孔输出的反应气体也作为补充气体填补未能完全填充的区域，使整片晶圆接触的反应气体浓度更均匀饱和，工艺稳定性更好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN212152434U

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN202020819117.3

申请日：2020-05-15

申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司

发明人： 刘子优 ,  肖蕴章 ,  钟国仿 ,  陈炳安 ,  张灿

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 本实用新型公开了一种可加热的蜂窝式多通道进气结构，涉及CVD设备进气结构技术领域。本实用新型包括多个进气管单元，进气管单元的截面为正六边形，相邻进气管单元的外壁相互连接形成蜂窝状。所有进气管单元的同一侧设置有密封盖，密封盖贯穿设置有与进气管单元内部相互连通的支路管，至少一个支路管形成一个支路单元，每一支路单元均连通有集中管。

公开(公告)号：CN209113493U

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201821699833.1

申请日：2018-10-19

申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司

发明人： 钟国仿 ,  张灿

IPC分类号： C01B32/186 ,  C01B32/162

摘要： 本实用新型公开一种开放式连续生长碳纳米材料的设备，包括金属箔带进料系统、CVD系统和收集系统，金属箔带进料系统用于将金属箔带从大气中传送至CVD系统；CVD系统用于反应生成碳纳米材料，金属箔带在CVD系统内附着碳纳米材料后进入收集系统，本实用新型将金属箔带通过金属箔带进料系统连续输送进入CVD系统中，在该系统中经化学气相沉积方法在金属箔带表面沉积所需的碳纳米材料，然后通过收集系统直接进行收集，并对碳纳米材料进行后处理或直接生产碳纳米材料终端产品。本实用新型所有的系统均置于开放的大气中，而非隔绝空气的密封空间内。可实现每天24小时连续不间断运行，极大提高碳纳米材料的生长效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN307615964S

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202230391495.0

申请日：2022-06-24

申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司

设计人： 何闻振 ,  李小天 ,  黄帅帅 ,  李晓梅 ,  曾愉愉 ,  杨方 ,  肖蕴章 ,  钟国仿 ,  陈炳安

摘要： 1.本外观设计产品的名称：薄膜沉积设备。
2.本外观设计产品的用途：用于在基底或衬底上生长同质或异质的薄膜材料。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。