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1.

外观设计
薄膜沉积设备有权

公开(公告)号：CN307615964S

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202230391495.0

申请日：2022-06-24

申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司

设计人： 何闻振 , 李小天 , 黄帅帅 , 李晓梅 , 曾愉愉 , 杨方 , 肖蕴章 , 钟国仿 , 陈炳安

摘要： 1.本外观设计产品的名称：薄膜沉积设备。
2.本外观设计产品的用途：用于在基底或衬底上生长同质或异质的薄膜材料。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。