一种多自由度的T-Mac调整机构

    公开(公告)号:CN220428389U

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202321175104.7

    申请日:2023-05-16

    IPC分类号: B25J19/00

    摘要: 本实用新型公开了一种多自由度的T‑Mac调整机构,包括:支撑结构体,支撑结构体支撑并固定连接T‑Mac装置;万向转台,支撑结构体万向转动调节地连接万向转台并以万向转台为支撑基础;磁力底座,磁力底座通过磁力固定吸附于机器人的机械臂上;其中,万向转台转动调节地连接磁力底座并以磁力底座为支撑基础。利用磁力底座的磁力吸附固定的方式将T‑Mac装置固定在机器人的机械臂上,达到了直接将T‑Mac装置固定在机器人本体上的效果,且具有无损固定的效果,能够匹配多种类型工业机器人的现场检校操作。

    一种用于检定两光栅平行性的装置

    公开(公告)号:CN220153527U

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202321274140.9

    申请日:2023-05-24

    IPC分类号: G01B11/26

    摘要: 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置,包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏,所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分,利用第一光栅和第二光栅的镜面反射,通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线,实现两光栅栅面平行调整,利用第一光栅和第二光栅的衍射效应,通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线,实现两光栅栅线平行调整。本实用新型结构简单,原理易懂,便于操作实现。

    一种应用于仪器的防护外罩

    公开(公告)号:CN205120148U

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201520890431.X

    申请日:2015-11-10

    IPC分类号: G01D11/26

    摘要: 本实用新型公开了一种应用于仪器的防护外罩,包括:一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接;和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部;其中,所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖,并且,该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接,该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时,可扩大仪器的计量测试视野和作业空间,便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时,罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间,能够为仪器提供优良的实验环境。

    声散射系数测试用转台
    65.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204719002U

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201520433916.6

    申请日:2015-06-23

    IPC分类号: G01N29/04 G01N29/265

    摘要: 本实用新型为一种声散射系数测试用转台,包括回转平台和回转中心轴,其特征在于:所述的声散射系数测试用转台为台架滚轮式结构,所述回转平台为直径3m的钢制旋转圆盘,回转部件采用滚轮,依靠滚轮的滚动摩擦驱动所述的旋转圆盘转动,旋转圆盘底面设有与旋转圆盘同心的环式凹槽,内环圆半径0.8m,外环圆半径1.3m,旋转圆盘底下的井字形台架上设有四组滚轮组,每组滚轮组设有内外两对共四个滚轮,每组滚轮组近旋转圆盘圆心的内侧的两个滚轮嵌入旋转圆盘的内环圆凹槽内,外侧的两个滚轮嵌入旋转圆盘外环圆凹槽内,通过所述的四组滚轮组共16个滚轮在旋转圆盘的凹槽里的滚动来驱动旋转圆盘产生转动。

    基于光切原理的非接触式伤痕深度测量装置

    公开(公告)号:CN203259129U

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201320250461.5

    申请日:2013-05-10

    IPC分类号: G01B11/22

    摘要: 本实用新型为一种基于光切原理的非接触式伤痕深度测量装置,其特征在于:所述的测量装置包括9J型光切显微镜光路壳体、长度计、光源及调节组件、CCD及调节组件、三维调节工作台、压板固定用T型导轨条、底座及显微镜导轨立柱;所述的三维调节工作台和显微镜导轨立柱并列安装在底座上,旁侧还设有T型导轨条,连接在显微镜导轨立柱上的9J型光切显微镜光路壳体位于三维调节工作台上方呈悬空非接触式,9J型光切显微镜光路壳体上表面并列连接长度计接触块组件和光源调节组件,长度计接触块组件上端与长度计接触,长度计通过长度计连接件与显微镜导轨立柱顶端相连,CCD及调节组件与9J型光切显微镜光路壳体上侧面构成45°倾斜连接。

    一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头

    公开(公告)号:CN202974174U

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201220709762.5

    申请日:2012-12-20

    IPC分类号: G01B7/00 B81B7/04

    摘要: 本实用新型为一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头,所述的测头由方形底板、电容传感器阵列、十字梁和测针组成,其特征在于:所述的测头有多个电容传感单元,呈阵列式分布于方形底板上,测针连接在十字梁的中心连接体上,十字梁的悬臂与电容传感器上极板相连,上极板通过微弹簧悬挂单元悬挂,所述上极板的悬挂采用若干个微弹簧实现,微弹簧不仅用于固定电容传感器的上极板,还用于支撑十字梁和测针重量,由测针及十字梁组成的杠杆结构将被测物的横向位移放大并转化为电容上极板的轴向位移,解决单个电容传感器测量时横向分辨力低的问题。本实用新型弥补了单个电容传感器横向分辨力低的缺陷,提高了分辨力和精度,有效拓展了横向测量范围。

    一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置

    公开(公告)号:CN220556313U

    公开(公告)日:2024-03-05

    申请号:CN202322300207.8

    申请日:2023-08-25

    IPC分类号: G01B11/02 G01B9/02

    摘要: 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。

    一种背对式两光栅相互平行的调节装置

    公开(公告)号:CN219936177U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321273857.1

    申请日:2023-05-24

    IPC分类号: G02B7/00 G01B11/26

    摘要: 本实用新型为一种背对式两光栅相互平行的调节装置,用于实现两光栅栅面平行和两光栅栅线平行的调节,包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构,通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节,通过红光光源发射光线,由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样,并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线,调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行,完成两光栅的栅线平行调节。

    一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN216791112U

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN202120786964.9

    申请日:2021-04-17

    IPC分类号: G01B11/06

    摘要: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆,所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆,所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识,所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求,完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式,使测量结构能被快速、准确地定位和测量,大大提高了测量效率。