制造两个以上图形化基板的方法及制造装置

    公开(公告)号:CN103415829A

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201280012126.X

    申请日:2012-03-06

    Abstract: 本发明涉及一种工艺简单且效率高的两个以上图形化基板的制造方法及两个以上图形化基板的制造装置。本发明提供一种两个以上图形化基板的制造方法,其包括:1)在一个基板板面上配置至少两个基板的步骤;2)在印刷板板面上配置印刷板的步骤,所述印刷板包括至少两个与将要形成于一个基板上的图形单元相对应的凹状图形单元;3)在印刷滚筒上涂布墨水的步骤;4)使所述印刷板与涂布有所述墨水的印刷滚筒接触,从而在所述印刷滚筒上形成至少两个图形单元的步骤;以及5)通过一次工艺将所述印刷滚筒上的至少两个图形单元分别转印到至少两个待印刷基板的步骤。另外,本发明提供一种两个以上图形化基板的制造装置,其包括:印刷滚筒;用于对所述印刷滚筒涂布墨水的涂布机;至少包括两个与将要形成于一个待印刷基板上的图形单元相对应的凹状图形单元的印刷板;用于支撑所述印刷板的印刷板板面;以及用于支撑两个以上待印刷基板的基板板面。

    基底
    62.
    发明公开
    基底 审中-实审

    公开(公告)号:CN118435113A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202280080152.X

    申请日:2022-12-07

    Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底:其应用于各种光学装置,能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙,同时最大程度地确保有源区,而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

    涂覆厚度测量装置和包括该涂覆厚度测量装置的涂覆装置

    公开(公告)号:CN117916550A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202380013429.1

    申请日:2023-04-25

    Inventor: 李度弦 李承宪

    Abstract: 根据本发明的一个方面的涂覆厚度测量装置涉及构造成对施加到基板上的涂覆材料的厚度进行测量的涂覆厚度测量装置,该基板在卷绕于涂覆辊上的状态下被供给,并且该涂覆厚度测量装置包括涂覆厚度测量模块,该涂覆厚度测量模块包括:光施加部,其用于将光施加至涂覆材料的表面,涂覆材料被施加至基板的卷绕在涂覆辊上的卷绕部分;光获取部,其用于获取从涂覆材料的表面反射的光;以及处理器,其用于基于所获取的光来计算涂覆材料的厚度。

    基板
    65.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN111033377B

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN201880051202.5

    申请日:2018-08-14

    Abstract: 本申请提供了基板及其生产方法。本申请可以在具有包括依次形成的基础层、黑层和间隔物的结构的基板中提供具有优异的所述间隔物对所述基础层或所述黑层的粘合性且确保适当的暗化特性的基板,并且还可以提供能够在没有单独处理例如热处理的情况下有效地生产这样的基板而没有不利影响例如出现异物的生产方法。

    金属图案膜及其制备方法
    69.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110719842B

    公开(公告)日:2021-08-24

    申请号:CN201880036896.5

    申请日:2018-03-27

    Abstract: 本申请涉及一种金属图案膜及其制备方法,所述金属图案膜包括:基板;分别设置在所述基板的两个表面上的第一粘合促进层和第二粘合促进层;设置在所述第一粘合促进层的与邻接所述基板的表面相对的表面上的金属图案;设置在所述第一粘合促进层的设置有所述金属图案的表面上以便覆盖所述金属图案的第一粘合层;和设置在所述第二粘合促进层的与邻接所述基板的表面相对的表面上的第二粘合层,其中,所述第一粘合促进层和所述第二粘合促进层包括无机氧化物。

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