公开(公告)号：CN105385370A

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：CN201510397287.0

申请日：2015-07-08

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/04 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN104342044A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410242459.2

申请日：2014-06-03

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。

公开(公告)号：CN103421436A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310181273.6

申请日：2013-05-16

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08

Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。在透明基材膜（1）的单面形成有粘结剂层（2），在该粘结剂层（2）上贴合有剥离膜（5）的表面保护膜（10）中，粘结剂层（2）含有防静电剂，剥离膜（5）是在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，所述剥离剂层（4）包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物（7）。粘结剂层（2）由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。