一种选择性激光熔化AlSi10Mg合金热处理制品的电化学表面处理方法

    公开(公告)号:CN113186589A

    公开(公告)日:2021-07-30

    申请号:CN202110506497.4

    申请日:2021-05-10

    摘要: 一种选择性激光熔化AlSi10Mg合金热处理制品的电化学表面处理方法,本发明涉及金属材料的电化学表面精整领域。本发明要解决现有选择性激光熔化AlSi10Mg合金热处理制品表面粗糙度大,精密度低的技术问题。方法:采用NaOH和EDTA配制电解液;将AlSi10Mg合金进行打磨,酸洗;采用三电极体系进行电化学抛光。本发明通过电化学表面处理技术将选择性激光熔化AlSi10Mg合金热处理制品的粗糙度12±2μm降到3±2μm,获得了表面光滑、显现金属光泽的AlSi10Mg合金热处理样品。本发明用于AlSi10Mg合金热处理制品表面处理。

    一种焊接接头防护涂层的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN113089048A

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202110360068.0

    申请日:2021-04-02

    摘要: 本发明公开了一种焊接接头防护涂层的制备方法及其应用,焊接接头防护涂层具有阳极氧化铝层与Ni‑P镀层的双层结构,焊接接头防护涂层应用于铝合金搅拌摩擦焊的焊缝表面上,该焊接接头防护涂层的制备方法包括如下步骤:1)对铝合金焊缝表面进行预处理,得到平整光滑的待增强铝合金焊缝表面;2)对待增强铝合金焊缝表面进行阳极氧化处理得到致密多孔的阳极氧化铝中间层;3)对阳极氧化铝中间层进行活化扩孔处理得到待镀镍铝合金焊缝表面;4)对待镀镍铝合金焊缝表面进行电化学镀镍处理得到所述焊接接头防护涂层。本发明不仅可以提高镀镍层和基体之间的结合强度,还可以同时提高铝合金焊缝的耐蚀性和耐磨性。

    在铝合金表面制备耐腐蚀超疏水膜层的方法

    公开(公告)号:CN110724992B

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN201910929771.1

    申请日:2019-09-27

    摘要: 本发明公开了一种在铝合金表面制备耐腐蚀超疏水膜层的方法,该方法首先用去离子水和乙醇在超声波清洗仪器中依次对预磨的铝合金基体进行清洗;对铝合金基体进行电解抛光、阳极氧化、扩孔处理;将基体放置在电化学镀镍液中,使基体表面获得凸包状织构,随后将基体放置在电化学镀钴装置中,进行电化学镀钴处理,通过以上步骤的处理,主要通过阳极氧化和电化学沉积相结合在基体表面构建花瓣状微纳米粗糙结构。最后将处理后的基体放入氟硅烷乙醇溶液中浸泡修饰降低其表面自由能,使铝合金表面获得耐腐蚀超疏水膜层,有效的提高了铝合金的耐蚀性。

    一种零件表面处理方法
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113059502A

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN202110262025.9

    申请日:2021-03-10

    IPC分类号: B24C1/08 C25F3/20

    摘要: 本发明公开一种零件表面处理方法,涉及零件表面处理技术领域,以解决现有技术中不能快速降低叶轮表面的粗糙度,劳动强度高以及叶轮质量低的问题。所述零件表面处理方法包括:对零件的表面进行第一电磁抛光处理;对经过第一电磁抛光处理的零件依次进行喷砂处理和打磨处理,获得打磨后零件,打磨后零件的表面粗糙度一致;对打磨后零件进行第二电磁抛光处理,获得处理后零件;处理后零件的表面粗糙度小于打磨后零件的表面粗糙度。

    一种β平面源制备方法和一种β平面源

    公开(公告)号:CN112967830A

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202110139626.0

    申请日:2021-02-01

    摘要: 本发明公开了一种β平面源制备方法和一种β平面源。制备方法包括:对金属托片进行氧化处理,形成氧化膜;使用放射性料液填充所述金属托片的氧化膜,令所述放射性料液中的放射性金属离子进入所述氧化膜的孔洞;使用含硅凝胶封闭所述金属托片的氧化膜孔洞,阻止所述放射性金属离子渗出。本申请将金属托片氧化形成氧化膜,利用氧化膜填充放射性料液的方式实现放射性料液的吸附,并且,采用含硅凝胶封闭金属托片的氧化膜孔洞,从而阻止放射性金属离子泄漏,使制得的β平面源放射性粒子吸附牢固,使用效果更佳、寿命更长。

    一种快速制备高度规整的多孔阳极氧化铝模板的方法

    公开(公告)号:CN112080775A

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202010826501.0

    申请日:2020-08-17

    IPC分类号: C25D11/10 C25D11/16 C25F3/20

    摘要: 本发明公开了一种快速制备高度规整的多孔阳极氧化铝模板的方法,其步骤为:将抛光的铝片折成“U”字形,其两端分别插入到两个独立的电解池中,并向其中分别插入一石墨板,两石墨板与铝片两端分别平行,且距离相等;加载在两石墨板上的总电压为58‑62 V,电解液温度为25±2℃,制备得到该PAA膜。本发明在封闭型双极电化学阳极氧化条件下,将铝片在高浓度草酸电解液中快速反应生成高度规整的PAA膜,最大氧化电流密度达到了151 mA cm‑2,PAA膜的最大生长速度为2.0μm/min,本方法可以通过改变两个电解池中的溶液以及阴极电解池中铝片面积的大小来控制PAA膜的生长速度,并且在大电流密度下生长的PAA膜不容易出现击穿现象,且该方法使得铝片可以在无需接线的条件下实现阳极氧化过程。

    一种铝合金金相试样制备用电解抛光液及其组织显示方法

    公开(公告)号:CN110886010B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201911233036.3

    申请日:2019-12-05

    IPC分类号: C25F3/20 G01N1/32

    摘要: 本发明提供了一种铝合金金相试样制备用电解抛光液,包含丙三醇和盐酸水溶液。本发明提供的铝合金金相试样电解抛光液采用丙三醇和盐酸水溶液的组合方式,其中盐酸为电解抛光提供Cl‑与酸性环境,丙三醇作为反应物参与电解反应,同时水还可提高电解抛光液的导电能力。本发明提供的电解抛光液盐酸含量低,无爆炸危险,铝合金试样经电解抛光液抛光后,得到的金相组织具有各相成像清晰、准确,第二相脱落较少的优异性能,能够更好的满足金相检测要求。而且,本发明提供的铝合金金相试样的组织显示方法操作简便,无需加热,制样效率高。

    一种薄膜铌酸锂光波导芯片抛光装置及其抛光方法

    公开(公告)号:CN111379009A

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN202010364793.0

    申请日:2020-04-30

    IPC分类号: C25F3/20

    摘要: 本发明所提出的一种薄膜铌酸锂光波导芯片抛光装置及其抛光方法利用磁力搅拌台驱动磁转子在抛光溶液中转动,进而搅拌抛光溶液与芯片表面发生流动接触,其中的抛光颗粒与干法刻蚀后的芯片表面发生半接触或滑动接触,并伴有少量的粒子轰击,同时抛光溶剂中的碱性离子与刻蚀表面发生化学刻蚀反应,利用抛光溶液的不断搅动实现沿刻蚀表面平行方向的化学刻蚀和粒子轰击,进而去除沉积在干法刻蚀表面的刻蚀生成物以及干法刻蚀产生的尖峰和凸起,达到刻蚀表面和波导侧壁光滑化的效果,与传统的接触式机械研磨抛光和化学机械抛光方法相比,具有结构简单、操作简便、成本低、表面损伤小的优点。

    一种铝合金金相试样制备用电解抛光液及其组织显示方法

    公开(公告)号:CN110886010A

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201911233036.3

    申请日:2019-12-05

    IPC分类号: C25F3/20 G01N1/32

    摘要: 本发明提供了一种铝合金金相试样制备用电解抛光液,包含丙三醇和盐酸水溶液。本发明提供的铝合金金相试样电解抛光液采用丙三醇和盐酸水溶液的组合方式,其中盐酸为电解抛光提供Cl-与酸性环境,丙三醇作为反应物参与电解反应,同时水还可提高电解抛光液的导电能力。本发明提供的电解抛光液盐酸含量低,无爆炸危险,铝合金试样经电解抛光液抛光后,得到的金相组织具有各相成像清晰、准确,第二相脱落较少的优异性能,能够更好的满足金相检测要求。而且,本发明提供的铝合金金相试样的组织显示方法操作简便,无需加热,制样效率高。