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公开(公告)号:CN109718426B
公开(公告)日:2021-09-21
申请号:CN201910142004.6
申请日:2019-02-26
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: A61M5/168
摘要: 本发明涉及医疗设备技术领域,提出一种输液控制系统、输液系统,该输液控制系统用于控制输液装置的输液速度,输液装置包括用于输液的输液软管,该输液控制装置包括:套接件、调节件、动力装置。套接件套接于输液软管,套接件的侧壁上设置有螺纹孔;调节件包括螺纹柱,螺纹柱螺纹连接于螺纹孔;动力装置固定连接于套接件,用于受控于一控制信号向螺纹柱输出扭转力,以调节螺纹柱伸入套接件的深度。本公开提供的输液控制系统可以通过控制信号自动调节输液速度。
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公开(公告)号:CN106098701B
公开(公告)日:2020-03-13
申请号:CN201610509726.7
申请日:2016-06-30
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该阵列基板的制备方法包括:在衬底基板上形成开关管和第一电极,采用化学机械研磨的方法同时形成开关管的源极和漏极以及第一电极。该制备方法通过采用化学机械研磨的方法同时形成开关管的源极和漏极以及第一电极,能够减少阵列基板制备工艺中的源极和漏极构图工艺以及第一电极的构图工艺,从而使阵列基板的制备工艺大大简化,进而提高了阵列基板的制备效率。
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公开(公告)号:CN110850656A
公开(公告)日:2020-02-28
申请号:CN201911203965.X
申请日:2019-11-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1362
摘要: 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置,属于显示技术领域。其中,阵列基板,包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的数据线和像素电极,所述数据线在所述衬底基板上的第一正投影与所述像素电极的外轮廓在所述衬底基板上的第二正投影之间存在间隙,所述阵列基板还包括:位于所述数据线靠近所述衬底基板一侧的遮光结构,所述间隙在所述衬底基板上的正投影位于所述遮光结构在所述衬底基板上的正投影内,所述遮光结构包括金属图形和位于所述金属图形远离所述衬底基板一侧、与所述金属图形层叠设置的第一减反图形。本发明实施例能够提高液晶显示面板的开口率。
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公开(公告)号:CN108803115A
公开(公告)日:2018-11-13
申请号:CN201810737984.X
申请日:2018-07-06
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1333 , G09F9/00
CPC分类号: G02F1/1333 , G09F9/00
摘要: 本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,用于提升阵列基板的工艺良率及显示效果。所述阵列基板包括衬底基板以及依次层叠设在所述衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层;所述有机膜层上设有减薄区域,所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影。本发明实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示装置用于TFT阵列基板。
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公开(公告)号:CN108598040A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201710142461.6
申请日:2017-03-10
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77 , H01L27/32 , H01L29/786 , H01L21/336
摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、驱动晶体管、显示面板,属于显示技术领域。阵列基板包括像素电路和有机发光二极管,像素电路包括:驱动晶体管和开关晶体管,驱动晶体管包括第一有源介质,开关晶体管包括第二有源介质,第一有源介质和第二有源介质均为多晶硅,且第一有源介质的晶粒尺寸小于第二有源介质的晶粒尺寸。本申请解决了OLED显示面板的显示效果较差的问题,提高了OLED显示面板的显示效果,本申请用于显示面板。
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公开(公告)号:CN108388077A
公开(公告)日:2018-08-10
申请号:CN201810252096.9
申请日:2018-03-26
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G03F1/34
摘要: 本发明提供一种掩膜版及其制备方法、阵列基板的制备方法,属于显示技术领域,其可解决现有的掩膜版不透光区的边缘位置处存在衍射光线,致使无法按设计尺寸得到相应图案的问题。本发明的掩膜版在至少部分光可透过区的临近不透光区的边缘位置处设置相移区,在相移区设有相移掩膜,这样在该边缘位置处即使发生光线衍射现象,相移掩膜可以降低由相移区透过的光的光强,相当于衍射光线被叠加相消,使得对应不透光区的边缘位置的光刻胶不被衍射光线照射,最终可按设计尺寸得到相应图案。本发明的掩膜版适用于制备各种阵列基板。
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公开(公告)号:CN104934441B
公开(公告)日:2018-03-30
申请号:CN201510213267.3
申请日:2015-04-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: H01L27/12 , H01L23/64 , H01L21/77 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L27/1255 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L28/82 , H01L28/88 , H01L29/41733
摘要: 本发明实施例提供一种GOA单元及其制作方法、栅极驱动电路及显示器件,涉及显示技术领域,能够避免由于GOA单元中电容的存在而导致在显影工艺中过多的显影液流向TFT单元区域,造成TFT沟道过宽的问题。所述GOA单元包括:在基板上形成的TFT模块和电容结构,TFT模块包括:栅极、源极和漏极,电容结构包括:用于形成第一电容的第一电极和第二电极;TFT模块的栅极与电容结构的第一电极同层设置,TFT模块的源极、漏极与电容结构的第二电极同层设置,且第二电极具有沟槽。本发明实施例用于显示器件。
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公开(公告)号:CN104281015B
公开(公告)日:2018-02-27
申请号:CN201410505628.7
申请日:2014-09-26
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本发明公开了一种显影装置及显影方法,涉及显示面板制作技术领域。所述显影装置包括:滑动安装在显影腔室底部、可对进入所述显影腔室内的基板进行加热的加热装置,且所述加热装置施加在所述基板的周边区域的温度小于施加在所述基板的中部区域的温度;与所述加热装置连接的驱动装置;检测进入所述显影腔室内的所述基板是否与所述加热装置正对的传感器;分别与所述驱动装置和所述传感器信号连接的控制装置,当所述传感器检测到进入所述显影腔室内的所述基板与所述加热装置正对时,所述控制装置控制所述驱动装置驱动所述加热装置与所述基板同步水平移动。采用本发明提供的显影装置对基板进行显影时提升了显影的均匀性。
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公开(公告)号:CN105070684B
公开(公告)日:2018-01-05
申请号:CN201510424976.6
申请日:2015-07-17
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77 , H01L21/336 , H01L27/12 , G02F1/1343 , G02F1/1333 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L27/1288 , G02F1/133345 , G02F1/134309 , G02F1/13439 , G02F1/136227 , G02F1/1368 , G02F2001/134318 , G02F2001/134372 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , H01L21/77 , H01L27/12 , H01L29/66765
摘要: 本发明提供一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的阵列基板在制备时出现漏极下方出现悬空的问题。本发明的阵列基板的制备方法包括:形成像素电极的图形,薄膜晶体管的栅极的图形;形成栅极绝缘层;通过构图工艺形成包括薄膜晶体管有源层,以及形成在有源层上的源极和漏极的图形;形成钝化层,并通过构图工艺形成包括贯穿栅极绝缘层和/或钝化层的主过孔的图形;同时还形成包括位于漏极的部分区域下方的主过孔延伸部的图形;主过孔与主过孔延伸部贯通;去除与过孔延伸部位置对应的漏极金属,形成包括过孔的图形;形成包括连接电极和公共电极的图形;其中,连接电极通过过孔将漏极与像素电极电性连接。
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公开(公告)号:CN106206427A
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201610666962.X
申请日:2016-08-15
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 提供了一种显示基板的制作方法、显示装置的制作方法以及显示基板,减少工艺步骤,提高显示质量。所述显示基板的制作方法包括:提供衬底基板;在所述衬底基板上形成薄膜晶体管;在形成有所述薄膜晶体管的衬底基板上形成第一导电层,所述第一导电层与所述薄膜晶体管的漏极电连接;制作发光材料块;以及将所述发光材料块转移到所述第一导电层的表面。
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