公开(公告)号：CN102161942A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC分类号： C11D7/32 ,  H01L51/56

摘要： 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。

公开(公告)号：CN1828416B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200610058611.7

申请日：2006-03-02

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 吕泰勳 ,  金柄郁 ,  赵勇衍 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明 ,  李浩真 ,  崔相角 ,  申洪大 ,  李东赫

IPC分类号： G03F7/008 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G02F1/133 ,  G03F7/20

摘要： 本发明提供感光性树脂组合物，其不仅灵敏度、绝缘性、耐化学性等性能出色，还能够显著提高透过性和贮藏稳定性，适宜形成LCD制造工序中的层间绝缘膜。本发明涉及感光性树脂组合物，特别是涉及含有a)：丙烯酸类共聚物、b)：1，2-二叠氮醌化合物和c)：溶剂的感光性树脂组合物，其中，所述丙烯酸类共聚物是将i)：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物，ii)：化学式1至8中任意一个所示的含有环氧基的不饱和化合物及iii)：烯烃类不饱和化合物共聚后除去未反应的单体而得到的。

公开(公告)号：CN101384948B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200780005749.3

申请日：2007-02-15

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  李骐范 ,  金容宇 ,  朴美仙 ,  洪振燮 ,  金玮镕

IPC分类号： G02F1/13

摘要： 一种用于测试平板显示器的系统，该平板显示器具有平面显示板组件，该系统包括：测试平台，其用于布置平面显示板组件；测量装置，其被配置在测试平台上并用于测量来自光源并穿过平面显示板组件的测量区域的透射光的光谱；传送装置，其用于使测量装置在测试平台上以等加速度移动；以及缺陷报告装置，其被电连接到测量装置并用于通过处理从测量装置传输的光谱的电信号来报告缺陷的存在、缺陷类型以及缺陷的严重程度。

公开(公告)号：CN1713077B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200510077285.X

申请日：2005-06-21

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  金圣培 ,  尹锡壹 ,  张锡唱

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明涉及一种组合物，该组合物用于去除电路或显示设备的金属布线构图所用的抗蚀剂。本发明组合物含有一种碳酸亚烃酯、并可任选地含有一种叔胺或一种氧化剂。本发明组合物可以高效去除残留在已构图的金属膜上的抗蚀剂，在高温下由蒸发引起的组成变化和化学疲劳小，并且能将已构图的金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN101825843A

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN201010122249.1

申请日：2010-03-02

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 尹赫敏 ,  金柄郁 ,  丘冀赫 ,  吕泰勋 ,  尹柱豹 ,  申洪大 ,  李相勋 ,  金东明 ,  崔守延 ,  金珍善 ,  禹唱旼 ,  金弘锡

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G02F1/13

CPC分类号： G03F7/031 ,  G02F1/133345

摘要： 本发明提供一种感光性树脂组合物，其用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜的形成，在光取向用液晶工序中进行过曝光时能够改善液晶偏置现象，而且容易调节图案的分辨率，特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜的形成。本发明的感光性树脂组合物的特征是，是用于TFT-LCD用层间有机绝缘膜的形成的感光性树脂组合物，含有0.01至20重量％的UV稳定剂或者自由基清除剂。

公开(公告)号：CN1702554B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200510075828.4

申请日：2005-05-27

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 吕泰勳 ,  金柄郁 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明

IPC分类号： G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G02F1/133

摘要： 本发明涉及感光性树脂组合物，特别是涉及的感光性树脂组合物含有：a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物；b)1，2-醌二叠氮化合物；以及c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂。本发明涉及的感光性树脂组合物不仅光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越，特别是还可以显著地提高平坦性和涂布性，适宜于形成LCD制造工序的层间绝缘膜。

公开(公告)号：CN101727000A

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200910208089.X

申请日：2009-10-27

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  俞载元 ,  郭恩珍 ,  金云龙

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物的电路线宽均匀性、分辨率、显影对比度、粘合性优异，特别是感光速度、残膜率和耐热性优异。本发明涉及使用在液晶显示装置电路、半导体集成电路等的精细电路制造中的光致抗蚀剂组合物，更具体地说，本发明涉及含有如下物质的光致抗蚀剂组合物：a)碱溶性树脂；b)光敏性化合物；c)胶体状无机物；和d)有机溶剂。

公开(公告)号：CN1721989B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200510080628.8

申请日：2005-07-04

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 姜勋 ,  李承昱 ,  全雨植 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  金柄郁

IPC分类号： G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0048 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/022

摘要： 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明提供了包含以下物质的光致抗蚀剂组合物：a)酚醛清漆树脂、b)二叠氮化合物和c)包含丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)和2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇单异丁基酯(TMPMB)的溶剂。本发明的光致抗蚀剂组合物在涂布后具有优异的涂布均匀性和污染抑制性能，使得它容易适用于实际工业场合，并且在大规模生产时，由于消耗量的降低和生产所需时间的缩短等，该光致抗蚀剂组合物可以改善作业环境。

公开(公告)号：CN101300529A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680041062.0

申请日：2006-11-07

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 朴熙珍 ,  辛成健 ,  尹锡壹 ,  金柄郁

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/423

摘要： 本发明涉及一种用于去除用在半导体器件、液晶显示器或有机发光器件的制备中的光刻胶的稀释剂组合物，并且更具体地，涉及一种包含二元醇醚化合物，特别地作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物的用于去除光刻胶的稀释剂组合物。本发明的用于去除光刻胶的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除用于有机EL的玻璃基板和用于制备液晶显示器的那些基板的边沿和背面的多余的光刻胶，而无论所使用的特定的光刻胶。

公开(公告)号：CN101156111A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200680011131.3

申请日：2006-04-04

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/31133

摘要： 本发明涉及一种用于半导体器件制备工艺的光刻胶去除剂组合物。本发明的包含铵盐、水溶性有机胺和水的去除剂组合物可以在高温或者低温下、在短时间内有效去除通过硬性烘烤、干法蚀刻、湿法蚀刻、灰化和/或离子注入所硬化和改性的光刻胶膜，以及由光刻胶膜下面的金属膜蚀刻出的金属副产物所改性的光刻胶膜，同时使光刻胶膜下面的金属布线的腐蚀最小化。