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公开(公告)号：CN107850843A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680045018.0
申请日：2016-07-25
Applicant: 默克专利有限公司
CPC classification number: G03F7/022 , G03F7/0048
Abstract: 一种使用光致抗蚀剂组合物制造具有改进的非润湿性质的堤岸结构以在基底上形成阱区的光刻方法，所述光致抗蚀剂组合物包含甲酚酚醛清漆树脂、具有至少一个游离羟基基团的多羟基二苯甲酮化合物的光敏重氮萘醌磺酸酯，和非离子氨基甲酸酯聚二醇含氟表面活性剂。可使用喷墨法将有源材料沉积到所述阱区中。可以通过这种方法制造滤色器阵列和光电子器件如OLED器件。
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公开(公告)号：CN107208304A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009420.3
申请日：2016-02-01
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
IPC: C25F3/06 , C21D8/12 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01F1/16 , C22C38/00 , C22C38/06
CPC classification number: G03F7/039 , C21D6/005 , C21D6/008 , C21D8/005 , C21D8/12 , C21D8/1266 , C21D8/1272 , C21D8/1277 , C21D8/1294 , C21D9/46 , C21D2201/05 , C22C38/00 , C22C38/001 , C22C38/004 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C25F3/06 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01F1/16
Abstract: 本发明提供能够兼顾良好的铁损和高生产率的取向性电磁钢板的制造方法。在用于磁畴细化的槽形成中，涂布含有感光性树脂的抗蚀剂，进行曝光和显影，由此形成线状的钢基露出部，在接着进行的电解蚀刻中，将接通于电极的电流设为I、将面积与电极的面积相同的钢板表面中的钢基露出部的面积设为S时，使对于钢基露出部的电流密度ρ＝I/S为7.5A/cm2以上。
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公开(公告)号：CN103057294B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201110325920.7
申请日：2011-10-24
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: B41N1/22
Abstract: 本发明属于印刷版材领域，具体涉及环保型无水胶印版。所述的环保型无水胶印版材是在不经过电解砂目化和/或阳极氧化处理，但经过除油液浸泡的金属板基的表面涂布有底涂层，在底涂层的表面涂布有重氮萘醌类感光胶层，在重氮萘醌类感光胶层的表面涂布有斥墨层；在斥墨层的表面进一步覆盖有聚合物保护薄膜。在使用本发明的环保型无水胶印版时，如果有聚合物保护薄膜，使用时要先揭掉聚合物保护薄膜，经曝光、显影、定影等制版过程，带有图文的版材可以直接上机印刷。本发明的环保型无水胶印版的印刷适性好，耐印力达1～3万印。
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公开(公告)号：CN102169995B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201110070855.8
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/66 , H01M4/04 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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公开(公告)号：CN103728833A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201310432700.3
申请日：2013-09-22
Applicant: 奇美实业股份有限公司
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0005 , G03F7/0045 , G03F7/022 , G03F7/0755
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种感光性树脂组成物，包含：碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)，及溶剂(D)。其中，该含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)是硅烷材料的水解缩合产物，该硅烷材料包括具有式(I)结构的含硫醇基的硅烷：RaSi(ORb)3 (I)式(I)中，Ra表示含硫醇基且不具有芳香环的C1至C8的有机基团，或含硫醇基且具有芳香环的有机基团；Rb表示氢、C1至C6的烷基、C1至C6的酰基，或C6至C15的芳香基，多个Rb各自为相同或不同。本发明还提供由上述感光性树脂组成物形成的保护膜，及具有该保护膜的元件。
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公开(公告)号：CN103649220A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280034811.2
申请日：2012-07-16
Applicant: 住友电木株式会社 , 普罗米鲁斯有限责任公司
IPC: C08L65/00
CPC classification number: G03F7/0233 , C08F32/08 , C08F222/06 , C08F232/08 , C09D135/00 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0384
Abstract: 本发明公开了可用于形成可自成像薄膜的共聚物和包括这种共聚物的组合物。这些共聚物包括降冰片烯-型重复单元和马来酸酐-型重复单元，其中这种和马来酸酐-型重复单元中的至少一些被开环。由这些共聚物组合物形成的薄膜提供可自成像的低-k、热稳定层以供在微电子和光电器件中使用。
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公开(公告)号：CN103069341A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180040082.7
申请日：2011-08-19
Applicant: AZ电子材料IP(日本)株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/022 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/022
Abstract: 一种正型感光性硅氧烷组合物，其含有聚硅氧烷(Ia)、聚硅氧烷(Ib)、重氮基萘醌衍生物以及溶剂，该聚硅氧烷(Ia)通过将由通式(1)：RSi(OR1)3表示的硅烷化合物和由通式(2)：Si(OR1)4表示的硅烷化合物在碱性催化剂的存在下水解、缩合而获得，其预烘烤后的膜在5重量%TMAH水溶液中的溶解度为/秒以下，该聚硅氧烷(Ib)通过将至少前述通式(1)所示的硅烷化合物在酸性或者碱性催化剂的存在下水解、缩合而获得，其预烘烤后的膜在2.38重量%TMAH水溶液中的溶解度为/秒以上。(式中，R表示任意的亚甲基可被氧取代的碳原子数1～20的直链状、支链状或者环状烷基，或者碳原子数6～20且任意的氢可被氟取代的芳基，R1表示碳原子数1～5的烷基。)
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公开(公告)号：CN102169994B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201110070833.1
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/66 , H01M4/04 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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公开(公告)号：CN101218541B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200680025340.3
申请日：2006-07-07
Applicant: AZ电子材料美国公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/105 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/127
Abstract: 本发明提供可用于使厚膜成像的光敏光致抗蚀剂组合物，它包括在含水碱性显影剂中不溶但在显影之前变得可溶的聚合物，一旦辐照则产生强酸的光致产酸剂和可光漂白的染料。本发明进一步提供使本发明的光致抗蚀剂成像的方法，特别是其中光致抗蚀剂的厚度最多200微米的情况和其中该方法包括单步曝光的情况。
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公开(公告)号：CN102163722A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110070861.3
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/66 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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