液体折射率测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107064065A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201710228657.7

    申请日:2017-04-10

    Applicant: 清华大学

    CPC classification number: G01N21/45

    Abstract: 本发明涉及一种液体折射率测量装置及测量方法。一种液体折射率测量装置,包括:激光回馈干涉仪,用于输出激光并接收回馈激光;比色皿,设置于从激光回馈干涉仪输出的激光的光路上,用于盛放待测液体,所述激光穿过所述比色皿;反射镜,设置于从比色皿输出的激光的光路上,用于将接收到的激光反射回激光回馈干涉仪,形成回馈激光。采用本发明提供的液体折射率测量装置测量液体的折射率,灵敏度高并且具有较高的折射率测量精度。

    一种可产生柴烧气氛的烧瓷电窑

    公开(公告)号:CN105910437A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610389776.6

    申请日:2016-06-03

    Applicant: 清华大学

    Inventor: 张松 张辉 杨锐

    Abstract: 本发明涉及一种可产生柴烧气氛的烧瓷电窑,属于陶瓷制备设备技术领域。窑体主要包括上下两层窑室并通过带孔隔板连接,在烧制过程中上窑室用电加热,控制烧成温度,同时在下窑室用木柴燃烧产生柴烧的不同气氛,从而实现将温度控制和气氛控制相分离,使得用柴量大大减小。同时还可以在烧成中通过喷嘴加入不同物质,进而产生多变的烧成气氛。通过将温度和气氛控制相分离,将现代工业窑炉中的控制制度引入到传统陶瓷的烧制过程中,从而实现对陶瓷烧制过程的精确控制。同时将艺术家引入到窑炉的控制系统内,形成开环控制,使得艺术家可根据自己的经验以及灵感来对窑炉的控制方案进行微调。

    一种基于微片激光器回馈干涉仪的位移数据处理方法

    公开(公告)号:CN102506715B

    公开(公告)日:2013-12-11

    申请号:CN201110309474.0

    申请日:2011-10-13

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于微片激光器回馈干涉仪的位移数据处理方法,包括如下步骤:包括有微片激光器回馈干涉仪和外差信号处理系统;将从微片激光器回馈干涉仪得到的光信号输入到滤波器、放大器对信号进行滤波放大处理得到频率单一的光信号;将产生作为稳定的标准信号参与外差相位测量的电信号依次输入到滤波器、放大器对电信号进行滤波放大处理得到频率单一、大幅值的电信号;将产生的信号分别输入到所述单端信号适配器中,单端信号适配器将正弦信号转换为方波信号同时将方波信号输入到相位计中,利用相位计计算外腔相位变化量;将相位计解调出的外腔相位变化量通过计算机计算得到被测物体的位移变化量。

    激光回馈干涉仪
    74.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103292687A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310166349.8

    申请日:2013-05-08

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种激光回馈干涉仪,其包括:一微片激光器,一分光镜,一第一移频器,一第二移频器,一汇聚透镜,至少两个光电探测器,一电信号处理系统,以及一数据采集处理系统。其中,所述微片激光器可以同时输出至少两束单纵模且为基横模的平行光束,该至少两束平行光束可以作为测量光,并用于测量一待测目标的多个自由度信息。

    一种用于定位的发光装置及定位方法

    公开(公告)号:CN101446866B

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN200810241412.9

    申请日:2008-12-19

    Abstract: 本发明提供一种用于定位的发光装置及定位方法。用于定位的发光装置,包括:发光模块(300),用于发出被光位置获取装置(800)获取并判断其相应位置的光;控制电路模块(200),为一处理单元,用于接收相应的数据进行处理并控制所述发光模块(300)工作;接触信号采集模块(100),用于把所受到的力转化为相应的电信号并传送到所述控制电路模块(200);通讯模块(400),用于所述控制电路模块(200)与外部设备的信息交换。与现有技术相比本发明的优点在于,能够以较低的成本实现了对显示屏交互式的输入,而且能够获得较为统一精确的接触的力的信息。

    数据安全保管设备和数据安全保管方法

    公开(公告)号:CN101403993A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200810142668.4

    申请日:2008-07-28

    Abstract: 本发明公开了一种数据安全保管设备,包括终端连接装置,提供与外部处理终端连接的接口;数据存储装置,供用户访问以进行数据的读写;读写控制装置,对数据存储装置的读写进行控制;设备屏蔽装置,屏蔽与终端连接装置相连的外部处理终端内的存储设备;和系统管理装置,提供操作系统、驱动程序和应用程序,操作系统在外部处理终端与终端连接装置连接后引导和运行。本发明还公开了一种数据安全保管方法。数据安全保管设备操作时使用自带的操作系统,并屏蔽外部处理终端原有存储设备,避免了与外部发生数据交互,达到数据高保密性要求。还可搭载各种身份识别算法及数据自毁机制,通过加载如指纹、虹膜识别等算法,进一步加强了数据的安全性保护。

    一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备

    公开(公告)号:CN115094402B

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN202210726752.0

    申请日:2022-06-24

    Abstract: 本申请涉及化学气相沉积领域,具体而言,涉及一种立式双温区‑双通道化学气相沉积设备,包括:沉积炉,沉积炉内包括介质容置区,介质容置区将沉积炉的内部腔室划分为上加热区和下加热区;介质容置区用于容置多孔介质,多孔介质用于沉积制备复合材料;第一加热体,用于对上加热区进行加热,以对多孔介质面向上加热区的一端进行加热;第二加热体,用于对下加热区进行加热,以对多孔介质面向下加热区的一端进行加热;其中,在沉积阶段时,第一加热体的功率不同于第二加热体的功率,以使多孔介质的上下两端的温度不同形成温差,从而本申请提供的化学气相沉积设备可以对多孔介质上下两端分别进行致密化,从而实现整个多孔介质的均匀致密。

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