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公开(公告)号:CN1293229C
公开(公告)日:2007-01-03
申请号:CN01822255.2
申请日:2001-11-20
申请人: 卡伯特公司
发明人: 罗伯特·B·福德 , 克里斯托弗·A·迈卡卢克
IPC分类号: C23C14/34
CPC分类号: H01J37/342 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , H01J37/3491
摘要: 公开了一种溅射靶和制备溅射靶的方法。该方法包括如下步骤:提供一种由电子管金属制成的溅射金属工件;横向冷轧溅射金属工件以获得轧制工件;并冷加工该轧制工件以获得成型工件。该溅射靶显示出基本上一致的颗粒结构和/或至少在侧面上具有晶体结构。
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公开(公告)号:CN205944032U
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201620459587.7
申请日:2016-05-19
申请人: 冯·阿登纳有限公司
CPC分类号: H01J37/3435 , C23C14/3407 , F16C19/24 , H01J25/50 , H01J37/3405 , H01J37/3411 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3444
摘要: 本实用新型涉及一种端块组件、一种轴承组件和一种加工组件。在各个实施例中,提供了一种用于将管形电极可旋转地安装到加工室中的端块组件。端块组件包括:接纳区,用于接纳轴承组件,所述轴承组件具有用于将管形电极联接至所述轴承组件的联接区;轴承组件的所述联接区由所述轴承组件的衬套支撑。衬套插入配合到接纳区中。衬套由多个区段接合在一起,该多个区段的外表面形成轴承组件的表层表面且该多个区段中的至少两个区段利用不同的材料形成。所述两个区段的外表面相互对齐以便它们彼此齐平。
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公开(公告)号:CN206858649U
公开(公告)日:2018-01-09
申请号:CN201490001521.2
申请日:2014-07-22
申请人: 应用材料公司
发明人: F·施纳朋伯格
CPC分类号: H01J37/3423 , C23C14/3407 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3435 , H01J37/347 , H01J37/3491
摘要: 本实用新型公开了一种靶材布置和处理设备。描述了一种用于处理设备(105;107)的靶材布置(100;101;102;103;104;106)。所述靶材布置包括靶材支座(110),所述靶材支座配置成用于支撑非平面靶材材料(120),其中靶材支座(110)包括真空侧(130)和大气侧(140)。此外,描述了一种适用于靶材布置的处理设备。
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