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    真空旋转装置
    3.
    发明公开
    真空旋转装置 失效

    公开(公告)号：CN104379798A

    公开(公告)日：2015-02-25

    申请号：CN201380014154.X

    申请日：2013-01-14

    申请人： 基恩科有限公司

    发明人： 乔纳森·普赖斯

    IPC分类号： C23C14/34 ,  H01J37/34 ,  H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/3405 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435

    摘要： 本发明涉及在筒状磁控溅射源上的真空中旋转装置，在筒状磁控溅射源中，该设备的靶结构的靶和靶元件可以在不需要真空到大气或真空到冷却剂的动态密封的情况下旋转。本发明涉及在真空等离子技术中这种装置的使用，其中等离子放电，或能量的任意适当来源，例如电弧、激光，可以施加到靶或者靶附近，将会在不同性质的部件上生成相应涂层沉积或等离子处理。本发明还涉及但不限于在溅射、磁控溅射、电弧、等离子体聚合、激光烧蚀和等离子蚀刻中这种装置的使用。本发明还涉及在带有或不带有反馈等离子处理控制的非反应性处理和反应性处理的情况下这种装置的使用和控制。本发明还涉及作为单一的或多个单元的这些装置的排列。本发明还涉及在该装置中可以使用的靶结构。本发明还涉及在不同的电源模式例如直流、直流脉冲、射频、交流、双交流、高功率脉冲磁控溅射，或其他任意电源模式下使用该装置，以产生等离子体，例如溅射等离子、等离子弧、电子束蒸发、离子聚合等离子、等离子处理、或出于该目的的处理所生成的其他任何等离子，所述处理例如但不限于沉积处理或表面处理工艺等。

    圆筒形溅射靶及其制造方法
    4.
    发明公开
    圆筒形溅射靶及其制造方法 有权

    公开(公告)号：CN104246003A

    公开(公告)日：2014-12-24

    申请号：CN201380019524.9

    申请日：2013-07-11

    申请人： 三菱综合材料株式会社

    发明人： 除補正则

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： C23C14/3407 ,  H01J37/3414 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435

    摘要： 容易且可靠地接合圆筒形靶材和衬管，防止圆筒形溅射靶的破损并提高使用效率。通过空塞子(60)封闭衬管(40)的一端部而作为密封端部(42)，使熔融状态的接合材料(30)存留于可插入设置在接合材料填充夹具(70)上的衬管的横截面大致呈圆形的凹状的接合材料保持部(72)，将密封端部(42)朝下方的衬管(40)隔开间隙(g)而插入到载置于接合材料填充夹具(72)上的靶材(20)的内部，并通过该靶材(20)而插入到接合材料保持部(72)，从而，将熔融状态的接合材料(30)从接合材料保持部(72)压出，填充到靶材(20)的内周面与衬管(40)的外周面之间的间隙(g)之后使其固化，并从接合材料填充夹具(70)卸下，除去空塞子(60)。

    用于形成圆筒状标靶组件的方法及装置
    6.
    发明公开
    用于形成圆筒状标靶组件的方法及装置 有权 复审申请

    公开(公告)号：CN103403217A

    公开(公告)日：2013-11-20

    申请号：CN201280010772.2

    申请日：2012-02-16

    申请人： 应用材料公司

    发明人： A·霍斯卡瓦

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： C23C14/3407 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435

    摘要： 本发明的实施例大体包含用于制备圆筒状溅射标靶管且将圆筒状溅射标靶管接合至背衬管以形成旋转标靶组件的方法及装置。在一个实施例中，圆筒状标靶组件包括接合材料，该接合材料具有圆筒状表面且与背衬管大致上同心。在一个实施例中，用于形成圆筒状标靶组件的方法包括用间隔物填充界定于溅射标靶管之间的缝隙。该方法还包括在将所述溅射标靶管接合至背衬管后移除该间隔物。在一个实施例中，用于制造圆筒状标靶组件的装置包含支撑管、两个端配件及可操作以将所述支撑管夹持于所述两个端配件之间的多个夹持元件。

    具有高硬度的可旋转溅射磁控管
    7.
    发明公开
    具有高硬度的可旋转溅射磁控管 有权

    公开(公告)号：CN102027565A

    公开(公告)日：2011-04-20

    申请号：CN200980117737.9

    申请日：2009-05-06

    申请人： 贝卡尔特先进涂层公司

    发明人： P·戈德里斯 ,  I·范德普特

    IPC分类号： H01J37/34

    CPC分类号： H01J37/3405 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3497

    摘要： 本发明介绍了可插入可旋转目标中的溅射磁控管(300)。磁控管设计成单件的多壁管(102、203)，具有在管的长度上延伸的隔腔(316、316′、318、318′)。多壁管与现有技术磁控管相比产生了硬得多的磁控管载体结构。因此，磁场产生器可以安装在隔腔内部，且在磁体和目标表面之间的距离可容易地调节，因为管比产生器硬得多。另外，冷却剂槽道可以包含在管内部，并靠近管的外壁，这样，可以邻近磁场产生器供应冷却剂。磁控管增大的硬度使得目标管至少在该目标的使用寿命的一部分中能够由磁控管承载，而不是周围其它方式。因此，可以使用薄的目标载体管，因为它们不必承载磁控管，从而导致使用该目标时间更长。