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公开(公告)号：CN113711101A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080029511.X
申请日：2020-04-17
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 介绍了一种荧光扫描显微镜，其包括：激发光源，该激发光源被设计用于产生激发光分布，该激发光分布激发存在于样本中的荧光团，以便自发地发射荧光光子；去激发光源，该去激发光源被设计用于产生去激发光分布，该去激发光分布通过荧光光子的受激发射来使得由所述激发光分布在所述样本中激发的荧光团去激发；照明单元，该照明单元被设计用于将所述激发光分布和所述去激发光分布合并成沿着所述样本的多个照明目标点扫描的光分布，使得所述激发光分布的强度最大值和所述去激发光分布的强度最小值在相应的照明目标点中在空间上相互叠加；探测器，该探测器被设计用于检测从所述相应的照明目标点发射的荧光光子(根据这些荧光光子的到达时间)；和处理器。该处理器被设计用于，评估在所述相应的照明目标点中检测到的荧光光子的到达时间；基于所述评估生成代表相应照明目标点的第一图像点和第二图像点；把所述第一图像点合并成第一样本图像，并且把所述第二图像点合并成第二样本图像；并且，借助两个样本图像来确定在所述激发光分布的强度最大值和所述去激发光分布的强度最小值之间的空间偏移。
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公开(公告)号：CN113677979A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080028218.1
申请日：2020-03-25
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种光片显微镜，其包括：样本空间，在该样本空间中可布置盖玻片或载玻片，该盖玻片或载玻片具有限定部分反射界面的表面；光学系统，该光学系统带有面向所述盖玻片或载玻片的物镜；被设计用于产生光片的照明机构；传感器；和处理器。所述光片显微镜形成用于检测测量变量的测量装置。该测量装置被设计用于，将所述光片穿过所述光学系统倾斜入射地转向到所述盖玻片或载玻片上，通过部分地在所述界面处反射所述光片来产生反射光束，接收穿过所述光学系统的反射光束并转向到所述传感器上。所述传感器被设计用于检测所述反射光束的强度和/或入射位置。所述处理器被设计用于基于所述反射光束的所检测的强度和/或入射位置来确定测量变量。
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公开(公告)号：CN113640979A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202110441529.7
申请日：2021-04-23
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Inventor： 弗洛里安·蒂姆斯菲尔德 , 奥利弗·基尔 , 沃尔克·沙赫特
Abstract: 本发明涉及一种显微镜以及相应的方法，显微镜包括用于控制样本的成像的控制系统，控制系统与用于照明样本的照明系统和用于递送样本的显微图像的成像系统连接，并被配置为检测显微镜设置和/或样本的位置中的导致样本图像的变化的图像影响变化，并使成像系统在第一成像模式下递送样本的实时图像的实时图像流，或者在第二成像模式下递送样本的一个或多个静止图像的静止图像流，并且在没有检测到图像影响变化时，从第一成像模式切换到第二成像模式，使用第一成像模式的最后实时图像中的一个用于第二成像模式中的静止图像流的至少一部分，并在第二成像模式期间降低照明系统的照明强度。本发明减少染料和样本的退色并在荧光显微镜中保护用户的眼睛。
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公开(公告)号：CN112925089A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011399322.X
申请日：2020-12-04
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Inventor： 弗罗里安·法尔巴赫
Abstract: 提供了一种光片荧光显微镜，包括：光源设备，被配置为发射适于诱发从样品发射的荧光的激发光；检测器设备，被配置为检测来自所述样品的荧光；以及光学系统，被配置为用由所述激发光形成的光片照明所述样品并将所述荧光从被照明的所述样品引导到所述检测器设备，其中所述光学系统包括面向所述样品的物镜，所述物镜被配置为收集从所述样品发射的所述荧光，其中所述光源设备还被配置为发射适于对所述样品进行光操纵的操纵光，并且其中所述光学系统还被配置为沿着不同于所述光片的光传播方向的光传播方向将所述操纵光通过所述物镜的入射光瞳的空间受限子区域导引到所述样品上。
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公开(公告)号：CN112868027A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201980068891.5
申请日：2019-09-25
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G06K9/00
Abstract: 本发明涉及用于优化至少一个显微镜或显微镜系统(210；330、350；500；1050；1212、1214、1216)的工作流程的一种方法(1300)和一种装置(100)。现有技术的解决方案具有如下缺点：工作流程只能以大的代价予以优化。根据本发明的方法(1300)和根据本发明的装置(100)通过以下步骤改进了现有技术的解决方案：a)由至少一个显微镜和/或显微镜系统(210；330、350；500；1050；1212、1214、1216)的一个或多个组件(260、270)执行(1310)工作流程，其中，所述工作流程包括检测第一数据(510、520)；b)至少部分地基于所检测的第一数据(510、520)确定(1320)用于所述工作流程的训练模型(420、430、440；530；1220)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112867918A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201980068865.2
申请日：2019-10-11
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G01N21/41
Abstract: 介绍一种用于确定显微镜(10、78)中的光学介质的折射率的方法，该显微镜具有面向样本空间(14)的物镜(12)，其中，具有待确定的折射率的所述光学介质是两种光学介质(26、28)之一，这些光学介质在所述样本空间(14)中与盖玻片或载玻片(16)的两个相反的表面(64、68)邻接，由此形成两个部分反射的界面，这些界面相距所述物镜(12)以不同的间距布置。在该方法中，使得测量光束(34)透过所述物镜(12)在倾斜地入射情况下转向至所述盖玻片或载玻片(16)，产生两个在空间上彼此分开的反射光束(54a、54b)，其方式为，使得所述测量光束(34)分别部分地在两个所述界面上反射，使得两个所述反射光束(54a、54b)被所述物镜(12)接收，并且转向至对位置灵敏的探测器(60)，借助所述对位置灵敏的探测器(36)来检测两个所述反射光束(54a、54b)的强度，基于两个所述反射光束(54a、54b)的所检测的强度来计算所述光学介质的折射率。
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公开(公告)号：CN112540453A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN202010995123.9
申请日：2020-09-21
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Inventor： 弗罗里安·法尔巴赫
Abstract: 本发明涉及一种光片显微镜(101)，包括具有至少一个第一光学元件(105)、至少一个第二光学元件(113)和反射镜组件(114)的光学系统(104)。光学系统(104)被配置为沿着第一照明光路(108)通过至少一个第一光学元件(105)将照明光(107)传送到第一样本体积(109)中，并且被配置为沿着第一观察光路(111)将观察光(110)从第一样本体积(109)传送到检测器设备(112)，以及其中，在第二操作状态(115)中，光学系统(104)被配置为沿着第二照明光路(108a)经由反射镜组件(114)通过至少一个第二光学元件(113)将照明光(107)传送到第二样本体积(109a)中，以及被配置为沿着第二观察光路(111a)将观察光(110)从第二样本体积(109a)传送到检测器设备(112)。
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公开(公告)号：CN111795734A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010251425.5
申请日：2020-04-01
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 介绍一种与物镜一起使用的用于浸渍介质的输入装置，利用该物镜可对标本予以显微地成像，该输入装置包括：可松开地或者固定地安置在所述物镜上的盖罩，该盖罩限定了用于所述浸渍介质的容纳空间，其中，所述盖罩具有输出开口，该输出开口朝向所述物镜的面向标本的光学器件，保持在所述容纳空间中的浸渍介质经由该输出开口可输入给位于所述物镜的光学器件与所述标本之间的目标空间；和集成在所述盖罩中的带有电极结构的传感器，该电极结构用于检测输入的浸渍介质量。所述电极结构至少部分地环绕所述输出开口，并且具有在径向方向上离开所述输出开口伸展的立体检测区域。
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公开(公告)号：CN111670398A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201980011167.9
申请日：2019-01-29
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G02B21/00
Abstract: 介绍一种用于借助光片显微镜(10)对样本成像的方法。其中，利用两个光片(58、60)从两个不同的照明方向对所述样本照明，这些光片具有不同的偏振状态，并且在所述样本的目标区域(E)中彼此共面地重叠。借助所述光片显微镜(10)的成像光学机构(14)产生被照明的所述目标区域(E)的图像。利用两个所述光片(58、60)在被照明的所述目标区域(E)中产生干涉图案(I)，由此对所述目标区域(E)的图像施加与所述干涉图案(I)相应的图像调制。分析所述图像调制。根据所分析的所述图像调制，相对于所述成像光学机构(14)的清晰区域(F)来调节被照明的所述目标区域(E)。
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