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公开(公告)号:CN102149836B
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN200980135768.7
申请日:2009-07-14
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/851 , B22F2998/10 , C22C1/0433 , C22C19/07 , C22C30/00 , C22C33/0285 , C22C45/02 , C22C45/04 , C22C2202/02 , C23C14/3414 , G11B5/656 , B22F9/082 , B22F3/14
Abstract: 本发明提供一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,所述合金具有优异的饱和磁通密度、非结晶性和耐腐蚀性,并且提供一种整体上具有这种优异的合金组成但是具有高的PTF值的溅射靶材,该溅射靶材可以有效地用于磁控溅射。这种合金包含以原子%计的下列各项:Fe:10至45%;Ni:1至25%;Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种:Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10%,其中B为0至7%的量;以及Al和Cr中的一种或多种:Al+Cr之和为0至5%;以及作为余量的Co和不可避免的杂质:37%以上,并且所述合金以原子比计满足下列各项:Fe/(Co+Fe+Ni):0.10至0.50;以及Ni/(Co+Fe+Ni):0.01至0.25。
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公开(公告)号:CN102016110B
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN200980114784.8
申请日:2009-04-30
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/667 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C22C19/058 , C23C14/3414 , G11B5/8404 , G11B5/851
Abstract: 本发明公开一种用于制备垂直磁记录介质的中间层膜的溅射靶材料,其能够显著减小通过溅射形成的薄膜的晶粒尺寸。所述溅射靶材料以原子%计包含1至20%的W;总计0.1至10%的P、Zr、Si和B组成的组一种或多种选自由P、Zr、Si和B组成的组中的元素;和余量的Ni。
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公开(公告)号:CN103221999A
公开(公告)日:2013-07-24
申请号:CN201180055776.8
申请日:2011-11-17
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/732 , C22C19/00 , C22C19/03 , C22C19/05 , C22C19/07 , C22C38/002 , C22C38/008 , C22C38/02 , C22C38/06 , C22C38/08 , C22C38/105 , C22C38/12 , C22C38/14 , C23C14/185 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F41/183
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质的籽晶层用合金,所述合金可使软磁性基底膜(SUL)之上的Ni系中间层具有磁性、且可提高透磁率。这种合金含有:选自W、Mo、Ta、Cr、V及Nb中的一种或两种以上的M1元素,选自Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C及Ru中的一种或两种以上的M2元素,作为剩余部分的Ni、Fe及Co中的至少两种,其中,所述M1元素为合金的2~20at%,所述M2元素为合金的0~10at%。Ni、Fe及Co的量,以相对于Ni+Fe+Co的总量的at%计,为(i)Ni∶Fe∶Co=98~20∶0~50∶0~60及Fe+Co≥1.5的比例,或者(ii)Ni∶Fe∶Co=98~20∶2~50∶0~60的比例。
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公开(公告)号:CN103098135A
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN201180040330.8
申请日:2011-08-19
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/656 , C22C19/07 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , G11B5/667 , G11B5/851
Abstract: 本发明提供具有低矫顽磁力、高无定形性、高耐腐蚀性及高硬度的垂直磁记录介质用软磁性合金、以及用于制作该合金的薄膜的溅射靶。该合金以at.%计含有Zr及Hf的1种或2种合计为6~20%、含有B1~20%、含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上合计0~7%,剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质。该合金还满足6≤2×(Zr%+Hf%)-B%≤16、以及0≤Fe%/(Fe%+Co%)<020。
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公开(公告)号:CN102804266A
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN201080032150.0
申请日:2010-06-07
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/667 , C22C19/07 , C22C38/002 , C22C38/06 , C22C38/10 , C22C38/105 , C22C38/12 , C22C38/14 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F10/131 , H01F10/132
Abstract: 本发明公开了一种提供一种具有优异的饱和磁通密度、非晶形性、耐腐蚀性和硬度的用于垂直磁记录介质的软磁性Co-Fe-Ni合金。所述Co-Fe-Ni合金包含以原子%计的以下各项:70至92%的Co+Fe+Ni(包括0%的Ni),1至8%的Ta;和多于7%但是20%以下的B。Co-Fe-Ni合金的组成(以原子%表达)满足如下各项的比率:0.1至0.9的Co/(Co+Fe+Ni);0.1至0.65的Fe/(Co+Fe+Ni);0至0.35的Ni/(Co+Fe+Ni);以及1至8的的B/Ta。
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公开(公告)号:CN102405303A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201080017054.9
申请日:2010-02-22
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/7325 , C22C1/0433 , C22C19/056 , C22C19/057 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F41/18
Abstract: 本发明提供一种用于制备垂直磁记录介质的中间层膜的溅射靶材料、其方法及用其制备的薄膜,其中,向Ni-W-系合金添加Cr使得能够在使中间层中的晶粒在保持结晶性的同时显著微细化。本发明的溅射靶材料由Ni-W-Cr合金制成,所述Ni-W-Cr合金包含以原子%计的下列各项:1至20%的W;1至20%的Cr;和余量的Ni。
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