一种薄膜制备方法和设备
    82.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113832439B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202110976165.2

    申请日:2021-08-24

    Abstract: 本申请提供了一种薄膜制备方法和设备,包括:提供基底和靶材,基底正对靶材设置,在基底和靶材之间设置空腔,在靶材正对基底的一侧建立正交的电场和磁场;向靶材正对基底的一侧通入氩气,以在电场作用下将氩气电离成氩离子和电子;氩离子在磁场作用下轰击靶材,以使靶材发生溅射产生溅射粒子;向空腔内通入第一气体,以使溅射粒子与第一气体碰撞后沉积在基底上。由于溅射粒子经与第一气体碰撞后,溅射粒子的能量被降低,继而降低了其对基底的轰击效应,减少了对基底已有膜层的损伤。

    一种新型二维材料太阳能电池及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116209283A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310313128.2

    申请日:2023-03-28

    Abstract: 本发明属于太阳能电池技术领域,提供了一种新型二维材料太阳能电池,包括:透明基底;设置在所述透明基底表面的透明电极;设置在所述透明电极表面的空穴传输层;设置在所述空穴传输层表面的ReS2薄膜;设置在所述ReS2薄膜表面的电子传输层;设置在所述电子传输层表面的顶电极。本发明中厚层(超过5层)ReS2的光学带隙大约为1.5eV,接近太阳能电池理论极限效率的最佳带隙(大约为1.4eV),且其性质较为稳定,相比于目前薄膜电池领域佼佼者钙钛矿而言,其室温下结构非常稳定,不容易在水氧下发生化学反应。因此从带隙匹配、直接带隙带来的较大的吸收系数和稳定性角度看,ReS2是新型高效太阳能电池的有力竞争者。

    一种涂布辊刮涂系统
    89.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115846124A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211666138.6

    申请日:2022-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种涂布辊刮涂系统,包括:工作台,用于支撑待制膜基板;涂布辊,可转动的设置于所述工作台,涂布辊为椭圆形涂布辊,且在涂布辊的长轴与待制膜基板垂直时,涂布辊与待制膜基板的间距为第一间距d1,在所述涂布辊的短轴与待制膜基板垂直时,所述涂布辊与所述待制膜基板的间距为第二间距。本发明提供的涂布辊刮涂系统,可令涂布辊的长轴与待制膜基板垂直作为初始位置,此时涂布辊与待制膜基板的距离最小,随着涂布辊向前涂布,驱动涂布辊转动,其与待制膜基板的距离逐渐增大,使得待制膜基板前端的膜厚较薄,以在溶液量不足时,不会因为待制膜基板前端的用量过大,而导致待制膜基板后端的膜厚明显变薄的情况,保持膜厚的均匀性。

Patent Agency Ranking