移相干涉二次共焦软针孔探测装置与方法

    公开(公告)号:CN101520304A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200910071662.7

    申请日:2009-03-30

    Abstract: 移相干涉二次共焦软针孔探测装置与方法属于超精密三维微细结构表面形貌测量领域;由显微物镜和CCD相机组成软针孔探测装置,通过移走测量表面,移动显微物镜和CCD相机确定收集物镜准焦面位置,定位CCD像面上爱里斑中心点位置,截取并锁定CCD像面上相应于不同显微放大倍数的固定像素区域作为软针孔,调整显微物镜和CCD相机使其对收集物镜会聚准焦面处横向光斑成清晰放大像,再加入被测表面,按照四步时间移相干涉二次共焦测量步骤完成具体微位移测量;本发明可提供灵活的等效针孔样式,有效降低实际共焦针孔的装调误差,提高移相干涉二次共焦点探测精度。

    复色超分辨差动共焦测量方法与装置

    公开(公告)号:CN100523716C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200710301423.7

    申请日:2007-12-27

    Inventor: 谭久彬 刘俭

    Abstract: 本发明公开了一种复色超分辨差动共焦测量装置,包括第一超分辨差动共焦测量装置,第二超分辨差动共焦测量装置,二向色镜,部分色差校正物镜,以及,计算机装置。本装置可以通过利用不同波长光束聚焦产生理想聚焦面平移的色散特性,形成两个部分重叠的线性测量区域,获得了两个具有双极性跟踪特性的线性测量区,不但量程范围扩展近一倍,而且实现测量区交替跟踪测量;通过多超分辨滤波器的独立调制,可以根据应用需要,分别在两个线性测量区内获得一致或不一致的横向、轴向扫描特性,在保留差动及超分辨差动共焦测量技术优点的情况下,使测量装置线性范围得到显著扩展。

    双位相复合超分辨光瞳滤波方法与装置

    公开(公告)号:CN100504513C

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200510130464.5

    申请日:2005-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种双位相复合超分辨光瞳滤波方法,包括将直写光束分成相互正交的第一光束和第二光束;对第一光束进行位相调制;对第二光束进行位相调制;位相调制通过第一、第二位相调制板实现,所述第一、第二位相调制板的结构由其归一化位相分布函数确定;使所述第一光束和第二光束通过聚焦物镜会聚;使所述第一光束和第二光束聚焦于同一焦平面上的步骤;本发明的有益效果在于,不需要制作透过率调制板就可以实现透过率调制,避免了光束遮挡、光束整形、透过率渐变掩模板调制过程中生成杂散光的问题。本发明的还提供一种实现上述双位相复合超分辨光瞳滤波方法的装置。

    超分辨复色差动共焦测量装置及方法

    公开(公告)号:CN101358835A

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200810147049.4

    申请日:2008-08-13

    Inventor: 刘俭 谭久彬

    Abstract: 本发明公开了一种超分辨复色差动共焦测量方法,其包括:提供第一差动共焦测量装置,提供一平行平板修正色差超分辨测头,提供一计算机装置,以及,精确修正超分辨滤波器平板基底厚度,实现两光束聚焦平面位置调节,从而保证两焦平面的位置差恰好等于第一差动共焦测量装置的线性测量区一半与第二差动共焦测量装置线性测量区一半之和。本发明还提供了一种超分辨复色差动共焦测量装置,本发明的超分辨复色差动共焦测量方法及装置的有益效果在于,在保留已公开的复色超分辨差动共焦测量技术具有两个独立的双极性跟踪线性区间,轴向响应量程大,能抑制共模干扰的技术优点前提下,提高系统横向分辨力。

    角十字扇形复振幅光瞳滤波器

    公开(公告)号:CN101324707A

    公开(公告)日:2008-12-17

    申请号:CN200810064991.4

    申请日:2008-07-25

    Inventor: 谭久彬 刘涛 刘俭

    Abstract: 角十字扇形复振幅光瞳滤波器属于衍射光学及光学成像技术领域,它是由一组具有不同振幅透过率和相位浮雕深度的扇形沿圆周方向旋转组成,且每间隔π/2的小扇形结构参数相同,由此4个结构相同的呈‘十’字的小扇形组成1个角十字扇形;在0~π/2之间,当πk/2N≤θ<π(k+1)/2N时,第k个角十字扇形的振幅透过率Ak满足0.9≤Ak≤1,位相函数沿径向满足φk=θkρ2/2+Qk,k=0,1,2,…,N-1,其中N是角十字扇形的个数,ρ是径向归一化坐标,θ是极角坐标,θk和Qk是相应常数;本发明完成对入射单色球面波的振幅和位相同时进行调制,实现具有高质量轴向平顶光强分布、任意扩展焦深的目的。

    基于移相干涉的二次共焦测量方法与装置

    公开(公告)号:CN101275822A

    公开(公告)日:2008-10-01

    申请号:CN200810097210.1

    申请日:2008-05-06

    Inventor: 谭久彬 刘俭

    Abstract: 本发明公开了一种基于移相干涉的二次共焦测量方法与装置,在该装置中,激光器发出线偏振光束,经过准直扩束镜组后成为近似理想平面波;经过偏振分光镜和四分之一波片之后成为圆偏振光束;经过分光镜分为两束光,第一束光由分光镜透射,经过反射镜反射,分光镜反射,经收集物镜会聚在由第二针孔和探测器组成的点探测器;第二束光由分光镜反射,经过探测聚焦物镜、分光镜会聚在测量表面上,经过测量表面反射,经过探测聚焦物镜、经收集物镜会聚在点探测器;第一微驱动器用于驱动反射镜改变参考光和测量光的相位差,实现移相干涉;测量点初始位置为第一种共焦状态。本发明还公开了一种基于移相干涉的二次共焦测量方法。

    基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置

    公开(公告)号:CN100399194C

    公开(公告)日:2008-07-02

    申请号:CN200610010129.6

    申请日:2006-06-07

    Abstract: 基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置。本发明属于超精密激光直接写入式微结构和微阵列光学器件制作领域。本发明的方法:首先,通过光强宏微双重调制分束的方法,使在每一环带内产生与径向位置成正比的写入光强,满足极坐标系中光调制系统宽的动态调制范围和快的调制反应速度的要求,可显著提高曝光光强的调制分辨力;其次,通过微光学阵列聚焦写入激光,在曝光基片上形成以确定方式排列的曝光点组合点阵;同时,通过依据回转工作台的回转扫描方式的曝光点组合点阵的联动控制,完成任意浮雕图形的曝光制作。本发明还提供一种基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入装置。本发明用作多点曝光的极坐标直接写入。

    具有圆环金属网栅结构的电磁屏蔽光学窗

    公开(公告)号:CN1889822A

    公开(公告)日:2007-01-03

    申请号:CN200610010066.4

    申请日:2006-05-22

    Abstract: 具有圆环金属网栅结构的电磁屏蔽光学窗,属于光学透明件电磁屏蔽领域,随着各种电子设备的广泛应用,很多应用光学窗的场合都要求光学窗在具有高透明度的同时还具有较强的宽波段电磁屏蔽能力,如飞行器的光学窗、医疗用电磁隔离室光学窗;党政机关、商业、科研等重要办公场所的窗玻璃要防止室内电脑等电子设备在工作时重要信息以电磁辐射形式向窗外传播造成泄密等。具有圆环金属网栅结构的电磁屏蔽光学窗,其特征是:由具有圆环外形的金属网栅单元,按二维正交排列方式密接排布构成网栅阵列并加载于光学窗透明基片表面。本发明的产品用于航天、医疗、公用、民用的电磁屏蔽。

    基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置

    公开(公告)号:CN1858650A

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN200610010129.6

    申请日:2006-06-07

    Abstract: 基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置。本发明属于超精密激光直接写入式微结构和微阵列光学器件制作领域。本发明的方法:首先,通过光强宏微双重调制分束的方法,使在每一环带内产生与径向位置成正比的写入光强,满足极坐标系中光调制系统宽的动态调制范围和快的调制反应速度的要求,可显著提高曝光光强的调制分辨力;其次,通过微光学阵列聚焦写入激光,在曝光基片上形成以确定方式排列的曝光点组合点阵;同时,通过依据回转工作台的回转扫描方式的曝光点组合点阵的联动控制,完成任意浮雕图形的曝光制作。本发明还提供一种基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入装置。本发明用作多点曝光的极坐标直接写入。

    基于色散双螺旋点扩散函数超构透镜显微成像方法及装置

    公开(公告)号:CN117991491B

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202311619712.7

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 基于色散双螺旋点扩散函数超构透镜显微成像方法及装置,它涉及一种显微成像方法及装置。本发明为了解决空间光调制器成像质量差、不利于集成且成本较高的问题。本发明所述基于色散双螺旋点扩散函数超构透镜显微成像系统包括白光光源、滤波片、准直透镜、偏振片、四分之一波片、会聚透镜、样品载物台、超构透镜、显微物镜、右旋圆偏振片、管镜和CMOS相机;白光光源、滤波片、准直透镜、偏振片、四分之一波片和会聚透镜由左至右依次设置在样品载物台的一侧,超构透镜、显微物镜、右旋圆偏振片、管镜和CMOS相机由左至右依次设置在样品载物台的右侧。本发明属于光学显微成像与光学操控技术领域。

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