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公开(公告)号:CN2825652Y
公开(公告)日:2006-10-11
申请号:CN200520011077.5
申请日:2005-04-04
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/46
Abstract: 一种化学气相沉积室的多区域加热台座,用于处理基板,其中该台座用于支撑该基板,并包括台座轴,用于将台座在沉积室内沿垂直方向移动,其具有平台,具有第一半部及第二半部;第一外区加热器,埋设于该平台的第一半部的周边;第一内区加热器,埋设于该平台由该第一外区加热器所围绕的范围内,且远离该第一外区加热器;第二外区加热器,埋设于该平台的第二半部的周边;及第二内区加热器,埋设于该平台由该第二外区加热器所围绕的范围内,且远离该第二外区加热器。
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公开(公告)号:CN2825651Y
公开(公告)日:2006-10-11
申请号:CN200520008475.1
申请日:2005-03-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/44 , H01L21/205
Abstract: 一种沉积室衬垫,该沉积室用于处理基板,具有底部及侧壁,且被室体盖覆盖以形成封闭空间,该侧壁上的适当位置设置有挂钩,衬垫具有呈矩形封闭外形的框体,覆盖沉积室的侧壁的内表面,该矩形框体具有四个侧边及四个角落,预定高度,以及至少1550毫米长及至少1350毫米宽的框架开口,该矩形框体上在对应侧壁的挂钩处形成数个孔洞,且矩形框体由表面经阳极电镀处理(anodized)的铝金属制成。
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公开(公告)号:CN205011826U
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:CN201520355163.1
申请日:2015-05-28
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01F7/0252 , G03F7/707 , H01F7/0226
Abstract: 本公开案涉及处理系统及用于工艺腔室中的基板载体。本文描述一种永磁掩膜夹盘。永磁掩膜夹盘包括主体,具有多个永磁体定位于所述主体内。永磁体可随后传递磁力至掩膜以在基板上方或基板上定位和固持掩膜以便进一步沉积。
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公开(公告)号:CN204792743U
公开(公告)日:2015-11-18
申请号:CN201520372501.2
申请日:2015-06-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683
Abstract: 本实用新型涉及一种处理系统和用于工艺腔室中的基板载体。该处理系统包含电磁掩膜夹盘。电磁掩膜夹盘包括主体,具有多个电磁体形成于所述主体内。电磁体可随后传递磁力至掩膜以在基板上方或基板上定位和固持掩膜以便进一步沉积。使用电源控制电磁体,以将受控磁场传递至掩膜。
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公开(公告)号:CN302815598S
公开(公告)日:2014-05-07
申请号:CN201330304531.6
申请日:2013-07-03
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:带有加热器的基座。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于支承一电子设备构成用腔室内的基片。3.本外观设计产品的设计要点:在于带有加热器的基座的形状造型。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图1。5.省略视图:右视图与左视图呈中心对称,省略右视图。俯视图与仰视图呈中心对称,省略俯视图。
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公开(公告)号:CN303288190S
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:CN201430490201.5
申请日:2014-12-01
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:带有加热器的基座。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于支承一电子设备构成用腔室内的基片。3.本外观设计产品的设计要点:在于带有加热器的基座的形状造型。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图1。5.省略视图:右视图与左视图呈中心对称,省略右视图。仰视图与俯视图呈中心对称,省略仰视图。
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公开(公告)号:CN302569869S
公开(公告)日:2013-09-11
申请号:CN201330049368.3
申请日:2013-02-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:带有加热器的基座。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于支承一电子设备构成用腔室内的基片。3.本外观设计产品的设计要点:在于带有加热器的基座的形状造型。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图1。5.省略视图:右视图与左视图呈中心对称,省略右视图。俯视图与仰视图呈中心对称,省略俯视图。
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