低温高速生长SiC单晶的助熔剂

    公开(公告)号:CN106119951B

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201610705887.3

    申请日:2016-08-23

    IPC分类号: C30B9/12 C30B29/36

    摘要: 本发明涉及几种低温高速生长SiC单晶的助溶剂,属于晶体生长技术领域。本发明涉及的几种助溶剂为稀土金属镨(Pr)、铈(Ce)、镧(La)、镝(Dy)和铽(Tb),SiC单晶的生长方法为顶部籽晶溶液生长法。首先,将上述任意一种助溶剂与高纯硅(≥99.9999%)一起加热熔融,然后,将装有SiC籽晶的籽晶杆伸入到熔体液面下0.5~5cm处,旋转籽晶杆或者熔融容器进行SiC单晶的生长;晶体生长结束后将籽晶杆从熔体中移出;最后,用HNO3+HF的混酸去除SiC单晶表面的残留物得到高纯SiC单晶。

    一种钛硅分子筛TS-1的制备方法

    公开(公告)号:CN106185974B

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201610527623.3

    申请日:2016-07-07

    IPC分类号: C01B39/08

    摘要: 本发明公开一种钛硅分子筛TS‑1的制备方法,包括以下步骤:将一定摩尔比的固体硅源、碱源、模板剂、矿化剂和钛源进行混合研磨至均匀,然后密封,在120‑180℃进行晶化反应,产物经洗涤、过滤、烘干、焙烧后即得高钛含量的钛硅分子筛;本发明利用工业废弃物微硅粉和工业副产物纳米二氧化硅作为硅源,解决了传统分子筛中硅源价格昂贵的问题;且合成方法简单,反应温度较传统方法低,通过使用氟化铵作为矿化剂,将钛有效地引入到分子筛骨架中,一步合成了高钛含量的钛硅分子筛TS‑1。

    一种铜催化刻蚀制绒硅片表面圆滑处理的方法

    公开(公告)号:CN109087853A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201810717904.4

    申请日:2018-07-03

    摘要: 本发明涉及一种铜催化刻蚀制绒硅片表面圆滑处理的方法,属于太阳能电池行业中晶体硅表面制绒技术领域。本发明将金刚石线切割的硅片进行清洗和氧化层去除处理;在室温~95℃条件下,将氧化层去除处理后的硅片置于HF-金属铜盐-H2O2刻蚀液中刻蚀1~600min,再置于硝酸溶液中浸泡1~100min,然后置于HF溶液中浸泡1~100min,采用去离子水清洗即得倒金字塔结构织化硅片;将倒金字塔结构织化硅片进行圆滑处理即得圆滑的倒金字塔结构织化硅片;其中圆滑处理的方法为采用圆滑处理体系法和/或超声处理方法。本发明方法可实现低成本MCCE法制得倒金字塔圆滑化制绒结构。

    一种LiNixMn2-xO4正极材料的制备方法

    公开(公告)号:CN105185981B

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201510506385.3

    申请日:2015-08-18

    摘要: 本发明涉及一种LiNixMn2‑xO4正极材料的制备方法,属于锂离子电池正极材料技术领域。首先将锂源、镍源、锰源与辅助剂进行球磨混合0.5~10h,然后在60~160oC条件下干燥制备得到前驱体,其中锂源、镍源、锰源与辅助剂中至少有一种是氯化物;将得到的前驱体,在空气或氧气气氛下按1~20oC/min速率升温到500~800oC恒温加热5~48h,然后冷却至室温,冷却后的产物为LiNixMn2‑xO4正极材料,或者经洗涤、干燥后得到LiNixMn2‑xO4正极材料。该方法提出原料氯化法,通过引入氯离子,促进固相反应过程中LiNixMn2‑xO4(0.4≤x≤0.5)材料在中低温下长大和裸露出{111}晶面,从而可以简单、有效实现高性能LiNixMn2‑xO4(0.4≤x≤0.5)材料的制备。