公开(公告)号：CN113436992A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202110642044.4

申请日：2021-06-09

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 王冲 ,  傅立超

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/687

摘要： 本发明公开了一种带位置检测功能的晶圆传输机械手，涉及机械手技术领域；包括底座、和底座滑动连接的用以支撑晶圆的手指、用以驱动手指在底座上运动的驱动装置、若干组和底座固接的对射传感器、用以移动底座的机械臂；对射传感器的组数量至少组，对射传感器处于一个虚拟圆上，虚拟圆的半径和晶圆的半径适配；手指包括和底座滑动连接的滑块、和滑块固接的呈C字形的指部、位于指部内侧的若干用以给晶圆限位的限位块、和限位块固接的用以支撑晶圆下侧的支撑板；对于标准尺寸的晶圆，其半径标准，限位块均抵靠在晶圆的边缘处，将该晶圆的圆心相对手指的位置命名为真圆心。本发明晶圆放置精度高。另外，采用两个手指交替传输，提高效率。

公开(公告)号：CN113351444A

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN202110720216.5

申请日：2021-06-28

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 耿克涛 ,  刘金

IPC分类号： B05C11/10

摘要： 本发明涉及显影机辅助设备技术领域，具体是涉及一种用于匀胶显影机的胶水回收装置，包括：引料管组；工作箱，引料管组的出料端与工作箱的进料端连接；过滤板组，安装于工作箱的内部，并且过滤板组位于工作箱的中部；压料组件，设置于工作箱的内部，压料组件的输出端位于过滤板组的上方；负压机构，设置于工作箱的外部，负压机构的进风口与工作箱的内部连接，负压机构的进风口位于过滤板组的下方；回料机构，设置于工作箱的底部，回料机构的进料端与工作箱的出料端连接，通过引料管组、工作箱、过滤板组、压料组件、负压机构和回料机构的设置，可以对胶水进行收集和过滤，并且将洁净的胶水进行输送。

公开(公告)号：CN110246783B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201910496414.0

申请日：2019-06-10

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 傅立超 ,  魏子尧

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68

摘要： 本发明提供一种去胶机夹持主轴，包括气缸、气缸座、主轴安装板、主轴筒、主轴、顶杆、夹持轴套、夹持升降套和晶圆；所述气缸固定安装在所述气缸座下端；所述主轴安装板固定安装在所述气缸座上端；所述主轴筒固定安装在所述主轴安装板上；所述主轴可转动的设置在所述主轴筒内；所述主轴内设置有上下贯穿的第一通孔。本发明能实现快速夹紧或者松开，点夹持保证晶圆的准确定位不会发生位置偏移，还能实现微调夹紧力，充氮气防止主轴发生损坏。

公开(公告)号：CN112216634A

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN202011088528.0

申请日：2020-10-13

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 耿克涛 ,  刘金 ,  刘长伟 ,  王冲 ,  汪钢

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明公开了一种渐进式晶圆烘烤方法，涉及半导体技术领域，该方法通过在晶圆放入加热盘加热时，首先将晶圆通过升降机构限位在高位，使得其与加热盘的发热源远离；在加热盘加热晶圆直至加热完成的过程中，升降机构将晶圆下降使得其与加热盘的发热源逐渐靠近，直至晶圆停止；在晶圆加热完成后，升降机构将晶圆上升至初始高度位置，然后通过机械手将其夹持脱离加热盘。本发明渐进式晶圆烘烤方法保证了烘烤过程中的温度连续稳定升降，避免了薄晶圆在烘烤中翘曲、碎片的问题。

公开(公告)号：CN112083629A

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN202010778514.5

申请日：2020-08-05

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 王冲 ,  傅立超

IPC分类号： G03F7/16

摘要： 本发明公开了一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，涉及半导体技术领域，包括外罩、内罩、以及用于固定外罩、内罩的底座；外罩、内罩和底座中部共同形成一涂胶空间；外罩的外罩壁与内罩的内罩壁之间形成一隔层空间，底座内部开设有一液流通道，涂胶空间产生的胶液可通过隔层空间进入液流通道；液流通道为倾斜设置，液流通道的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔；本发明能够很方便的使胶杯内部的胶液通过位于最低点A处的出液孔排出，通过不同的倾斜角度、倾斜方式的设置，对胶液在液流通道内的流动起到进一步汇聚的作用，不会出现堆积的现象，使得胶杯无需清洗或极大减少清洗次数，从而提高整体的工作效率；解决胶杯不易清洗的问题。

公开(公告)号：CN110370310B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201910530657.1

申请日：2019-06-19

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 王冲 ,  傅立超

IPC分类号： B25J15/10 ,  B25J11/00

摘要： 本发明提供一种机械手，包括Z轴主支架、连接支架、第一底板、旋转装置和手指伸出装置；所述连接支架通过上下滑动装置可上下滑动的设置在所述Z轴主支架一侧；所述第一底板固定安装在所述连接支架上；所述旋转装置可旋转的设置在所述第一底板上；若干所述手指伸出装置设置在所述旋转装置上，所述手指伸出装置用于夹取晶圆。本发明设置有多个手指，可以完全实现干湿分离，避免交叉污染，功能多样，能实现上下滑动、旋转以及手指伸缩，便于机械手在狭小的半导体设备内实现多种动作，从而提高工作效率，优化半导体设备使用空间。

公开(公告)号：CN111508889A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN202010177742.7

申请日：2020-03-13

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 沈云清 ,  王冲

IPC分类号： H01L21/687

摘要： 本发明公开了一种利用离心力夹持晶圆的晶圆承片台，半导体加工领域；利用离心力夹持晶圆的晶圆承片台包括：底座、支柱、承片台底座、若干晶圆支撑柱、若干夹持块、若干配重块、若干支撑帽和驱动电机；承片台底座通过支柱与底座固定；若干晶圆支撑柱安装于承片台底座上，并且晶圆支撑柱在承片台底座上围成一晶片安装圆环；晶片安装圆环内用于放置晶片；单个晶圆支撑柱上均固定一个支撑帽和活动安装有一个夹持块；单个夹持块上均固定有一个配重块；底座安装于驱动电机，驱动电机用于驱动底座旋转；当驱动电机驱动底座旋转时，承片台底座同步转动，使配重块形成离心力，从而向内推动夹持块，使夹持块夹紧晶圆。

公开(公告)号：CN109047092A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201811156450.4

申请日：2018-09-30

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 傅立超 ,  谢林雅

IPC分类号： B08B1/04 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

CPC分类号： B08B1/04 ,  B08B1/002 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

摘要： 本发明提供一种用于清洗光刻版的摆臂清洁装置，包括壳体和摆臂装置；所述摆臂装置可摆动的设置在所述壳体上端一侧；所述摆臂装置包括第一伺服电机、轴套、旋转轴、谐波减速机、穿线轴和过渡臂；所述第一伺服电机设置在所述轴套上端；所述旋转轴上端与所述穿线轴固定安装；所述旋转轴下端与清洁装置连接；所述清洁装置用于清洁光刻版表面。本发明清洁效率高，且能充分清洁光刻版表面，有左右扫描功能及上升下降功能；上升下降为丝杠驱动，精度好，刚性高。

公开(公告)号：CN118645467B

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202411116734.6

申请日：2024-08-15

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 郝斌荣 ,  袁宁丰 ,  魏澎涛

IPC分类号： H01L21/687

公开(公告)号：CN118904664A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202411412360.2

申请日：2024-10-11

申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司

发明人： 杨新锐

IPC分类号： B05C11/10 ,  B05C5/02 ,  G03F7/16

摘要： 本发明提供了一种供液装置及匀胶机，包括：架体，架体设置有安装空间和匀胶空间；壳体，壳体设置于安装空间和匀胶空间之间；阀岛，阀岛安装于安装空间内；匀胶机械臂，匀胶机械臂设置于匀胶空间；随动装置，随动装置安装于壳体靠近匀胶机械臂的位置，且随动装置上设置有通孔；其中，阀岛与匀胶机械臂之间通过管路穿过通孔连接；匀胶机械臂带动管路活动时，随动装置将跟随管路的活动而转动。本发明解决了传统匀胶机的管路是固定在壳体上的，在往复运动时，管路容易受到挤压和损坏，这严重影响了匀胶机的喷吐稳定性和工作效率的技术问题。