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公开(公告)号：CN207800559U
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201721633186.X
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
Abstract: 本实用新型提供适合于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理系统及其费用的计算系统。在基板处理系统中，通过配管将基板处理机构(1)、调制药液的新液的药液调制机构(3)、对使用后的药液进行再生的药液再生机构(4)等连接。药液管理机构(2)测定基板处理机构的药液的浓度并补充药液的原液、新液、再生液，将药液管理为最佳浓度。所供给的补充液由配备于配管的累计流量计(51～55)计测。在基板的处理费用计算系统(5)中，具有通信功能的累计流量计和服务器系统(502)与网络(501)连接。累计流量经由网络由服务器系统接收并存储。服务器系统具备按照每个累计流量计并基于规定期间的累计流量计算费用的运算部(505)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207516724U
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201721635744.6
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
IPC: G03F7/30
Abstract: 本实用新型提供最适于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理装置的药液管理系统及基板处理装置的药液管理费用计算系统。在基板处理装置的药液管理系统中，通过配备有累计流量计的配管将基板处理装置与调制药液的新液的药液调制装置、对使用后的药液进行再生的药液再生装置等连接。浓度管理装置测定基板处理装置的药液的浓度，补充药液的原液或新液、再生液，将药液始终管理为最佳的浓度。所供给的补充液的累计流量由累计流量计来计测。累计流量计与网络直接连接。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206311889U
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201621280076.5
申请日：2016-11-24
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
IPC: G03F7/30
Abstract: 提供在用于半导体、液晶显示器或电池的制造的药液或电解液中，药液使用者不购入运用药液调制供给装置或不筹备药液或其原料而能够始终接受需要量的所需浓度的药液的供给的药液调制供给装置。药液调制供给装置在供给药液的配管具备累计流量计。将药液供给者拥有的药液调制供给装置与药液使用设备连接，使用药液调制供给装置从药液供给者筹备的药液原料来调制要供给的药液。调制后的药液根据供给请求，由累计流量计测量供给量的同时被供给至药液使用设备。药液供给者根据每规定期间测量的累计流量来计算向药液使用者索取的使用费用。若累计流量计具有通信功能，则能够经由网络远程监视累计流量，计算药液的使用费用。
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公开(公告)号：CN207529428U
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201721633019.5
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
Abstract: 本实用新型提供在对用于制造半导体、液晶显示器基板的药液浓度进行管理的服务提供中使用的浓度管理装置及在对药液进行再生处理的服务提供中使用的药液再生装置、以及使用这些装置而提供的服务提供所涉及的费用的计算系统。浓度管理装置(1)在补给补充液的配管配备有累计流量计(51～53)。药液再生装置(2)在供给再生药液的配管配备有累计流量计(54)。药液的浓度管理或再生处理的费用基于由累计流量计计测出的规定期间内的累计流量而算出。累计流量计(221～225)具备通信功能而与网络(201)连接。累计流量经由网络由服务器系统(202)接收并存储。服务器系统(202)具备按照每个累计流量计并基于规定期间的累计流量而计算费用的计算部(205)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207502917U
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201721635816.7
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
IPC: G03F7/30
Abstract: 本实用新型提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生的再生装置(F)由配管连接。显影液的浓度管理装置(A)测定显影处理装置(B)的显影液的物性或者成分浓度并供给显影液的原液或新液、再生液，从而将显影液管理为最佳的浓度。所供给的补充液由设于配管的累计流量计(151、152、153、154、155)计测。能够基于由累计流量计(151、152、153、154、155)计测出的补充液的累计流量来计算显影液的浓度管理的费用或基板的显影处理费用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207085819U
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201720285859.0
申请日：2017-03-22
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
Abstract: 本实用新型提供罐以及药液调制装置，该罐将调制规定浓度的各种药液的调制槽与贮存调制出的药液的贮存槽构成为一体，以便能够设置为有效地利用有限的设置空间，该药液调制装置具备这种构成为一体的罐，且能够自动地调制规定浓度的各种药液。罐(4)具备：调制所设定的浓度的药液的调制槽(3)、以及贮存由调制槽调制出的药液的贮存槽(2)，调制槽与贮存槽构成为一体。药液调制装置(10)具备：罐(4)，调制槽与贮存槽构成为一体；调制槽浓度测定机构(31)，其测定调制槽的药液的浓度；以及，计算机(1)，其根据调制槽浓度测定机构测定出的浓度来控制向调制槽供给的药液的原料的供给量，以使得调制槽内的药液成为规定浓度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN106371297A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201510994050.0
申请日：2015-12-25
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Inventor： 中川俊元
Abstract: 提供一种显影液的成分浓度测定装置及其方法、显影液管理装置及其方法，测定并管理呈碱性的显影液所吸收的二氧化碳的浓度。显影液的成分浓度测定装置及显影液管理装置具备密度计，测定显影液的密度。显影液的密度与二氧化碳浓度之间存在不受碱性成分等其他成分浓度的影响的良好的对应关系。成分浓度测定装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与二氧化碳浓度的对应关系，计算二氧化碳浓度。显影液管理装置使用显影液的密度与二氧化碳浓度的对应关系，基于显影液的测定出的密度值或计算出的二氧化碳浓度值，向显影液补给补充液使得显影液的二氧化碳浓度成为给定的管理值或管理值以下，由此管理显影液的二氧化碳浓度。
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公开(公告)号：CN105274532A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510419019.4
申请日：2015-07-16
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Abstract: 本发明提供节省空间且能够缩短处理时间的固体粒子回收去除装置、具备该固体粒子回收去除装置的液体管理装置以及蚀刻液管理装置。该固体粒子回收去除装置具备：壳体(35)，其形成为筒状；中心轴(36a)，其设置在壳体(35)内；螺杆叶片(36b)，其以接近壳体(35)的内壁的方式呈螺旋状地设置在中心轴(36a)的周围；流入口，其供给包含固体粒子的液体；排出口，其排出包含固体粒子的液体；固体粒子排出管，其将固体粒子从壳体排出，固体粒子排出管设置为比流入口以及流出口靠上方侧，壳体(35)以具有规定的角度的方式配置，电动机(37)使螺杆叶片(36b)旋转，由此将液体中的固体粒子从壳体(35)内的液体中向固体粒子排出管输送而排出。
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公开(公告)号：CN101567309B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200910133196.0
申请日：2009-04-15
Applicant: 株式会社平间理化研究所
Abstract: 本发明提供在半导体制造工厂或平板显示器制造工厂的使用侧，能够将铝的蚀刻液的硝酸浓度、水分浓度、磷酸浓度及醋酸浓度恒定地调合的蚀刻液调合装置。其具备：检测用纯水稀释调合槽内的蚀刻液而形成的稀释液的电导率的电导率计或检测蚀刻液的硝酸浓度的吸光光度计；检测蚀刻液的水分浓度的吸光光度计；检测蚀刻液的磷酸浓度的吸光光度计或密度计；根据检测硝酸浓度的电导率计的电导率值、检测水分浓度的吸光光度计的吸光度值和检测磷酸浓度的吸光光度计的吸光度值或密度计的密度值，利用多成分运算法运算蚀刻液的成分浓度的成分浓度运算机构；将单一酸原液、混酸原液及纯水的至少一种向调合槽中补给的补给机构。
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公开(公告)号：CN1295568C
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN02147039.1
申请日：2002-06-25
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F7/422 , Y10T436/12
Abstract: 按照本发明的水系保护膜剥离液管理装置，是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的水系保护膜剥离液进行管理的水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中，在保护膜剥离处理槽(调整槽)中，通过管路将测定水系保护膜剥离液中的水分浓度的吸光光度计和测定劣化成分浓度的电导率计连接，基于这些测定值，向保护膜剥离处理槽中供给保护膜剥离原液、保护膜剥离再生液、纯水、以及预先调合的保护膜剥离新液中的至少任一种。由此，在使水系保护膜剥离液的保护膜剥离性能维持稳定的同时，能够谋求使用液量的削减以及操作停止时间的缩短。
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