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公开(公告)号：CN112462577B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202011406432.4
申请日：2020-12-02
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法，在该方法中，具体实现采用Python脚本语言编写，该优化方法分为两大部分功能：首先，把微反射镜数目作为一个连续而非离散的变量进行连续函数的优化，得到连续反射镜数条件下的优化结果；然后，由于反射镜数实际是整数，将连续的反射镜数进行离散化以得到最终的优化结果。本发明提供的技术方案实际产生的自由光瞳与理想光瞳光刻性能相匹配，对反射镜光斑的位置进行优化进一步缩小了误差，有利于提高光刻工艺的分辨率。
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公开(公告)号：CN116826701A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310398312.1
申请日：2023-04-14
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本发明属于配电系统技术领域，尤其是涉及一种配电系统及配电模组。该配电系统包括主电路，主电路包括主干路及至少一条配电支路；主干路包括总进电端及位于总进电端下游的第一滤波模块，配电支路连接于主干路并位于第一滤波模块的下游；各配电支路均包括负载接入端，且部分的配电支路还包括位于负载接入端上游的第二滤波模块。在引入动力电源后，进行第一阶段滤波，在配电给负载设备前进行第二阶段滤波。通过两阶段递进式地滤波有效过滤掉动力电源的高频分量以及噪声，为负载设备提供高质量的电源。
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公开(公告)号：CN116779350A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310594814.1
申请日：2023-05-24
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 孙炳晖
摘要： 本申请属于晶圆检测技术领域，尤其是涉及一种用于晶圆检测设备的电源开关装置及晶圆检测设备。晶圆检测设备包括内部能够形成真空环境的壳体及移动平台，移动平台设置于壳体内且能够在移动平台内移动，该电源开关装置包括第一接线结构及第二接线结构；第一接线结构设置于壳体且至少部分位于壳体内，第一接线结构用于接入导线；第二接线结构设置于移动平台且用于引出导线，移动平台能够带动第二接线结构移动，以使第二接线结构与第一接线结构在相接与脱离连接之间切换。该电源开关装置通过控制两接线结构在相接与脱离连接之间切换实现电源通断，响应更迅速，因而具备该电源开关装置的晶圆检测设备效率更高。另外，导线布局简单，稳定性更高。
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公开(公告)号：CN116777841A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310588012.X
申请日：2023-05-23
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： G06T7/00 , G06V10/74 , G06V10/762 , G06V10/764 , G06V10/28
摘要： 本申请提供一种晶圆良率损失的确定方法及装置，涉及半导体技术领域，该方法包括：获取晶圆对应的缺陷分布数据及电性测试良率数据；将所述缺陷分布数据进行处理，以得到第一灰度图像；将所述电性测试良率数据进行处理，以得到第二灰度图像；确定所述第一灰度图像与所述第二灰度图像间的相似度；基于所述相似度，确定所述晶圆对应的良率损失。由此，可以基于缺陷分布数据对应的第一灰度图像，与电性测试良率数据对应的第二灰度图像，确定出二者间的相似度，再基于该相似度，确定出晶圆的良率损失，由于相似度是从图像角度出发确定的，从而该相似度及确定出的良率损失更为准确、可靠，进而可以更好地进行追踪溯源，提升晶圆的良率。
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公开(公告)号：CN116247624A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202310294328.8
申请日：2023-03-23
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 王庆亚
摘要： 本发明提供一种设备安全控制系统，该系统中供电单元用于向开关单元、控制模块和外部负载设备供电；开关单元连接在供电单元与交流接触器间，交流接触器连接于安全继电器，安全继电器连接于开关单元；控制模块包括控制单元和控制按钮，控制单元连接于安全继电器，控制按钮连接于控制单元；控制单元设置为在控制按钮被触发的状态下，能够控制安全继电器断开，以使交流接触器断开，以断开供电单元与外部负载设备之间的电连接；开关单元设置为能够控制交流接触器断开，以断开供电单元与外部负载设备间的电连接；在控制按钮未被触发的状态下，开关单元还设置为能够控制安全继电器闭合，以使交流接触器闭合，以接通供电单元与外部负载设备间的电连接。
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公开(公告)号：CN110291622B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201780085176.3
申请日：2017-10-30
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 提供了用于检查集成电路的方法和系统。该方法包括：监控集成电路的检查以接收包括机器数据和缺陷检测结果的检查数据；将检查数据存储在数据库中；基于机器数据，经由数据库修改与检查相关联的多个配置方案文件中的至少一个配置方案文件；以及基于缺陷检测结果，经由数据库修改与检查相关联的多个软件参数中的至少一个软件参数。该系统包括存储器，该存储器包括指令，所述指令可由处理器执行以：监控集成电路的检查以接收包括机器数据和缺陷检测结果的检查数据并将其存储在数据库中；基于机器数据经由数据库修改与检查相关联的配置方案文件；以及基于缺陷检测结果经由数据库修改与检查相关联的软件参数。
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公开(公告)号：CN116051582A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211658956.1
申请日：2022-12-22
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本申请提供了一种高精度扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质，该方法包括：在采集到多个待检测位置的多个扫描电子显微镜图像的情况下，将多个扫描电子显微镜图像分别与设计版图对准，生成对准结果；基于对准结果提取每一个扫描电子显微镜图像的第一扫描电子显微镜图像轮廓；将每一个第一扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图进行比对，生成比对结果；基于比对结果对每一个第一扫描电子显微镜图像轮廓进行调整，生成多个第二扫描电子显微镜图像轮廓；对所有第二扫描电子显微镜图像轮廓求平均，生成第三扫描电子显微镜图像轮廓。本申请能够有效地提高扫描电子显微镜图像轮廓的精准度。
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公开(公告)号：CN115965574A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211060150.2
申请日：2022-08-31
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 请求不公布姓名
IPC分类号： G06T7/00 , G06T7/62 , G06T7/70 , G06V10/764
摘要： 本申请提供了一种基于设计版图的扫描电子显微镜图像缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质。该方法包括：获取待检测位置的第一扫描电子显微镜图像，以及除待检测位置之外的其他位置的第二扫描电子显微镜图像；基于第一扫描电子显微镜图像和第二扫描电子显微镜图像，分别与待检测位置的设计版图进行对准，得到对准结果；基于对准结果，分别将第一扫描电子显微镜图像和第二扫描电子显微镜图像，与待检测位置的设计版图进行比较，得到差异信息；根据差异信息和配方文件，判断第一扫描电子显微镜图像与设计版图之间的第一差异是否为缺陷。根据本申请实施例，提高缺陷检测精度以及扩大缺陷检测的检测范围。
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公开(公告)号：CN110426914B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN201910689362.9
申请日：2019-07-29
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 方伟
IPC分类号： G03F1/36
摘要： 本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种亚分辨率辅助图形的修正方法及电子设备。所述方法包括步骤：提供包括主图形和亚分辨率辅助图形的掩模版图；在主图形的周围形成一评价点放置区域并在评价点放置区域中按预设规则放置多个评价点；将亚分辨率辅助图形的每条边与其最近邻的评价点关联形成与每条边对应的至少一个关联评价点；通过计算每个关联评价点的强度，并判断每个关联评价点的强度是否超过设定的阈值，基于判定结果决定是否需要对亚分辨率辅助图形进行修正，能很好的提高修正的准确性，不需要通过反演光刻技术等较复杂的手段判定是否需要修正，能很好的减少运算量以及提高修正速度，使得对亚分辨率辅助图形的修正更简单快速。
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公开(公告)号：CN115841496A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211291246.X
申请日：2022-10-20
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 梁洪齐
摘要： 本发明涉及半导体制造、计算光刻技术领域，具体涉及一种SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质。SEM图像的轮廓提取方法包括以下步骤：从SEM图像中提取出M个离散的轮廓点，其中M为整数；随机选取N个初始控制点，基于N个初始控制点得到初始贝塞尔曲线，其中N为整数且N小于等于M；对N个初始控制点进行校准以使初始贝塞尔曲线与M个轮廓点逐渐贴合得到校准后的贝塞尔曲线；将校准后得到的贝塞尔曲线作为SEM图像提取的轮廓信息输出。本发明的轮廓提取方法解决了现有的SEM图像的轮廓提取技术中，轮廓提取结果数据量大及轮廓信息丢失的技术问题。本发明的轮廓提取装置、计算机设备及存储介质具有与轮廓提取方法相同的有益效果。
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