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公开(公告)号：CN116432266A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310294316.5
申请日：2023-03-23
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本发明提供一种量测点的配方文件的生成方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：获取测量参数和所述测量参数对应的输入量；在包含所述测量参数的测量参数模板中填入所述输入量；结合量测点和填入所述输入量后的所述测量参数模板进行分析，得到所述量测点的量测配置文件；根据所述量测点的量测配置文件和设计版图，生成量测点的配方文件。本发明可根据用户对测量参数的需求，灵活且准确的选择具备该些测量参数的量测配置模板，从而高效准确的生成相应的配方文件。
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公开(公告)号：CN114040067B
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202111305934.2
申请日：2021-11-05
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： H04N23/67
摘要： 本申请涉及一种基于电子束量测设备的自动对焦方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取电子束量测设备中当前通道所采集到的多张检测图像；根据多张检测图像的清晰度评估结果自适应调整粗聚焦搜索步长，并根据调整后的粗聚焦搜索步长对电子束量测设备进行粗聚焦，确定最佳粗聚焦位置；以最佳粗聚焦位置为搜索中心，按照当前的细聚焦搜索参数采集预设张数的样品图像，并根据采集到的预设张数的样品图像的清晰度评估结果进行细聚焦搜索得到聚焦结果。其实现了采用变步长的方式进行电子束量测设备自动对焦过程中的粗聚焦，使得在进行粗聚焦时所使用的粗聚焦搜索步长更加灵活，最终有效提高了电子束量测设备的自动对焦效率。
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公开(公告)号：CN114723651A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202011534533.X
申请日：2020-12-22
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： G06T7/00
摘要： 本申请公开了一种缺陷检测模型训练方法。该缺陷检测模型训练方法包括获取第一参考图像、第二参考图像和测试图像，依据第一参考图像、第二参考图像和测试图像进行校准得到校准图像，将校准图像和测试图像进行合成得到输入图像，将输入图像传入神经网络进行缺陷检测模型训练。如果第一参考图像、第二参考图像和测试图像中的一张图像的某个位置有缺陷，能清晰的凸显出来，从而使神经网络能训练更加具有鲁棒性的模型，从而提高缺陷检测的准确率。
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公开(公告)号：CN114040067A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111305934.2
申请日：2021-11-05
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本申请涉及一种基于电子束量测设备的自动对焦方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取电子束量测设备中当前通道所采集到的多张检测图像；根据多张检测图像的清晰度评估结果自适应调整粗聚焦搜索步长，并根据调整后的粗聚焦搜索步长对电子束量测设备进行粗聚焦，确定最佳粗聚焦位置；以最佳粗聚焦位置为搜索中心，按照当前的细聚焦搜索参数采集预设张数的样品图像，并根据采集到的预设张数的样品图像的清晰度评估结果进行细聚焦搜索得到聚焦结果。其实现了采用变步长的方式进行电子束量测设备自动对焦过程中的粗聚焦，使得在进行粗聚焦时所使用的粗聚焦搜索步长更加灵活，最终有效提高了电子束量测设备的自动对焦效率。
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公开(公告)号：CN116630701A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310577486.4
申请日：2023-05-22
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： G06V10/764 , G06V10/762 , G06V10/774
摘要： 本申请提供一种晶圆图的分类方法及装置，涉及计算机技术领域，该方法包括：利用第一数据集中的第一数据对初始预训练模型进行训练，以得到预训练模型；基于所述预训练模型，对第二数据集中的第二数据进行筛选，以确定伪标签数据；基于至少包含所述伪标签数据的训练集对晶圆图分类模型进行训练，以得到训练后的晶圆图分类模型；基于所述训练后的晶圆图分类模型，对所述预训练模型进行更新；基于所述第二数据集中除伪标签数据外的其余第二数据，返回执行基于所述预训练模型，对第二数据集中的第二数据进行筛选，以确定伪标签数据的步骤，直至确定所述第二数据集中的全部第二数据分类完成，由此可以基于小样本数据对晶圆图进行分类，降低了成本。
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公开(公告)号：CN114119472A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111228212.1
申请日：2021-10-21
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： G06T7/00 , G06K9/62 , G06T7/62 , G06V10/40 , G06V10/774 , G06V10/764
摘要： 本申请涉及一种缺陷分类方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取当前待分类的缺陷数据，并由缺陷数据中提取出缺陷图像特征和设计图形特征；将缺陷图像特征和设计图形特征均输入至缺陷分类器中，由缺陷分类器根据缺陷图像特征和设计图形特征对缺陷数据进行缺陷分类。实现了综合设计图形特征的因素，将设计图形与缺陷关联在一起，从而使得在进行缺陷分类时更加准确，对缺陷产生的原因理解的也就更加全面，从而有助于后续对晶圆上热点区域的识别，为芯片设计人员设计避免缺陷的技术时能够提供更加有效地参考。
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公开(公告)号：CN114040069A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111310482.7
申请日：2021-11-05
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本申请涉及一种基于探测器通道的自动对焦方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取探测器各通道采集到的样品图像，并基于各通道采集到的样品图像由探测器的各通道中确定聚焦通道；采用爬山算法由聚焦通道中搜索出最清晰图像以得到相应的聚焦结果。通过获取探测器各通道采集到的样品图像，基于各通道采集到的样品图像由探测器的各通道中确定聚焦通道，然后再以所确定的聚焦通道为准，采用爬山算法由聚焦通道中搜索出最清晰图像以得到相应的聚焦结果。实现了能够通过选择不同通道的图像进行自动聚焦的目的，有效避免了单一通道图像在某一角度的焦平面仍旧扫描不到图像特征的情况，保证了聚焦结果的准确性。
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公开(公告)号：CN116612075A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310468168.4
申请日：2023-04-27
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： G06T7/00 , G06T7/30 , G01N23/2251
摘要： 本申请提供一种缺陷检测方法、装置、电子束量测设备及计算机存储介质，缺陷检测方法包括：获取多通道图像；对多通道图像中的每个通道图像分别进行图像配准，以提取目标图像；对每个目标图像进行缺陷检测，获得对应的缺陷列表单元；将所有的缺陷列表单元进行拼接，获得总缺陷列表；对总缺陷列表中的缺陷进行筛选，获得目标缺陷；该缺陷检测方法能够发挥各通道检测结果的优势，避免各个通道检测结果不同时存在的复检冲突，确保各通道检测结果的一致性，从而提高了多通道缺陷检测的检测精度。
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公开(公告)号：CN115112015A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210693328.0
申请日：2022-06-17
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
摘要： 本申请提供了一种电子束光阑的校准方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。该电子束光阑的校准方法，包括：获取目标图像；其中，目标图像中包括目标对象；对目标图像进行图像清晰度分布检测，获取目标图像的多个图像清晰度分数；基于多个图像清晰度分数，确定目标图像的图像清晰度走向；基于图像清晰度走向，确定图像清晰度等高圆的圆心所在位置；计算圆心所在位置和目标图像的中心位置之间的偏移量；其中，偏移量表征电子束中心和光阑中心之间的偏移量；基于偏移量控制电子束移动，以使偏移量小于预设偏移量。根据本申请实施例，能够更加准确地对电子束光阑进行校准，以使电子束中心和光阑中心之间的偏移量小于预设偏移量。
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