矩形闸阀
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101276729B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200710112654.3

    申请日:2007-06-26

    申请人: 株式会社STS

    发明人: 金培镇

    CPC分类号: F16K3/184 F16K51/02

    摘要: 本发明提供了一种具有改进的驱动动作的矩形闸阀。该矩形闸阀包括:打开或关闭晶片移动通道的密封件;接合至密封件并具有引导件的主轴;具有第一引导槽的壳体支架,引导件插入该第一引导槽中;设在壳体支架中的阀驱动单元,该阀驱动单元具有气缸、设在气缸中的活塞、接合至活塞的活塞杆、接合至活塞杆的活动单元及连接在活动单元和主轴之间的连杆;引导支架,其具有从壳体支架向下延伸的垂直支架、形成在该垂直支架中的第二引导槽及接合至垂直支架的水平支架;引导连杆,该引导连杆的第一端接合至主轴并且其第二端插入第二引导槽,使得引导连杆沿第二引导槽运动以引导主轴的运动。第二引导槽具有上端弯曲的倒‘J’形。

    清洁装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102057469B

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN200980121881.X

    申请日:2009-06-12

    申请人: 株式会社STS

    发明人: 柳东英

    IPC分类号: H01L21/304

    CPC分类号: C23C16/4407 C23C16/4481

    摘要: 本发明提供一种用于清洁混合蒸发器的清洁装置。所述混合蒸发器包括原料在其中流动通过的第一孔、载气在其中流动通过的第二孔、通过混合所述原料和所述载气产生混合气体的混合空间、被连接到所述第二孔用于将所述载气供应到所述混合空间的载气喷嘴以及排放所述混合气体的第三孔。所述清洁装置通过使得清洁溶液循环通过所述第一孔、所述第二孔和所述第三孔中的至少一个来清洁所述混合蒸发器。

    清洁装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102057469A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200980121881.X

    申请日:2009-06-12

    申请人: 株式会社STS

    发明人: 柳东英

    IPC分类号: H01L21/304

    CPC分类号: C23C16/4407 C23C16/4481

    摘要: 本发明提供一种用于清洁混合蒸发器的清洁装置。所述混合蒸发器包括原料在其中流动通过的第一孔、载气在其中流动通过的第二孔、通过混合所述原料和所述载气产生混合气体的混合空间、被连接到所述第二孔用于将所述载气供应到所述混合空间的载气喷嘴以及排放所述混合气体的第三孔。所述清洁装置通过使得清洁溶液循环通过所述第一孔、所述第二孔和所述第三孔中的至少一个来清洁所述混合蒸发器。

    矩形闸阀
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101276729A

    公开(公告)日:2008-10-01

    申请号:CN200710112654.3

    申请日:2007-06-26

    申请人: 株式会社STS

    发明人: 金培镇

    CPC分类号: F16K3/184 F16K51/02

    摘要: 本发明提供了一种具有改进的驱动动作的矩形真空闸阀。本发明的矩形闸阀包括:打开或关闭晶片移动通道的密封件;接合至密封件并具有引导件的主轴;具有第一引导槽的壳体支架,引导件插入该第一引导槽中。该闸阀还包括设在壳体支架中的阀驱动单元,该阀驱动单元具有气缸、设在气缸中的活塞、接合至活塞的活塞杆、接合至活塞杆的活动单元及连接在活动单元和主轴之间的连杆。该闸阀还包括引导支架,该引导支架具有从壳体支架向下延伸的垂直支架、形成在该垂直支架中的第二引导槽及接合至垂直支架的水平支架。该闸阀还包括引导连杆,该引导连杆的第一端接合至主轴并且其第二端插入第二引导槽,使得引导连杆沿第二引导槽运动以引导主轴的运动。

    阀模块和包括所述阀模块的衬底处理装置

    公开(公告)号:CN113748497A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202080028385.6

    申请日:2020-01-03

    申请人: 株式会社STS

    发明人: 金像鈱 李在民

    IPC分类号: H01L21/67 H05H1/46

    摘要: 本发明涉及一种阀模块和包括所述阀模块的衬底处理装置,且更具体地说,涉及一种安装于由等离子体活化的气体流经的流动路径中的阀模块和包括所述阀模块的衬底处理装置。揭露了一种安装于衬底处理装置中的阀模块(400),所述衬底处理装置包括:处理腔室(100),形成衬底处理空间(S);以及流动路径部分(300),耦合到处理腔室(100)且形成由等离子体活化的气体流经的流动路径(302),其中阀模块(400)包括:开/闭板(410),经安装其以能够经由设置在流动路径部分(300)的一侧上的开口狭缝(301)在流动路径(300)上来回移动,从而打开及关闭流动路径(302);第一驱动部分(420),驱动开/闭板(410)的向前和向后移动;开/闭板保护部分(430),移动到开/闭板(410)与流动路径(302)之间的空间中,以在开/闭板(410)向后移动且保持流动路径(302)打开时防止开/闭板(410)被活化气体损坏;以及第二驱动部分(440),驱动开/闭板保护部分(430)的移动。