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公开(公告)号：CN107083534A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201611027673.1
申请日：2010-07-01
申请人： H·C·施塔克公司
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F2998/10 , C03C17/40 , C22C1/045 , C22C27/04 , C23C14/0688 , C23C14/14 , C23C14/16 , C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C14/3492 , C23C14/35 , C23C14/548 , C23C14/5873 , C23G1/106 , C23G1/205 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , Y10T428/12014 , Y10T428/12021 , Y10T428/12597 , Y10T428/31678 , B22F1/0003 , B22F3/02 , B22F3/18 , C23F1/14
摘要： 本发明涉及包括50原子％或更多钼、第二金属元素钛及第三金属元素铬或钽的溅射靶材，以及由所述溅射靶材制造的沉积膜。在本发明的优选方面，所述溅射靶材包括一富钼相、一富钛相及一富第三金属元素相。
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公开(公告)号：CN103154306B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201080068769.7
申请日：2010-07-01
申请人： H·C·施塔克公司
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F2998/10 , C03C17/40 , C22C1/045 , C22C27/04 , C23C14/0688 , C23C14/14 , C23C14/16 , C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C14/3492 , C23C14/35 , C23C14/548 , C23C14/5873 , C23G1/106 , C23G1/205 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , Y10T428/12014 , Y10T428/12021 , Y10T428/12597 , Y10T428/31678 , B22F1/0003 , B22F3/02 , B22F3/18
摘要： 本发明涉及包括50原子%或更多钼、第二金属元素钛及第三金属元素铬或钽的溅射靶材，以及由所述溅射靶材制造的沉积膜。在本发明的优选方面，所述溅射靶材包括一富钼相、一富钛相及一富第三金属元素相。
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公开(公告)号：CN100352583C
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN96122074.0
申请日：1996-10-25
申请人： H·C·施塔克公司
IPC分类号： B22F9/18
CPC分类号： H01M4/52 , B22F1/0018 , B22F9/22 , B82Y30/00 , C01G51/04 , C01G51/06 , C01P2002/60 , C01P2004/10 , C01P2004/32 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/80 , C22B23/0461
摘要： 本发明提供由细微晶组成的超细钴金属粉末，其中细微晶表现出米粒状至圆球状惯态，超过90%的微晶的直径在0.5-2μm的范围内。还提供通过碳酸钴生产的中间步骤来生产钴金属粉末的方法，以及与钴金属粉末和碳酸钴和如此制备的中间体氧化物有关的方法和产品。
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公开(公告)号：CN1238547C
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN02805100.9
申请日：2002-02-20
申请人： H·C·施塔克公司
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C27/02 , C22F1/18
摘要： 一种从必需纯度的钽锭或铌锭制造溅射靶的方法(10)，包括将锭切割成较短长度的工件(12)和交替沿着正交加工轴对锭进行压力加工(14，22，30，34)的过程。按需要采取中间退火(18，26，38)使整个靶体的厚度、面积范围内和中心处都形成均匀的组织。该均匀组织是(100)和(111)取向的两种晶粒基本固定比例的混合，为控制薄膜厚度提供了一个更可预知的溅射速度，从而改善溅射效果。
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公开(公告)号：CN1191994C
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN98813542.6
申请日：1998-08-13
申请人： H·C·施塔克公司
IPC分类号： C01G53/04
CPC分类号： C01G45/1228 , C01G51/42 , C01G51/44 , C01G53/42 , C01G53/44 , C01G53/50 , C01P2002/52 , C01P2002/74 , C01P2004/50 , C01P2004/61 , C01P2006/12 , H01M4/485 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M10/0525
摘要： 本发明涉及制备通式Lix(M1yM21-y)nOnz的锂过渡金属酸盐的方法，其中M1代表镍、钴或锰，M2代表与M1不同的过渡金属，它们是铬、钴、铁、锰、钼或铝，如果M1是锰则n为2，否则为1，x为0.9-1.2，y为0.5-1.0，和z为1.9-2.1。根据本发明的方法，将含氧的过渡金属化合物和含氧的锂化合物的紧密混合物进行煅烧，所述紧密混合物是通过用锂化合物的溶液处理固体粉末的过渡金属化合物并干燥的方法得到的，并且至少所用的M1化合物是粉末状的形式，其比表面积至少为20m2/g(BET)，并且煅烧是在移动床中进行的。
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公开(公告)号：CN1535322A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN02805100.9
申请日：2002-02-20
申请人： H·C·施塔克公司
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C27/02 , C22F1/18
摘要： 一种从必需纯度的钽锭或铌锭制造溅射靶的方法(10)，包括将锭切割成较短长度的工件(12)和交替沿着正交加工轴对锭进行压力加工(14，22，30，34)的过程。按需要采取中间退火(18，26，38)使整个靶体的厚度、面积范围内和中心处都形成均匀的组织。该均匀组织是(100)和(111)取向的两种晶粒基本固定比例的混合，为控制薄膜厚度提供了一个更可预知的溅射速度，从而改善溅射效果。
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公开(公告)号：CN1524022A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN01823433.X
申请日：2001-10-11
申请人： H·C·施塔克公司
CPC分类号： H01G9/0525 , B22F9/20 , B22F2998/00 , C01G23/043 , C01G31/02 , C01G33/00 , C01G37/02 , C01G39/02 , C01G41/02 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/50 , C01P2004/52 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/10 , C01P2006/12 , C01P2006/17 , C01P2006/34 , C01P2006/40 , C01P2006/80 , B22F1/0096 , B22F1/0014
摘要： 本发明涉及通过利用还原剂产生(燃烧后)的强放热反应使固体或液体形式的这种氧化物(18)经金属热还原由各自的氧化物形成适用于许多电、光和轧制成品/制造部件用途的高纯难熔金属、阀用金属、难熔金属氧化物、阀用金属氧化物或其合金，优选反应以连续或步进形式如重力下落(24)形式使氧化物移动，并且可在底部(30)回收金属，还原剂的氧化物可以气态或其它方便的形式被除去，并且可通过浸出或类似工艺将未反应的还原剂衍生物除去。
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公开(公告)号：CN1071715C
公开(公告)日：2001-09-26
申请号：CN96194710.1
申请日：1996-05-30
申请人： H·C·施塔克公司
摘要： 本发明涉及一种生产金属W、Mo、V、Cr和Re的纯金属酸铵(ammonium metallates)的方法，其中通过使碱性金属盐溶液与CO2反应将其pH值调到5-9，再使这些金属的盐溶液通过碳酸盐型的阴离子交换剂，其中除了生成碱金属碳酸盐溶液还形成金属酸盐型离子交换剂，然后将此离子交换剂洗至无碱为止，接着用氨水解吸，生成金属酸铵溶液和OH型阴离子交换剂，其中利用CO2处理使阴离子交换剂转化成碳酸盐型并再循环使用。
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