溅镀靶及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1407128A

    公开(公告)日:2003-04-02

    申请号:CN02130361.4

    申请日:2002-08-16

    Abstract: 本发明提供一种溅镀靶的制造方法,通过由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理,经升华等除去在研削加工时生成的毛刺和研削粉末、特别是粉尘和尘埃等,因此可以使靶子开始使用时所产生的初期电弧显著降低,并能够提高初期稳定性,以低成本进行溅镀靶的制造。

    溅镀靶及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1788915A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510123330.0

    申请日:2002-08-16

    Abstract: 本发明提供一种溅镀靶的制造方法,通过由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理,经升华等除去在研削加工时生成的毛刺和研削粉末、特别是粉尘和尘埃等,因此可以使靶子开始使用时所产生的初期电弧显著降低,并能够提高初期稳定性,以低成本进行溅镀靶的制造。

    溅镀靶及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1262682C

    公开(公告)日:2006-07-05

    申请号:CN02130361.4

    申请日:2002-08-16

    Abstract: 本发明提供一种溅镀靶的制造方法,通过由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理,经升华等除去在研削加工时生成的毛刺和研削粉末、特别是粉尘和尘埃等,因此可以使靶子开始使用时所产生的初期电弧显著降低,并能够提高初期稳定性,以低成本进行溅镀靶的制造。

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