一种采用PECVD技术制备无机透明超疏水薄膜的方法

    公开(公告)号:CN113373427A

    公开(公告)日:2021-09-10

    申请号:CN202110500953.4

    申请日:2021-05-08

    申请人: 三峡大学

    摘要: 本发明公开了一种基于PECVD技术制备无机透明超疏水碳化硅薄膜的方法。针对超疏水薄膜须具有表面多级粗糙结构和低表面能特性,以甲烷和硅烷为工作气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术通过掩膜板多次交叉沉积方式在玻璃板表面构筑具有多级微纳粗糙结构的碳化硅薄膜。基于该粗糙结构,优化PECVD工艺参数使所制备碳化硅薄膜含有大量低表面能‑CHn基团,避开常用有机硅氧烷和有毒氟化物对材料进行低表面能修饰工艺,在不采用任何有机表面修饰剂的条件下便可获得兼具透明性和超疏水特性的碳化硅薄膜。制备的碳化硅透明超疏水薄膜成本低廉,在光伏玻璃板、显示屏幕、挡风玻璃以及建筑幕墙玻璃自清洁和防污等方面具有广阔的应用前景。

    一种采用PECVD技术制备无机透明超疏水薄膜的方法

    公开(公告)号:CN113373427B

    公开(公告)日:2022-05-20

    申请号:CN202110500953.4

    申请日:2021-05-08

    申请人: 三峡大学

    摘要: 本发明公开了一种基于PECVD技术制备无机透明超疏水碳化硅薄膜的方法。针对超疏水薄膜须具有表面多级粗糙结构和低表面能特性,以甲烷和硅烷为工作气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术通过掩膜板多次交叉沉积方式在玻璃板表面构筑具有多级微纳粗糙结构的碳化硅薄膜。基于该粗糙结构,优化PECVD工艺参数使所制备碳化硅薄膜含有大量低表面能‑CHn基团,避开常用有机硅氧烷和有毒氟化物对材料进行低表面能修饰工艺,在不采用任何有机表面修饰剂的条件下便可获得兼具透明性和超疏水特性的碳化硅薄膜。制备的碳化硅透明超疏水薄膜成本低廉,在光伏玻璃板、显示屏幕、挡风玻璃以及建筑幕墙玻璃自清洁和防污等方面具有广阔的应用前景。

    一种超疏水导热多层膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113897609A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202111124727.7

    申请日:2021-09-25

    申请人: 三峡大学

    摘要: 本发明公开了一种超疏水导热多层膜及其制备方法,包括如下步骤:采用等离子体增强化学气相沉积技术以高纯甲烷和四氟化碳为碳源气体在单晶硅基片表面制备碳膜;采用磁控溅射技术以高纯铜为靶材在步骤中所生长的碳膜表面溅射沉积铜纳米膜;采用PECVD技术以高纯甲烷和四氟化碳为碳源气体在所生长的铜纳米膜表面再次沉积碳膜;重复制备碳膜及铜纳米膜表面再次沉积碳膜的步骤2~4次;对所制备的多层膜在氢气氛围保护下高温烧结;采用PECVD技术以高纯四氟化碳为工作气体对所烧结处理后的多层膜实施等离子体处理。通过上述步骤所获得的多层膜具有优异的超疏水和导热功能,在电子元器件散热和防水方面具有很好的应用前景。

    一种透明超疏水玻璃的制备方法

    公开(公告)号:CN114409264B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202210033583.2

    申请日:2022-01-12

    申请人: 三峡大学

    IPC分类号: C03C15/00 C03C17/22

    摘要: 本发明公开了一种透明超疏水玻璃表面及其制备方法,将玻璃基片放入氢氟酸溶液中进行腐蚀;将所腐蚀的玻璃基片清洗干净后放入氢氧化钠溶液中进行腐蚀;将所腐蚀的玻璃清洗干燥后,采用等离子体增强化学气相沉积技术依次以甲烷、氢气与硅烷混合气为工作气体在其表面制备碳化硅薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术依次以甲烷、四氟化碳、氧气为工作气体对所制备的碳化硅薄膜实施等离子体处理,得到透明超疏水玻璃。通过上述步骤便可获得一种具有优异超疏水、自清洁和透明性能的玻璃表面。本发明所获得的这种透明超疏水玻璃表面在汽车挡风玻璃、建筑玻璃、建筑幕墙、太阳能光伏电池板等的自清洁技术方面具有很好的应用。

    一种超疏水导热多层膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113897609B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202111124727.7

    申请日:2021-09-25

    申请人: 三峡大学

    摘要: 本发明公开了一种超疏水导热多层膜及其制备方法,包括如下步骤:采用等离子体增强化学气相沉积技术以高纯甲烷和四氟化碳为碳源气体在单晶硅基片表面制备碳膜;采用磁控溅射技术以高纯铜为靶材在步骤中所生长的碳膜表面溅射沉积铜纳米膜;采用PECVD技术以高纯甲烷和四氟化碳为碳源气体在所生长的铜纳米膜表面再次沉积碳膜;重复制备碳膜及铜纳米膜表面再次沉积碳膜的步骤2~4次;对所制备的多层膜在氢气氛围保护下高温烧结;采用PECVD技术以高纯四氟化碳为工作气体对所烧结处理后的多层膜实施等离子体处理。通过上述步骤所获得的多层膜具有优异的超疏水和导热功能,在电子元器件散热和防水方面具有很好的应用前景。

    一种透明超疏水玻璃的制备方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114409264A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210033583.2

    申请日:2022-01-12

    申请人: 三峡大学

    IPC分类号: C03C15/00 C03C17/22

    摘要: 本发明公开了一种透明超疏水玻璃表面及其制备方法,将玻璃基片放入氢氟酸溶液中进行腐蚀;将所腐蚀的玻璃基片清洗干净后放入氢氧化钠溶液中进行腐蚀;将所腐蚀的玻璃清洗干燥后,采用等离子体增强化学气相沉积技术依次以甲烷、氢气与硅烷混合气为工作气体在其表面制备碳化硅薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术依次以甲烷、四氟化碳、氧气为工作气体对所制备的碳化硅薄膜实施等离子体处理,得到透明超疏水玻璃。通过上述步骤便可获得一种具有优异超疏水、自清洁和透明性能的玻璃表面。本发明所获得的这种透明超疏水玻璃表面在汽车挡风玻璃、建筑玻璃、建筑幕墙、太阳能光伏电池板等的自清洁技术方面具有很好的应用。