公开(公告)号：CN110872685A

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201910271989.2

申请日：2019-04-04

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金仁培 ,  金佑荣 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  B23K26/382 ,  H01L51/56

摘要： 本发明公开一种沉积掩膜及其制造方法。本发明的一实施例公开了一种沉积掩膜制造方法，包括如下步骤：在基底层的一整面形成金属镀覆层；进行热处理以使所述金属镀覆层的晶粒变大；以及在所述金属镀覆层上照射激光,从而打通贯穿至所述基底层的图案孔。

公开(公告)号：CN118159090A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202311576387.0

申请日：2023-11-24

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金佑荣 ,  金寿桢 ,  河载兴

IPC分类号： H10K59/38 ,  H10K59/12 ,  H10K59/80 ,  G02B27/01

摘要： 提供了显示装置和头戴式显示装置。显示装置包括衬底、包括第一电极、第二电极和布置在第一电极与第二电极之间并且在发光区域中发射光的有机发光层的有机发光元件层、覆盖有机发光元件层的封装层、布置在多个发光区域中并且包括具有不同颜色的多个滤色器的滤色器层以及布置在封装层与滤色器层之间并且包括布置在有机发光层的光路上的光控制图案的光控制图案层。

公开(公告)号：CN110872685B

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN201910271989.2

申请日：2019-04-04

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金仁培 ,  金佑荣 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  B23K26/382 ,  H10K71/16

摘要： 本发明公开一种沉积掩膜及其制造方法。本发明的一实施例公开了一种沉积掩膜制造方法，包括如下步骤：在基底层的一整面形成金属镀覆层；进行热处理以使所述金属镀覆层的晶粒变大；以及在所述金属镀覆层上照射激光,从而打通贯穿至所述基底层的图案孔。

公开(公告)号：CN117858574A

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202311054920.7

申请日：2023-08-22

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 李庚禧 ,  权五正 ,  金佑荣 ,  李祯雨

IPC分类号： H10K59/80 ,  H10K50/856 ,  H10K50/844 ,  H01L27/15 ,  H01L33/52 ,  H01L33/60 ,  H01L33/00 ,  H10K71/00 ,  H10K59/12

摘要： 提供了显示装置。该显示装置包括：包括发光区域和非发光区域的衬底、布置在衬底上的发光区域中的发光元件、布置在发光元件上的封装层和布置在封装层上的反射调节层。反射调节层包括与封装层相邻的第一部分和布置在第一部分上的第二部分，并且第一部分的固化率和第二部分的固化率不同。

公开(公告)号：CN118251046A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311507308.0

申请日：2023-11-13

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 李泓燃 ,  权五正 ,  郑承娟 ,  姜慧智 ,  金佑荣 ,  金泰昊 ,  李美禾

IPC分类号： H10K59/12 ,  H10K59/80 ,  C22B30/06 ,  C22B59/00

摘要： 公开了一种显示装置的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：在基底上形成发光元件层；在发光元件层上共沉积铋(Bi)和镱(Yb)以形成第一无机吸收层；以及在第一无机吸收层上形成反射控制层。在共沉积的步骤中，铋(Bi)的沉积温度在约500℃至约850℃的范围内，镱(Yb)的沉积温度在约300℃至约550℃的范围内，并且第一无机吸收层的消光系数小于或等于约3。

公开(公告)号：CN115955878A

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN202211199846.3

申请日：2022-09-29

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 郑承娟 ,  权五正 ,  姜慧智 ,  金佑荣 ,  金泰昊 ,  李泓燃

IPC分类号： H10K59/123 ,  H10K59/38 ,  H10K59/131 ,  H10K59/121

摘要： 提供了一种显示设备，所述显示设备包括：基底；第一发光器件、第二发光器件和第三发光器件，布置在基底上并且通过发射彼此不同的波长的光而分别形成发射区域；低反射层，布置在第一发光器件、第二发光器件和第三发光器件上并且包括无机材料；遮光层，对应于发射区域之间的非发射区域布置在低反射层上方并且具有对应于发射区域的开口；滤色器层，仅对应于第一发光器件、第二发光器件和第三发光器件之中的第一发光器件布置在遮光层的开口中；以及反射控制层，布置在遮光层和滤色器层上。

公开(公告)号：CN113888963A

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN202110645784.3

申请日：2021-06-10

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 徐政汉 ,  金佑荣 ,  成宇镛

IPC分类号： G09F9/30 ,  G06F3/041

摘要： 一种显示设备包括：基板，包括前表面、从所述前表面的侧面延伸的侧表面、以及在所述侧表面之间的拐角；第一显示区域，在前表面处并且包括第一像素电极、设置在第一像素电极上的第一发射层、以及设置在第一发射层上的第一公共电极；第二显示区域，在拐角处并且包括第二像素电极、第二像素电极上的第二发射层、以及第二发射层上的第二公共电极；第一无机封装层，在第一公共电极和第二公共电极上；有机封装层，在第一显示区域中的第一无机封装层上；以及第二无机封装层，在第一显示区域中的有机封装层上和第二显示区域中的第一无机封装层上。

公开(公告)号：CN112992988A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011474473.7

申请日：2020-12-14

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 徐政汉 ,  成宇镛 ,  宋昇勇 ,  秋惠容 ,  金佑荣 ,  尹瓘赫

IPC分类号： H01L27/32

摘要： 提供了一种显示设备。所述显示设备可以包括：基体基底，包括至少一个弯曲区域和与弯曲区域相邻的非弯曲区域，并且具有柔性性质；电路器件层，位于基体基底上，电路器件层包括薄膜晶体管；显示器件层，位于电路器件层上，显示器件层包括连接到薄膜晶体管的有机发光二极管；封装层，覆盖显示器件层，并且包括顺序地堆叠的第一无机层、有机层和第二无机层；以及凹槽，与弯曲区域叠置，凹槽穿透显示器件层和电路器件层，并且第一无机层和第二无机层中的至少一个覆盖凹槽。

公开(公告)号：CN116264785A

公开(公告)日：2023-06-16

申请号：CN202211562552.2

申请日：2022-12-07

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金佑荣 ,  姜慧智 ,  权五正 ,  金竟钟 ,  李泓燃 ,  张成圭 ,  郑承娟

IPC分类号： H10K50/844 ,  H10K50/86

摘要： 一种显示装置包括：基底；第一电极，在所述基底上；堤层，局部地暴露所述第一电极的顶表面；发光层，设置在所述第一电极的局部地暴露的所述顶表面上；第二电极，在所述发光层和所述堤层上；无机沉积层，在所述第二电极上；以及薄膜封装层，在所述无机沉积层上，其中，对于具有大约550纳米(nm)的波长的光，所述无机沉积层的吸光系数(k)小于大约4。

公开(公告)号：CN115835702A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202211076253.8

申请日：2022-09-05

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 权五正 ,  郑承娟 ,  金佑荣 ,  李泓燃

IPC分类号： H10K59/122 ,  H10K59/123 ,  H10K59/126 ,  H10K59/131 ,  H10K59/40

摘要： 公开了显示装置。显示装置包括衬底、排列在衬底上的显示元件、排列在显示元件上的低反射无机层、排列在低反射无机层上并且包括与显示元件的发射区域对应的开口的遮光层、排列在遮光层上并且包括与显示元件的发射区域对应的开口的第一绝缘层以及填充遮光层的开口和第一绝缘层的开口的第二绝缘层，其中，第一绝缘层包括吸收约380nm至约500nm的波长带中的光的材料，并且第一绝缘层的厚度大于遮光层的厚度。