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公开(公告)号：CN114686237B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202111474948.7
申请日：2021-12-03
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 一种用于含银薄膜的蚀刻组合物，所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、磺酸化合物、有机酸化合物、硝酸盐、金属氧化剂、氨基酸化合物以及水。
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公开(公告)号：CN109811345B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201811389335.1
申请日：2018-11-21
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 提供一种蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法，所述蚀刻剂包括：基于蚀刻剂的总重量，大约1wt％至大约15wt％的硫化过氧化物、大约5wt％至大约10wt％的硝酸、大约20wt％至大约40wt％的有机酸、大约0.05wt％至大约5wt％的硝酸铁、大约0.1wt％至大约5wt％的离子螯合剂以及大约0.1wt％至大约5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。
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公开(公告)号：CN105385450B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201510540872.1
申请日：2015-08-28
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 本发明公开了一种蚀刻剂组成物及利用此的透明电极形成方法，所述蚀刻剂组成物包括：硝酸，3重量％以上且小于10重量％；氯化物，0.01重量％以上且5重量％以下；氨化合物，0.1重量％以上且5重量％以下；环状氨基化合物，0.1重量％以上且5重量％以下；其余重量％的水。据此，可以通过选择性地蚀刻金属氧化层，防止包括铜、钛、钼或者铝的金属层的蚀刻。
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公开(公告)号：CN105385450A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510540872.1
申请日：2015-08-28
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 本发明公开了一种蚀刻剂组成物及利用此的透明电极形成方法，所述蚀刻剂组成物包括：硝酸，3重量％以上且小于10重量％；氯化物，0.01重量％以上且5重量％以下；氨化合物，0.1重量％以上且5重量％以下；环状氨基化合物，0.1重量％以上且5重量％以下；其余重量％的水。据此，可以通过选择性地蚀刻金属氧化层，防止包括铜、钛、钼或者铝的金属层的蚀刻。
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公开(公告)号：CN111041491B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN201910964728.9
申请日：2019-10-11
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 本公开涉及蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。蚀刻剂包括大约8wt％至大约12wt％的硝酸、大约3wt％至大约8wt％的烷基磺酸、大约7wt％至大约12wt％的硫酸盐、大约40wt％至大约55wt％的有机酸、大约0.5wt％至大约5wt％的有机酸盐和余量的水。
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公开(公告)号：CN114686237A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111474948.7
申请日：2021-12-03
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 一种用于含银薄膜的蚀刻组合物，所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、磺酸化合物、有机酸化合物、硝酸盐、金属氧化剂、氨基酸化合物以及水。
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公开(公告)号：CN104651839B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201410668929.1
申请日：2014-11-20
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 本发明涉及蚀刻剂和使用其制造显示器的方法。所述蚀刻剂包括基于所述蚀刻剂的总量的约0.5‑约20重量％的过硫酸盐、约0.01‑约2重量％的氟化合物、约1‑约10重量％的无机酸、约0.5‑约5重量％的唑化合物、约0.1‑约5重量％的给电子化合物、约0.1‑约5重量％的氯化合物、约0.05‑约3重量％的铜盐、约0.1‑约10重量％的有机酸或有机酸盐、和余量的水。
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公开(公告)号：CN104651839A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410668929.1
申请日：2014-11-20
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 本发明涉及蚀刻剂和使用其制造显示器的方法。所述蚀刻剂包括基于所述蚀刻剂的总量的约0.5-约20重量％的过硫酸盐、约0.01-约2重量％的氟化合物、约1-约10重量％的无机酸、约0.5-约5重量％的唑化合物、约0.1-约5重量％的给电子化合物、约0.1-约5重量％的氯化合物、约0.05-约3重量％的铜盐、约0.1-约10重量％的有机酸或有机酸盐、和余量的水。
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公开(公告)号：CN116445915A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210611774.2
申请日：2022-05-31
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
IPC分类号： C23F1/30 , C23F1/02 , H01L21/3213 , H10K59/123 , H10K71/00 , H01L21/77
摘要： 本发明公开了蚀刻液组合物、利用其的金属图案的制造方法以及显示装置的制造方法，根据本发明的一实施例的蚀刻液组合物包含：8重量％以上且15重量％以下的硝酸；3重量％以上且8重量％以下的烷基磺酸；25重量％以上且55重量％以下的有机酸；15重量％以上且25重量％以下的硫酸盐；0.01重量％以上且1.0重量％以下的金属盐；0.5重量％以上且7重量％以下的硝酸盐；以及使得整体组合物的总重量成为100重量％的水。
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公开(公告)号：CN113981448A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202110294896.9
申请日：2021-03-19
申请人： 三星显示有限公司 , 东友精细化工有限公司
摘要： 提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示设备的方法。所述蚀刻剂组合物包括：约8wt％至约15wt％的无机酸化合物；约2.5wt％至约8wt％的磺酸化合物；约6wt％至约14wt％的硫酸盐化合物；约40wt％至约55wt％的有机酸化合物；约0.01wt％至约0.06wt％的金属或金属盐；以及余量的水。
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