公开(公告)号：CN113981448A

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN202110294896.9

申请日：2021-03-19

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 朴种熙 ,  金眞锡 ,  权五柄 ,  南基龙 ,  尹暎晋 ,  李昔准 ,  李原昊

IPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/26 ,  C23F1/20 ,  C23F1/02

摘要： 提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示设备的方法。所述蚀刻剂组合物包括：约8wt％至约15wt％的无机酸化合物；约2.5wt％至约8wt％的磺酸化合物；约6wt％至约14wt％的硫酸盐化合物；约40wt％至约55wt％的有机酸化合物；约0.01wt％至约0.06wt％的金属或金属盐；以及余量的水。

公开(公告)号：CN113539820A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202110356712.7

申请日：2021-04-01

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金永大 ,  金眞锡 ,  朴种熙

IPC分类号： H01L21/3213 ,  H01L21/67

摘要： 公开了一种基底加工设备、一种显示面板制造设备和一种制造显示面板的方法。该基底加工设备包括：第一工艺腔室，在第一工艺腔室中加工目标基底；第一罐，连接到第一工艺腔室，以将第一化学物质供应到第一工艺腔室；第二工艺腔室，在第二工艺腔室中加工目标基底；以及第二罐，连接到第二工艺腔室，以将第二化学物质供应到第二工艺腔室。供应到第一工艺腔室的第一化学物质中包含的金属离子具有比供应到第二工艺腔室的第二化学物质中包含的金属离子的离子浓度大的离子浓度。