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发明公开
衬底处理设备和利用其的衬底对准方法审中-实审

公开(公告)号：CN116646293A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202310155823.0

申请日：2023-02-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金大中 , 康玟荣 , 金成洙 , 金邵姬 , 俞勇守

IPC: H01L21/68

Abstract: 一种衬底对准方法包括：通过将衬底运载至室中并且将衬底设置在室的装载区中来执行衬底处理工艺；捕获衬底的下表面的图像以获取第一图像；从第一图像中识别在衬底处理工艺中形成在衬底的下表面上的颗粒图案以及衬底的边缘；计算从颗粒图案计算的装载区的中心的近似位置值与从衬底的边缘计算的衬底的中心的近似位置值之间的偏差的第一对准误差值；以及基于第一对准误差值来确定用于教导将衬底放置在室中的转移机器人的时间点。

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