公开(公告)号：CN101286445B

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：CN200810092186.2

申请日：2008-04-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  FNS技术有限公司

Inventor： 崔浩根 ,  金龙佑 ,  李明基 ,  金八坤

IPC: H01L21/00 ,  C03C15/00

CPC classification number: H01L21/68707 ,  C03C15/00 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明公开了一种平板显示器的玻璃基底的蚀刻设备和一种蚀刻平板显示器的玻璃基底的方法，该蚀刻设备包括：蚀刻室，被构造成容纳夹具；玻璃基底，设置在夹具上；夹持构件，连接到夹具，以夹持玻璃基底；传送线，连接到夹具，以将夹具传送到蚀刻室中；喷射构件，将蚀刻剂喷射到玻璃基底的表面上。蚀刻剂的喷射压强等于或大于大致0.1kg/cm2，且小于大致0.5kg/cm2。

公开(公告)号：CN101266916B

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN200710186169.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 三星电子株式会社 ,  FNS技术有限公司

Inventor： 崔浩根 ,  姜兴圭 ,  金龙佑 ,  金八坤

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/67712 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/6776

Abstract: 一种基板处理装置包括处理腔、固定框架、进料单元和供给单元。基板安装在固定框架上，供给单元从基板的各个侧面间隔分开以向基板供给处理流体，以及进料单元向与基板纵向平行的方向传送固定框架。自动进行处理可减少基板损耗和对基板进行有效处理。

公开(公告)号：CN101114122A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710138606.1

申请日：2007-07-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔浩根 ,  金龙佑

IPC: G03F7/00 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/67086

Abstract: 本发明提供一种蚀刻装置和蚀刻方法，其中施加在基板上的压力被最小化，且基板的整个表面在蚀刻工艺期间被均匀地施压。基板的破损被防止，且基板被均匀地蚀刻。因此，基板的厚度可被减小。

公开(公告)号：CN101286445A

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200810092186.2

申请日：2008-04-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  FNS技术有限公司

Inventor： 崔浩根 ,  金龙佑 ,  李明基 ,  金八坤

IPC: H01L21/00 ,  C03C15/00

CPC classification number: H01L21/68707 ,  C03C15/00 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明公开了一种平板显示器的玻璃基底的蚀刻设备和一种蚀刻平板显示器的玻璃基底的方法，该蚀刻设备包括：蚀刻室，被构造成容纳夹具；玻璃基底，设置在夹具上；夹持构件，连接到夹具，以夹持玻璃基底；传送线，连接到夹具，以将夹具传送到蚀刻室中；喷射构件，将蚀刻剂喷射到玻璃基底的表面上。蚀刻剂的喷射压强等于或大于大致0.1kg/cm2，且小于大致0.5kg/cm2。

公开(公告)号：CN101266916A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200710186169.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 三星电子株式会社 ,  FNS技术有限公司

Inventor： 崔浩根 ,  姜兴圭 ,  金龙佑 ,  金八坤

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/67712 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/6776

Abstract: 一种基板处理装置包括处理腔、固定框架、进料单元和供给单元。基板安装在固定框架上，供给单元从基板的各个侧面间隔分开以向基板供给处理流体，以及进料单元向与基板纵向平行的方向传送固定框架。自动进行处理可减少基板损耗和对基板进行有效处理。

公开(公告)号：CN101140374A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710141809.6

申请日：2007-08-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔浩根 ,  郑培铉 ,  金龙佑

IPC: G02F1/1333 ,  C03C15/00

Abstract: 本发明提供可以均匀地蚀刻玻璃基板的蚀刻液供应装置、蚀刻装置以及蚀刻方法。本发明所提供的蚀刻液供应装置，用于向在蚀刻槽中蚀刻玻璃基板的蚀刻装置供应由包含水、氢氟酸以及无机酸的多种成分组成的蚀刻液，并具有：蚀刻液容器，用于回收蚀刻槽中使用过的蚀刻液；蚀刻液移送部，用于将蚀刻液容器的蚀刻液供应到蚀刻槽；浓度测定单元，用于测定蚀刻液容器中蚀刻液组成成分的至少一部分可控组成成分浓度；组成成分供应部，用于将可控组成成分分别供应到蚀刻液容器；控制部，用于根据浓度测定单元的测定结果控制组成成分供应部供应可控组成成分。