公开(公告)号：CN107924859A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201580082306.9

申请日：2015-08-21

申请人： 应用材料公司

发明人： 沃尔夫冈·克莱因 ,  奥利弗·海默尔 ,  西蒙·刘

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/68764 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776

摘要： 提供一种用于基板(10)的运输的设备(100)。设备(100)包括真空腔室(110)和磁悬浮系统(120)，真空腔室(110)具有经构造以将真空侧(101)从大气侧(102)分开的腔室壁，磁悬浮系统(120)经构造以用于真空腔室(110)中的基板载体(140)的非接触悬浮。磁悬浮系统(120)包括至少一个磁性装置(122)和至少一个保持单元(130)，至少一个磁性装置(122)经构造以用于在真空腔室(110)中的基板载体(140)沿着运输路径的运输期间提供作用在基板载体(140)上的磁力(F)，至少一个保持单元(130)经构造以保持至少一个磁性装置(122)可从大气侧(102)接取。

公开(公告)号：CN103329257B

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201180065526.2

申请日：2011-10-28

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 大野哲宏 ,  佐藤重光 ,  大空弘树 ,  佐藤善胜 ,  松冈隆滋

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  C23C14/50

CPC分类号： B65G49/063 ,  B65G49/061 ,  B65G2249/02 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776

摘要： 一种被处理体的运送机构具备：运送部件，在下部具备圆柱状的滑动轴并运送被处理体；支撑部件，由具备与所述滑动轴相接并引导所述运送部件的U字状的槽部的多个辊构成，在所述被处理体的运送机构中，所述滑动轴及所述辊中一方的至少接触部由包括硅、铝、氧及氮的块体构成，所述滑动轴及所述辊中另一方的至少接触部由不锈钢构成。

公开(公告)号：CN102057082B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN200980120857.4

申请日：2009-04-07

申请人： MECO设备工程有限公司

发明人： 罗纳德·朗格瑞茨 ,  格雷戈留斯·约翰尼斯·贝尔滕斯

IPC分类号： C25D17/00 ,  C25D17/06 ,  C25D17/28 ,  B65G17/20 ,  B65G49/02 ,  F24J2/46

CPC分类号： C25D17/001 ,  C25D17/005 ,  C25D17/06 ,  C25D17/28 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/18

摘要： 本发明提供一种用于制造太阳能电池的方法，包括以下步骤：提供包含玻璃衬底的硅，在每个衬底的至少一侧上设置有导电材料；将每个衬底的至少一部分连续地传送通过存在于电解槽中的电解溶液；在将衬底传送通过电解槽的期间连接导电材料作为阴极，以在所述传送期间将来自电解溶液中的材料电镀到导电材料上，其中，衬底在传送期间挂在传送元件上并在传送方向上延伸。本发明进一步提供一种用于制造太阳能电池的装置。

公开(公告)号：CN104704624A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201380051490.1

申请日：2013-09-24

申请人： 应用材料公司

发明人： 戴维·K·卡尔森

IPC分类号： H01L21/677

CPC分类号： H01L21/6776 ,  C23C16/4587 ,  C23C16/481 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712

摘要： 在一些实施方式中，一种具索引的串联基板处理工具可包括：具有基底和一对相对的基板支撑件的基板载体，所述相对的基板支撑件具有从基底向上和向外延伸的各自的基板支撑表面；和以线性布置耦接至彼此的多个模块，其中多个模块的每一模块包括具有第一端、第二端和下表面的壳体，所述下表面用来支撑基板载体并且为基板载体提供线性地移动穿过多个模块的路径，并且其中多个模块的至少一个模块包括：设置在壳体的侧面中的窗口；耦接至壳体的侧面的加热灯；贴近壳体的顶部设置的进气口；和与进气口相对设置的排气装置。

公开(公告)号：CN102456530B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201110120191.1

申请日：2011-05-06

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金玄圭 ,  金相洙

IPC分类号： H01J37/317

CPC分类号： H01L21/67213 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L27/1259

摘要： 本发明涉及可向大面积基板注入离子并且可以节省制造成本的离子注入系统以及利用该系统的离子注入方法。

公开(公告)号：CN101767717B

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN200910150901.8

申请日：2009-06-25

申请人： 英属开曼群岛商精曜有限公司

发明人： 雷仲礼 ,  麦华山 ,  刘弘苍 ,  朴乾兑 ,  朴相珣 ,  吴子仲 ,  朱乐聪 ,  罗恩·罗斯 ,  申镇宇 ,  王晓明

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/00 ,  B65G49/05 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L21/67173 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67727 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67748 ,  Y10S414/135

摘要： 本发明是一种传送基板至二个或多个的工艺模块的方法，其包括下列步骤。将至少一基板加载至一个或多个横向移动室内，其中横向移动室承载于邻近两个或多个工艺模块的一轨道上，且每一横向移动室在基板进行传送时维持一特定气体条件。启动一个或多个驱动系统以推动一个或多个横向移动室沿着轨道移动。将横向移动室接合至至少一工艺模块，并将至少一基板从横向移动室传送到至少一工艺模块。

公开(公告)号：CN101826481B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201010122181.7

申请日：2010-03-02

申请人： 佳能安内华股份有限公司

发明人： 马岛和之 ,  御所窪玄

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/67748 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67715 ,  H01L21/68707

摘要： 本发明提供一种基板支承装置、基板处理装置及基板支承方法，能够确保托盘保持的可靠性及动作的可靠性，提高生产性。基板支承装置具有：用于搭载基板(12)的托盘(8)；用于在托盘为铅垂姿态的状态下保持托盘径向两端部的托盘两端保持机构；用于保持托盘中心部以使托盘能够旋转的托盘中央保持机构(13)；用于使装置主体移动的移动机构(11)。托盘两端保持机构从托盘的板厚方向两侧把持托盘径向两端部，在移动过程中，托盘两端保持机构保持托盘；在从托盘两端保持机构向托盘中央保持机构交接时，由两保持机构保持托盘，在基板处理时，由托盘中央保持机构保持托盘的中心部以使托盘能够旋转，解除由托盘两端保持机构进行的保持。

公开(公告)号：CN102300796A

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN201080006303.4

申请日：2010-01-08

申请人： 富士电机株式会社

发明人： 横山胜治 ,  山田隆典 ,  和田刚典

IPC分类号： B65H23/025 ,  B65H23/038 ,  H01L21/205 ,  H01L31/04

CPC分类号： B65H20/02 ,  B65H23/038 ,  B65H2301/321 ,  B65H2301/323 ,  B65H2301/325 ,  B65H2403/942 ,  B65H2404/144 ,  B65H2404/1451 ,  C23C14/562 ,  C23C16/545 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/03926 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521 ,  Y10T156/17

摘要： 一种处理设备中的柔性基板位置控制设备(100)，该柔性基板位置控制设备以垂直方位在水平方向传输带状柔性基板(1)，并由安装在基板的传输路径中的处理单元进行基板的处理，它设置有：一对夹持辊(131，132)，夹持基板的上边缘；支撑机构(140)，可旋转地支撑一对夹持辊，同时允许这些辊彼此互相接触和分离；施力装置(150)，用于经由支撑机构向一对夹持辊施加压力；以及调节装置(160)，用于调节由施力装置施加的压力。一对夹持辊具有倾斜度，其中相对于基板的夹持面的加压方向为朝向基板宽度方向的边缘，且一对夹持辊由支撑机构支撑，以使夹持面处的旋转方向与基板的传输方向为相同方向。柔性基板位置控制设备能够抑制带状柔性基板的下垂和皱纹的出现，并且在实现高质量的处理同时，能够处理柔性基板在相反方向上的传输。

公开(公告)号：CN102005212A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN201010273157.3

申请日：2010-09-02

申请人： 佳能安内华股份有限公司

发明人： 曾根浩 ,  东坂隆嗣 ,  吉林和俊 ,  佐藤辰宪 ,  高桥达宏

IPC分类号： G11B5/84 ,  G11B7/26 ,  C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  B25J9/02 ,  B25J19/00

CPC分类号： B25J9/042 ,  B25J15/0052 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67766 ,  Y10S414/141

摘要： 本发明涉及一种包括用于衬底转移的机械手的真空处理设备以及一种衬底转移方法。根据本发明的机械手包括驱动机构、可转动地连接到驱动机构的第一臂、可转动地连接到第一臂的第二臂、和可转动地布置在第二臂的远端处的X状的端部执行器。在端部执行器的四个远端中，两个远端包括可以沿着一个方向保持衬底的保持单元，并且剩余的两个远端包括可以沿着相反的方向保持衬底的保持单元。

公开(公告)号：CN101990585A

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200980112430.X

申请日：2009-06-05

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 清水康男 ,  小形英之 ,  松本浩一 ,  野口恭史 ,  若森让治 ,  冈山智彦 ,  森冈和 ,  杉山哲康 ,  重田贵司 ,  栗原広行

IPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/24 ,  H01L31/04

CPC分类号： C23C16/4587 ,  C23C16/24 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67754 ,  H01L31/076 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

摘要： 一种成膜装置包括：成膜室(11)，在真空中将希望的膜成膜在基板(W)上；放入取出室(13)，经由第一开闭部(25)被固定于所述成膜室(11)，并能将内部减压为真空气氛；第二开闭部(36)，设置在所述放入取出室(13)的、与设置有所述第一开闭部(25)的面相反的面上；以及托架(21)，以所述基板(W)的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板(W)，所述托架或所述基板(W)通过所述第二开闭部(36)被搬入、搬出所述放入取出室(13)，在所述放入取出室(13)中并列配置多个所述托架(21)，在所述放入取出室(13)与所述成膜室(11)之间所述多个托架(21)被并列地搬入或搬出，在所述成膜室(11)中对保持在所述多个托架(21)上的多个所述基板(W)同时进行成膜。