用于薄膜沉积的掩模框架组件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102766841A

    公开(公告)日:2012-11-07

    申请号:CN201210005289.7

    申请日:2012-01-06

    Inventor: 洪宰敏

    CPC classification number: C23C16/042 C23C14/042 Y10T29/49826

    Abstract: 本发明公开了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件及其制造方法,可用安装在框架上同时彼此交叉的支撑条和多个棒形拼合掩模来构造该掩模框架组件。通过在支撑条与多个拼合掩模交叉的点处彼此焊接支撑条和拼合掩模而将支撑条和拼合掩模彼此固定,并通过切除拼合掩模的部分,在每个焊点的周围形成局部切除部分。增强了拼合掩模与基底之间的附着,并通过使用支撑条,防止了拼合掩模下垂。

    单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法

    公开(公告)号:CN102201550A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN201110069548.8

    申请日:2011-03-17

    Inventor: 洪宰敏 金京汉

    CPC classification number: H01L51/0011 H01L51/50

    Abstract: 本发明涉及单元掩膜、掩膜组件和制造显示设备的方法。所述掩模组件包括:框架,包括开口部件;和单元掩模,其在沿一个方向施加拉力的状态下布置在所述开口上并且使所述单元掩模中的每一个的两个端部由所述框架支撑,所述单元掩模中的每一个包括:图案开口部件,沿所述一个方向布置;以及第一槽,布置成与所述图案部件相邻并且在所述图案开口部件与所述单元掩模的边缘之间,并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

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