公开(公告)号：CN101307444B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200810086825.4

申请日：2008-03-19

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 曹奎哲 ,  金广男

IPC: C23F1/14 ,  C23C30/00

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/458 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/66765 ,  H01L51/0023

Abstract: 本实施例涉及一种蚀刻剂和利用该蚀刻剂制造包括薄膜晶体管的电子装置的方法。该蚀刻剂包括氟离子(F-)源、过氧化氢(H2O2)、硫酸盐、磷酸盐、唑类化合物和溶剂。该蚀刻剂和包括薄膜晶体管的电子装置的制造方法可批量地蚀刻包括铜层和钛或钛合金层的多层膜，并可以以高产量提供具有良好的图案轮廓的薄膜晶体管。当对该蚀刻剂进行再利用时，可保持均匀的蚀刻性能，且蚀刻剂的更换周期长，因此可节约成本。

公开(公告)号：CN102463237A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110159759.0

申请日：2011-06-08

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 郑炳和 ,  金广男

IPC: B08B7/04 ,  B08B3/08

CPC classification number: B08B3/041 ,  B08B3/022 ,  B08B5/02 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供了一种基底清洁系统和方法，所述基底清洁系统包括：运送单元，具有用于运送基底的多个辊，其中，所述多个辊中的每个辊包括辊轴和结合到辊轴的多个分隔辊，多个辊轴中相邻的辊轴之间的间隙大于所述多个分隔辊中的每个分隔辊的半径；第一冲洗单元，沿所述运送单元设置，并被构造成将第一清洁液施加到所述基底上；清洁单元，包括狭缝喷嘴并被构造成在基底与所述第一冲洗单元相遇之后将第二清洁液涂覆到所述基底上。