能够控制混合比的涂覆设备及其方法

    公开(公告)号:CN101569880B

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN200810126439.3

    申请日:2008-06-26

    CPC classification number: G05D11/003 B05B7/32 B05B12/1445

    Abstract: 一种能够控制混合比的涂覆设备,包括:具有主轴的主轴电机单元,混合比控制杆的上端部分与该主轴接合,控制杆的上端部分随着主轴的旋转在主轴上移动;以及基于测定的流量计算主涂覆剂和硬化剂混合比并且当计算的主涂覆剂与硬化剂的混合比落在预设的混合比的容差范围外时控制主轴的旋转的控制单元。主涂覆剂与硬化剂的混合比根据混合比控制杆的上端部分在主轴上的位置进行调节。

    局部净化系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102695579B

    公开(公告)日:2015-09-02

    申请号:CN201080051788.9

    申请日:2010-08-31

    CPC classification number: B23K9/326

    Abstract: 公开了一种局部净化系统。所述局部净化系统用于对管内部进行密封和净化,包括:一对相互连接的圆柱体;安装在各所述圆柱体中的气囊;摄像单元,其可旋转地设置在各所述圆柱体中以监控所述管内的背面焊缝;用于使所述摄像单元旋转的DC电机单元;及用于向所述DC电机单元提供驱动信号的控制单元。所述控制单元包括:输入单元,其用于通过工人的操作生成模拟信号;微处理器,将所述模拟信号作为输入而生成PWM信号;及驱动单元,其将所述PWM信号作为输入而生成提供至所述DC电机单元的所述驱动信号。

    局部净化系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102695579A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201080051788.9

    申请日:2010-08-31

    CPC classification number: B23K9/326

    Abstract: 公开了一种局部净化系统。所述局部净化系统用于对管内部进行密封和净化,包括:一对相互连接的圆柱体;安装在各所述圆柱体中的气囊;摄像单元,其可旋转地设置在各所述圆柱体中以监控所述管内的背面焊缝;用于使所述摄像单元旋转的DC电机单元;及用于向所述DC电机单元提供驱动信号的控制单元。所述控制单元包括:输入单元,其用于通过工人的操作生成模拟信号;微处理器,将所述模拟信号作为输入而生成PWM信号;及驱动单元,其将所述PWM信号作为输入而生成提供至所述DC电机单元的所述驱动信号。

    能够控制混合比的涂覆设备及其方法

    公开(公告)号:CN101569880A

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:CN200810126439.3

    申请日:2008-06-26

    CPC classification number: G05D11/003 B05B7/32 B05B12/1445

    Abstract: 一种能够控制混合比的涂覆设备,包括:具有主轴的主轴电机单元,混合比控制杆的上端部分与该主轴接合,控制杆的上端部分随着主轴的旋转在主轴上移动;以及基于测定的流量计算主涂覆剂和硬化剂混合比并且当计算的主涂覆剂与硬化剂的混合比落在预设的混合比的容差范围外时控制主轴的旋转的控制单元。主涂覆剂与硬化剂的混合比根据混合比控制杆的上端部分在主轴上的位置进行调节。

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