公开(公告)号：CN100406481C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200480003128.8

申请日：2004-01-29

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 百濑阳 ,  大竹敦 ,  上田昭史 ,  藤原匡之 ,  竹下优 ,  林亮太郎 ,  岩井武

IPC: C08F220/34 ,  C08F220/12 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物及抗蚀剂组合物，其中该抗蚀剂用聚合物包括具有氰基的特定构成单元、具有酸脱去性基团的构成单元、具有内酯骨架的特定构成单元，且在DUV准分子激光刻蚀、电子束刻蚀等中作为抗蚀剂树脂使用时，为高灵敏度、高分辨率，且抗蚀剂图案形状良好，轮廓边缘不平的产生、微凝胶的生成少。

公开(公告)号：CN1745114A

公开(公告)日：2006-03-08

申请号：CN200480003128.8

申请日：2004-01-29

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 百濑阳 ,  大竹敦 ,  上田昭史 ,  藤原匡之 ,  竹下优 ,  林亮太郎 ,  岩井武

IPC: C08F220/34 ,  C08F220/12 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物及抗蚀剂组合物，其中该抗蚀剂用聚合物包括具有氰基的特定构成单元、具有酸脱去性基团的构成单元、具有内酯骨架的特定构成单元，且在DUV准分子激光刻蚀、电子束刻蚀等中作为抗蚀剂树脂使用时，为高灵敏度、高分辨率，且抗蚀剂图案形状良好，轮廓边缘不平的产生、微凝胶的生成少。