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公开(公告)号：CN1745114A
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200480003128.8
申请日：2004-01-29
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C08F220/34 , C08F220/12 , G03F7/039
摘要： 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物及抗蚀剂组合物，其中该抗蚀剂用聚合物包括具有氰基的特定构成单元、具有酸脱去性基团的构成单元、具有内酯骨架的特定构成单元，且在DUV准分子激光刻蚀、电子束刻蚀等中作为抗蚀剂树脂使用时，为高灵敏度、高分辨率，且抗蚀剂图案形状良好，轮廓边缘不平的产生、微凝胶的生成少。
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公开(公告)号：CN1930194A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200580007225.9
申请日：2005-03-08
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价恶唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L1和L2表示－C(O)O－、－C(O)－、－OC(O)－中的至少一种，M1、M2、M3表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种，Y、Y1、及Y2表示酸分解性键。k1、k2、11、12、m1、m2及m3为0或1。R1表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号：CN101823989B
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010145635.2
申请日：2005-03-08
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07C323/52 , C07C319/02
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由下述式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价恶唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L1和L2表示-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-中的至少一种，M1、M2、M3表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种，Y、Y1、及Y2表示酸分解性键。k1、k2、l1、l2、m1、m2及m3为0或1。R1表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号：CN1930194B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580007225.9
申请日：2005-03-08
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由下述式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价恶唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L1和L2表示-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-中的至少一种，M1、M2、M3表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种，Y、Y1、及Y2表示酸分解性键。k1、k2、l1、l2、m1、m2及m3为0或1。R1表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号：CN101823989A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN201010145635.2
申请日：2005-03-08
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07C323/52 , C07C319/02
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由下述式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价噁唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L1和L2表示-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-中的至少一种，M1、M2、M3表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种，Y、Y1、及Y2表示酸分解性键。k1、k2、l1、l2、m1、m2及m3为0或1。R1表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号：CN100406481C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200480003128.8
申请日：2004-01-29
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C08F220/34 , C08F220/12 , G03F7/039
摘要： 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物及抗蚀剂组合物，其中该抗蚀剂用聚合物包括具有氰基的特定构成单元、具有酸脱去性基团的构成单元、具有内酯骨架的特定构成单元，且在DUV准分子激光刻蚀、电子束刻蚀等中作为抗蚀剂树脂使用时，为高灵敏度、高分辨率，且抗蚀剂图案形状良好，轮廓边缘不平的产生、微凝胶的生成少。
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公开(公告)号：CN1737000A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510090805.0
申请日：2002-10-22
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C08G63/00 , G03F7/00
CPC分类号： C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
摘要： 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN1737000B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200510090805.0
申请日：2002-10-22
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C08G63/00 , G03F7/00
CPC分类号： C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
摘要： 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN100453539C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN02146580.0
申请日：2002-10-22
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C09D199/00 , C09D5/08
CPC分类号： C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
摘要： 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组合物，以及用该抗蚀剂组合物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN1413992A
公开(公告)日：2003-04-30
申请号：CN02146580.0
申请日：2002-10-22
申请人： 三菱丽阳株式会社
IPC分类号： C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C09D199/00 , C09D5/08
CPC分类号： C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
摘要： 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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