利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

6 条记录 (耗时 0.021 秒)

    一种提高1-N-乙基庆大霉素Cla收率的合成方法
    3.
    发明公开
    一种提高1-N-乙基庆大霉素Cla收率的合成方法 无效 转让

    公开(公告)号：CN109134558A

    公开(公告)日：2019-01-04

    申请号：CN201811106962.X

    申请日：2018-09-21

    申请人： 常州方圆制药有限公司 ,  上海交通大学

    发明人： 戴俊 ,  孙占奎 ,  蔡振一 ,  钱秀萍 ,  王海东 ,  殷瑜 ,  刘昕

    IPC分类号： C07H15/236 ,  C07H1/00

    CPC分类号： C07H15/236 ,  C07H1/00

    摘要： 本发明公开一种提高1‑N‑乙基庆大霉素Cla收率的合成方法，包括如下步骤，向反应瓶中加入3,2’6’‑N‑三乙酰基庆大霉素C1a、二氯甲烷、脂肪胺，在室温下加入三光气的DCM溶液，反应4‑6h后，冰水淬灭反应，取有机相浓缩得到固体1；将固体1溶于二氯甲烷，加入浓硫酸和硅基化试剂，加热回流后浓缩至干得化合物2；将化合物2溶于二氯甲烷，加入乙醛，搅拌反应后加入缓冲液和硼氢化钾，继续搅拌，浓缩至干得化合物3；将化合物3后处理后得到依替米星成品。本发明针对3”号位的胺基和4”号位的羟基进行了预处理，进而在保护其他胺基和羟基，可以明显提高主反应的收率，大幅降低副反应的发生，提高目标产物收率。

    可见光介导的基于半胱氨酸的多肽和蛋白质化学修饰方法
    4.
    发明公开
    可见光介导的基于半胱氨酸的多肽和蛋白质化学修饰方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN117343124A

    公开(公告)日：2024-01-05

    申请号：CN202310280695.2

    申请日：2023-03-21

    申请人： 上海交通大学

    发明人： 孙占奎 ,  周军亮 ,  刘芸奇

    IPC分类号： C07K1/107 ,  C07K5/078 ,  C07K5/062 ,  C07K5/065 ,  C07K5/068 ,  C07K5/072 ,  C07K5/083 ,  C07K5/087 ,  C07K5/037 ,  C07K7/06 ,  C07K14/47

    摘要： 本发明公开了一种可见光介导的基于半胱氨酸的多肽和蛋白质化学修饰方法；包括如下步骤：含有半胱氨酸的寡肽、多肽或蛋白上的半胱氨酸残基与活化试剂反应原位生成自由基前体；自由基前体在光诱导下脱除硫醇，生成的自由基中间体跟烯烃或炔烃发生加成反应，实现脱巯基以及碳碳键构建，得到多肽及蛋白质化学修饰产物。本发明的设计策略巧妙避免了对手性中心的影响，因此氨基酸残基的手性得以保持。同时，整个设计有助于更好的消除副反应的发生，所以整个转化的效率很高。该反应可以在生理条件下温和进行，同时可以兼容各种类型氨基酸残基以及烯烃或炔烃，具有效率高、应用范围广、氨基酸残基构型保持等优点。

    一种抗菌除甲醛环氧涂料
    5.
    发明公开
    一种抗菌除甲醛环氧涂料 审中-实审

    公开(公告)号：CN117089262A

    公开(公告)日：2023-11-21

    申请号：CN202210524273.0

    申请日：2022-05-13

    申请人： 上海交通大学

    发明人： 孙占奎 ,  周奚焱

    IPC分类号： C09D163/00 ,  C09D5/14 ,  C09D7/61

    摘要： 本发明提供了一种抗菌除甲醛环氧涂料，包括环氧树脂为主体的组分A和有机胺为主体的组分B，所述组分A：环氧树脂90～100份、环氧稀释剂1～10份、聚醚多元醇1～15份、分散剂0.01～2份、流平剂0.01～1份、消泡剂0.01～2份、填料0～50份、三氧化二铋2～20份、溶剂0～50份；所述组分B：脂肪胺5～100份、芳香胺0～50份、消泡剂0.01～2份、填料0～50份、溶剂0～90份。本发明将颗粒度50nm以下的三氧化二铋应用于环氧涂料中，获得了抗菌除甲醛环氧涂料。本发明涂料具有优良的杀菌性和优秀的甲醛吸收性能，同时具有很好的施工性能和很好的涂层性能。