一种活性隔膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109860474B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201811495723.8

    申请日:2018-12-07

    摘要: 一种活性隔膜,该隔膜中包含基膜和可与金属锂反应的活性物质,可与金属锂反应的活性物质分散于基膜中。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯‑六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚丙烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质活性为I2、S、V2O5、MoO3、MnO2、Bi2O3、Bi2Pb2O5、氟化碳、CuCl2、CuF2、CuO、CuS、FeS、FeS2、Ni2S2、AgCl、Ag2CrO4中的一种或多种。所述基膜的制备方法包括熔融拉伸法、热致相分离法、熔喷法、纺粘法、抄纸工艺、流延法、静电纺丝技术、浸涂法。

    一种活性隔膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109860474A

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201811495723.8

    申请日:2018-12-07

    摘要: 一种活性隔膜,该隔膜中包含基膜和可与金属锂反应的活性物质,可与金属锂反应的活性物质分散于基膜中。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯-六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚丙烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质活性为I2、S、V2O5、MoO3、MnO2、Bi2O3、Bi2Pb2O5、氟化碳、CuCl2、CuF2、CuO、CuS、FeS、FeS2、Ni2S2、AgCl、Ag2CrO4中的一种或多种。所述基膜的制备方法包括熔融拉伸法、热致相分离法、熔喷法、纺粘法、抄纸工艺、流延法、静电纺丝技术、浸涂法。

    一种活性材料修饰隔膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109686903A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201811500349.6

    申请日:2018-12-07

    IPC分类号: H01M2/14 H01M2/16

    CPC分类号: H01M2/1666 H01M2/145

    摘要: 本发明公开了一种活性材料修饰隔膜及其制备方法,该隔膜包括:具有绝缘及支撑作用的基膜层、可同锂枝晶反应的活性物质层。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯-六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚炳烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜、无纺布膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质层的制备方法是将活性物质同粘结剂制成混合浆料,然后沉积到基膜上。所述沉积方法是刮涂、转移涂、喷涂、磁控溅射、粒子束溅射、原子层沉积、电子束蒸镀、脉冲激光沉积、气相沉积。所述活性物质层至少沉积于隔膜一侧。