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公开(公告)号：CN105700297A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201410697616.9
申请日：2014-11-27
申请人： 上海微电子装备有限公司
发明人： 庄亚政
CPC分类号： G03F9/7026 , G02B5/1861 , G02B7/305 , G02B26/0816 , G02B26/106 , G02B27/0075 , G03F7/70641 , G03F9/7034 , G03F2007/2067
摘要： 本发明提供了一种振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法，调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜的实时振幅以及光电探测器输出的实时电压值，计算出补偿后的实时解调量Si，并记录工件台的实时离焦量Hi，根据所述补偿后的实时解调量Si和工件台的实时离焦量Hi建立数据库；实际测量时，实时采样所述扫描反射镜的实际振幅以及光电探测器输出的实际电压值，计算出补偿后的实际解调量Sk，利用线性插值法查找所述数据库，求出工件台的实际离焦量Hk；避免了由于扫描反射镜长期工作，出现稳定性差的现象，导致调焦调平检测装置对硅片表面离焦量的测量精度不高的问题。
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公开(公告)号：CN103389623B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210143844.2
申请日：2012-05-11
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 一种调焦调平装置，包括照明单元、投影单元、探测单元和中继单元，照明单元包括用于产生照明光的光源和投影狭缝阵列；投影单元将照明单元中的投影狭缝阵列投影到硅片表面，形成多个测量光斑；探测单元中包括扫描反射镜，用于对入射光信号进行调制；中继单元中包括探测狭缝阵列和宽度探测单元；其中宽度探测单元实时探测投影光斑的宽度。采用这种调焦调平装置可以很好地避免因光斑中的光强分布不均导致的测量误差。
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公开(公告)号：CN103389623A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201210143844.2
申请日：2012-05-11
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 一种调焦调平装置，包括照明单元、投影单元、探测单元和中继单元，照明单元包括用于产生照明光的光源和投影狭缝阵列；投影单元将照明单元中的投影狭缝阵列投影到硅片表面，形成多个测量光斑；探测单元中包括扫描反射镜，用于对入射光信号进行调制；中继单元中包括探测狭缝阵列和宽度探测单元；其中宽度探测单元实时探测投影光斑的宽度。采用这种调焦调平装置可以很好地避免因光斑中的光强分布不均导致的测量误差。
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公开(公告)号：CN104516208B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201310461256.8
申请日：2013-10-08
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种基于相位检测的工件高度测量方法，其特征在于，包括以下步骤：使用包括光电转换器件、探测镜组、投影镜组、狭缝、照明镜组和光源的测量装置，从光源发出的光线依次通过照明镜组和狭缝后被分为多束光线，该多束光线通过投影镜组后以一定的角度斜入射到位于工件台的工件上，形成多个投影光斑，工件将光线反射后形成多束反射光线，该多束反射光线通过探测镜组后，在光电转换器件上形成多个光斑，并获取多个光斑的图像信号；对采集的图像做傅里叶变换；提取出相位的频率为Fm的相位值P；根据相位值P，对标定数据库进行计算并求出离焦量H。
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公开(公告)号：CN104516208A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201310461256.8
申请日：2013-10-08
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种基于相位检测的工件高度测量方法，其特征在于，包括以下步骤：使用包括光电转换器件、探测镜组、投影镜组、狭缝、照明镜组和光源的测量装置，从光源发出的光线依次通过照明镜组和狭缝后被分为多束光线，该多束光线通过投影镜组后以一定的角度斜入射到位于工件台的工件上，形成多个投影光斑，工件将光线反射后形成多束反射光线，该多束反射光线通过探测镜组后，在光电转换器件上形成多个光斑，并获取多个光斑的图像信号；对采集的图像做傅里叶变换；提取出相位的频率为Fm的相位值P；根据相位值P，对标定数据库进行计算并求出离焦量H。
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