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公开(公告)号：CN101142530A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200680008846.3
申请日：2006-03-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C07D251/02 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/0392 , H01L21/0274
Abstract: 本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C1)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。
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公开(公告)号：CN1823108A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480019981.9
申请日：2004-07-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其能够形成具有优异分辨率、优异的耐离开基材的反射性和优异垂直度的图案。该正型光刻胶组合物包含：(A)碱溶性酚醛清漆树脂，其中所有酚式羟基的部分氢原子被1，2－萘醌二叠氮磺酰基所取代，和(B)由下面所示的通式(b－1)和/或通式(b－11)表示的溶解促进剂。
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公开(公告)号：CN101142530B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200680008846.3
申请日：2006-03-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C07D251/02 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/0392 , H01L21/0274
Abstract: 本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C1)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1849559B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200480026115.2
申请日：2004-08-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/023
CPC classification number: G03F7/023 , G03F7/0236
Abstract: 提供一种提高正型光刻胶组合物显影速度的手段，所述的组合物含有光敏酚醛清漆树脂，其是通过用1，2-萘醌二叠氮磺酰基取代碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子而形成的。该手段是一种正型光刻胶组合物及使用该组合物形成光刻胶图案的方法，该组合物含有溶解于(B)丙二醇烷基醚乙酸酯的(A)光敏酚醛清漆树脂，其中所述碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子被1，2-萘醌二叠氮磺酰基所取代。
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公开(公告)号：CN100404573C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200480020267.1
申请日：2004-07-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C08G8/10 , C08L61/06 , G03F7/0236
Abstract: 一种包含碱溶性酚醛清漆树脂(A)和光敏剂(B)的正性光致抗蚀剂组合物，所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)含有下列通式(I)表示的结构单元(a1)和下列通式(II)表示的结构单元(a2)。
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公开(公告)号：CN100395273C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200480019981.9
申请日：2004-07-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其能够形成具有优异分辨率、优异的耐离开基材的反射性和优异垂直度的图案。该正型光刻胶组合物包含：(A)碱溶性酚醛清漆树脂，其中所有酚式羟基的部分氢原子被1，2-萘醌二叠氮磺酰基所取代，和(B)由下面所示的通式(b-1)和/或通式(b-11)表示的溶解促进剂。
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公开(公告)号：CN1849559A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200480026115.2
申请日：2004-08-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/023
CPC classification number: G03F7/023 , G03F7/0236
Abstract: 提供一种提高正型光刻胶组合物显影速度的手段，所述的组合物含有光敏酚醛清漆树脂，其是通过用1，2－萘醌二叠氮磺酰基取代碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子而形成的。该手段是一种正型光刻胶组合物及使用该组合物形成光刻胶图案的方法，该组合物含有溶解于(B)丙二醇烷基醚乙酸酯的(A)光敏酚醛清漆树脂，其中所述碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子被1，2－萘醌二叠氮磺酰基所取代。
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公开(公告)号：CN1823107A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480020267.1
申请日：2004-07-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C08G8/10 , C08L61/06 , G03F7/0236
Abstract: 一种包含碱溶性酚醛清漆树脂(A)和光敏剂(B)的正性光致抗蚀剂组合物，所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)含有下列通式(I)表示的结构单元(a1)和下列通式(II)表示的结构单元(a2)。
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