公开(公告)号：CN1751272A

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN200480004780.1

申请日：2004-02-20

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  高须亮一 ,  佐藤充 ,  胁屋和正 ,  吉田正昭 ,  田村弘毅

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种设置在抗蚀膜上的液浸曝光工序用抗蚀保护膜形成用材料、由上述材料形成的保护膜及具有抗蚀膜的复合膜、及使用上述膜的抗蚀图案形成方法，上述材料具有下述特性：对曝光光线透明，实质上不溶于液浸曝光用的液体，且在上述抗蚀膜之间不发生混合，由此能够同时防止液浸曝光中的抗蚀膜的变质及使用液体的变质，使用液浸曝光形成高清晰度的抗蚀图案。

公开(公告)号：CN1768305B

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200480008654.3

申请日：2004-03-24

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 远藤浩太朗 ,  吉田正昭 ,  平山拓 ,  辻裕光 ,  绪方寿幸 ,  佐藤充

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。

公开(公告)号：CN1757096A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200480005910.3

申请日：2004-03-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  佐藤充 ,  胁屋和正 ,  岩下淳 ,  吉田正昭

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70－270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN100440431C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200480005910.3

申请日：2004-03-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  佐藤充 ,  胁屋和正 ,  岩下淳 ,  吉田正昭

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 一种浸渍液，是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液，由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70-270℃的含氟类液体构成；以及一种抗蚀剂图案形成方法，包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜等膜的变质及使用液体的变质，形成采用液浸曝光的高分辨力抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN1768305A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200480008654.3

申请日：2004-03-24

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 远藤浩太朗 ,  吉田正昭 ,  平山拓 ,  辻裕光 ,  绪方寿幸 ,  佐藤充

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及含有(A)含有碱可溶性结构单元(a1)，并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元(a1)含有同时具有(i)氟原子或氟代烷基和(ii)醇羟基的脂环基，以及(B)通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图形形成方法。由此不仅能实现高分辨率和焦点深度，还可回避浸渍液的不良影响。

公开(公告)号：CN1756994A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200480005913.7

申请日：2004-03-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 岩下淳 ,  平山拓 ,  立川俊和

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08F20/04 ,  C08F20/26

Abstract: 本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料，以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中，即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗蚀剂膜上，介在折射率比空气高且折射率比上述抗蚀剂膜低的规定厚度的液体的状态下进行曝光，来提高抗蚀剂图案的分辨率的液浸曝光工艺中，可以同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜变质和使用液体的变质，可以形成用液浸曝光的高分辨率抗蚀剂图案。