公开(公告)号：CN107240566A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201710145062.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 毛利信彦 ,  上塘真吾 ,  枪光正和 ,  广濑虎瑠 ,  浦智仁

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/002 ,  B08B17/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明提供一种液处理装置，精度良好地放置基板、同时减少基板的下表面上的液体残留。实施方式的液处理装置具备倾斜部、多个支承构件、处理液供给部以及旋转机构。倾斜部配置于基板的下方，具有从基板的外侧朝向基板的内侧下倾且沿着基板的周向延伸的倾斜面。多个支承构件相对于倾斜面突出地设置，从下方支承基板。处理液供给部向支承到多个支承构件的基板的上表面供给处理液。旋转机构使倾斜部旋转。另外，多个支承构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的细长形状。

公开(公告)号：CN110609447B

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN201910516508.X

申请日：2019-06-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上塘真吾

IPC: G03F7/16

Abstract: 本发明涉及一种涂布膜形成方法和涂布膜形成装置。提供一种使形成于在表面具有具备高度差的图案的基板的表面整体的涂布膜的表面平坦化的技术。涂布膜形成方法的特征在于，包括以下的工序：涂布膜形成工序，向在表面具有具备高度差的图案的基板的该表面整体供给涂布液来形成涂布膜；加压工序，利用具备覆盖被保持于第一保持部的所述基板的表面整体的平坦面的加压部，使所述平坦面相对地按压所述基板的涂布膜；以及涂布膜固化工序，使表面被平坦化后的所述涂布膜固化。

公开(公告)号：CN107240566B

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN201710145062.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 毛利信彦 ,  上塘真吾 ,  枪光正和 ,  广濑虎瑠 ,  浦智仁

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种液处理装置，精度良好地放置基板、同时减少基板的下表面上的液体残留。实施方式的液处理装置具备倾斜部、多个支承构件、处理液供给部以及旋转机构。倾斜部配置于基板的下方，具有从基板的外侧朝向基板的内侧下倾且沿着基板的周向延伸的倾斜面。多个支承构件相对于倾斜面突出地设置，从下方支承基板。处理液供给部向支承到多个支承构件的基板的上表面供给处理液。旋转机构使倾斜部旋转。另外，多个支承构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的细长形状。

公开(公告)号：CN110609447A

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201910516508.X

申请日：2019-06-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上塘真吾

IPC: G03F7/16

Abstract: 本发明涉及一种涂布膜形成方法和涂布膜形成装置。提供一种使形成于在表面具有具备高度差的图案的基板的表面整体的涂布膜的表面平坦化的技术。涂布膜形成方法的特征在于，包括以下的工序：涂布膜形成工序，向在表面具有具备高度差的图案的基板的该表面整体供给涂布液来形成涂布膜；加压工序，利用具备覆盖被保持于第一保持部的所述基板的表面整体的平坦面的加压部，使所述平坦面相对地按压所述基板的涂布膜；以及涂布膜固化工序，使表面被平坦化后的所述涂布膜固化。