公开(公告)号：CN107240566A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201710145062.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 毛利信彦 ,  上塘真吾 ,  枪光正和 ,  广濑虎瑠 ,  浦智仁

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/002 ,  B08B17/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明提供一种液处理装置，精度良好地放置基板、同时减少基板的下表面上的液体残留。实施方式的液处理装置具备倾斜部、多个支承构件、处理液供给部以及旋转机构。倾斜部配置于基板的下方，具有从基板的外侧朝向基板的内侧下倾且沿着基板的周向延伸的倾斜面。多个支承构件相对于倾斜面突出地设置，从下方支承基板。处理液供给部向支承到多个支承构件的基板的上表面供给处理液。旋转机构使倾斜部旋转。另外，多个支承构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的细长形状。

公开(公告)号：CN108335996A

公开(公告)日：2018-07-27

申请号：CN201810039204.4

申请日：2018-01-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福井祥吾 ,  内田范臣 ,  小原隆宪 ,  篠原英隆 ,  锦户修一 ,  浦智仁 ,  元山祐弥

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: B08B17/025 ,  B08B1/002 ,  B08B1/02 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  B08B5/023 ,  B08B7/04 ,  F26B3/04 ,  F26B5/08 ,  F26B21/14 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02096 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/02057

Abstract: 提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。本发明防止由于基板的上表面的清洗中所使用的处理液而基板的下表面被污染。本发明在一边利用基板保持旋转部使基板旋转一边并行地进行基板的上表面和下表面的液处理之后，在使基板的上表面和下表面的液处理这两方结束时，控制部(18)先使处理液供给机构(73)对基板的上表面的处理液的供给结束，之后使处理液供给机构(71)对基板的下表面的处理液的供给结束。

公开(公告)号：CN107240566B

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN201710145062.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 毛利信彦 ,  上塘真吾 ,  枪光正和 ,  广濑虎瑠 ,  浦智仁

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种液处理装置，精度良好地放置基板、同时减少基板的下表面上的液体残留。实施方式的液处理装置具备倾斜部、多个支承构件、处理液供给部以及旋转机构。倾斜部配置于基板的下方，具有从基板的外侧朝向基板的内侧下倾且沿着基板的周向延伸的倾斜面。多个支承构件相对于倾斜面突出地设置，从下方支承基板。处理液供给部向支承到多个支承构件的基板的上表面供给处理液。旋转机构使倾斜部旋转。另外，多个支承构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的细长形状。

公开(公告)号：CN108335996B

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN201810039204.4

申请日：2018-01-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福井祥吾 ,  内田范臣 ,  小原隆宪 ,  篠原英隆 ,  锦户修一 ,  浦智仁 ,  元山祐弥

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。本发明防止由于基板的上表面的清洗中所使用的处理液而基板的下表面被污染。本发明在一边利用基板保持旋转部使基板旋转一边并行地进行基板的上表面和下表面的液处理之后，在使基板的上表面和下表面的液处理这两方结束时，控制部(18)先使处理液供给机构(73)对基板的上表面的处理液的供给结束，之后使处理液供给机构(71)对基板的下表面的处理液的供给结束。

公开(公告)号：CN114914172A

公开(公告)日：2022-08-16

申请号：CN202210102360.7

申请日：2022-01-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福井祥吾 ,  御所真高 ,  冈村聪 ,  浦智仁

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。在使用超临界状态的处理流体使基板干燥时抑制在基板的表面产生的微粒。使用超临界流体使在图案形成面形成有液膜的基板干燥的基板处理装置包括：处理容器，其收纳基板，并且超临界流体向该处理容器供给；基板保持部，其具有将基板以使图案形成面朝上的状态从下方支承的基座部，该基板保持部在处理容器内保持基板；第1检测部，其用于检测基座部的相对于水平面的倾斜；姿势调整机构，其用于调整基座部的相对于水平面的倾斜；以及控制部，其基于第1检测部的检测结果来控制姿势调整机构从而进行基座部的水平调整。

公开(公告)号：CN114141655A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202110981153.9

申请日：2021-08-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 御所真高 ,  山本周 ,  浦智仁 ,  冈村聪

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法，其能够简化对在排出管线中流动的流体中的干燥液的浓度进行测量的浓度测量部的结构。基片处理装置通过将形成于基片的干燥液的液膜置换为超临界流体，来使上述基片干燥。基片处理装置包括压力容器、排出管线、减压阀和浓度测量部。上述压力容器在内部收纳形成有上述液膜的上述基片。上述排出管线将上述压力容器的内部的流体排出。上述减压阀设置在上述排出管线的中途。上述浓度测量部测量在上述排出管线中流动的流体中的上述干燥液的浓度。上述浓度测量部设置在比上述排出管线的上述减压阀靠下游处，测量由上述减压阀减压了的流体中的上述干燥液的浓度。

公开(公告)号：CN207868172U

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201820066788.X

申请日：2018-01-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福井祥吾 ,  内田范臣 ,  小原隆宪 ,  篠原英隆 ,  锦户修一 ,  浦智仁 ,  元山祐弥

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种基板处理装置。以往，存在在基板的上表面的清洗中所使用的刷的变形而导致基板的下表面被污染的问题。本实用新型的基板处理装置具备：基板保持旋转部，其保持基板并使该基板旋转；处理液供给机构，其对基板的上表面供给处理液；以及刷，在利用所述处理液供给机构供给处理液时，该刷一边使清洗体与所述基板的上表面接触并使所述清洗体旋转，一边清洗所述基板，其中，所述刷的清洗体的周缘部具有在侧视时向外侧翘曲的形状。由此，本实用新型的基板处理装置能够防止在基板的上表面的清洗中所使用的刷的变形而导致基板的下表面被污染。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利