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公开(公告)号：CN110783231B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN201910700630.2
申请日：2019-07-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，在对基板的表面照射处理用的光的基板处理中能够有效地提高基板的表面内的光的照射量的均匀性。基板处理装置(1)具备：光照射部(30)，其向晶圆(W)的表面(Wa)的比处理对象区域(TA)小的照射区域(A1)内照射处理用的光；驱动部(15)，其使照射区域(A1)在沿着晶圆(W)的表面(Wa)的平面内沿彼此交叉的两个方向移动；以及控制器(100)，其控制驱动部(15)，使得照射位置按照移动图案沿两个方向移动，该移动图案是以向处理对象区域(TA)的整个区域照射光的方式设定的图案。
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公开(公告)号：CN112558417A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010965656.2
申请日：2020-09-15
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 本发明提供根据基片处理的状态来适当地控制各种参数的基片处理控制方法、基片处理装置和存储介质。具有包含多个第一水准单元的第一要素和包含的多个第二水准单元的第二要素的基片处理装置中的基片处理控制方法，其包括：获取步骤，其对每个基片获取包含确定进行了第一处理的第一水准单元的信息、确定进行了第二处理的第二水准单元的信息和关于基片的特性的特征量的信息的数据集；计算步骤，其基于数据集，计算包含特征量的预期值、相对于预期值的第一水准单元的水准单元偏差和相对于预期值的第二水准单元的水准单元偏差的信息；以及修正步骤，其基于在计算步骤中计算出的信息，修正第一水准单元的第一参数或者第二水准单元的第二参数。
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公开(公告)号：CN104428823B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380036298.5
申请日：2013-07-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明涉及无尘室的监视装置以及无尘室的监视方法。该装置是用于监视在地板部配置了能够取下的格栅的无尘室的内部的无尘室的监视装置，该装置具备：监视照相机，其拍摄上述格栅；监视部，其根据利用上述监视照相机得到的图像信号来检测取下了上述格栅的开口部的有无，并在有开口部的情况下检测接近该开口部的作业人员的有无，并在检测到上述作业人员时输出警报信号；以及警报发生单元，其从上述监视部接受上述警报信号，并发出警报。
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公开(公告)号：CN110783231A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910700630.2
申请日：2019-07-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，在对基板的表面照射处理用的光的基板处理中能够有效地提高基板的表面内的光的照射量的均匀性。基板处理装置(1)具备：光照射部(30)，其向晶圆(W)的表面(Wa)的比处理对象区域(TA)小的照射区域(A1)内照射处理用的光；驱动部(15)，其使照射区域(A1)在沿着晶圆(W)的表面(Wa)的平面内沿彼此交叉的两个方向移动；以及控制器(100)，其控制驱动部(15)，使得照射位置按照移动图案沿两个方向移动，该移动图案是以向处理对象区域(TA)的整个区域照射光的方式设定的图案。
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公开(公告)号：CN104428823A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380036298.5
申请日：2013-07-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明涉及无尘室的监视装置以及无尘室的监视方法。该装置是用于监视在地板部配置了能够取下的格栅的无尘室的内部的无尘室的监视装置，该装置具备：监视照相机，其拍摄上述格栅；监视部，其根据利用上述监视照相机得到的图像信号来检测取下了上述格栅的开口部的有无，并在有开口部的情况下检测接近该开口部的作业人员的有无，并在检测到上述作业人员时输出警报信号；以及警报发生单元，其从上述监视部接受上述警报信号，并发出警报。
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