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公开(公告)号：CN114071076A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111214841.9
申请日：2017-02-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN112147854A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010545970.5
申请日：2020-06-16
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种光照射装置，其包括：收纳基片的处理室；收纳能量射线的射线源的线源室；将处理室与线源室分隔开的分隔壁；多个窗部，其设置在分隔壁，能够使从射线源向处理室内的基片出射的能量射线透射；和多个气体释放部，其分别设置在处理室内的多个窗部的周围，沿多个窗部的表面释放非活性气体。根据本发明，能够有效提高光照射处理的稳定性。
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公开(公告)号：CN114070977B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202111215335.1
申请日：2017-02-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H04N23/55 , H04N23/54 , H04N23/56 , H01L21/67 , G01N21/88 , G01N21/95 , G06T7/00 , H04N23/74 , H04N23/90
摘要： 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN110517952B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201910413531.6
申请日：2019-05-17
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 古闲法久
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67 , G03F7/20
摘要： 本发明说明一种能够抑制臭氧的产生并且有效地处理基片的基片处理装置。基片处理装置包括：能够进行基片的处理的处理室；包含光源的光源室，其中该光源能够对基片的表面照射真空紫外光；能够对光源室内供给非活性气体的气体供给部；和控制部，其执行控制气体供给部以使得将光源室内维持为非活性气体气氛的处理。
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公开(公告)号：CN110783231A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910700630.2
申请日：2019-07-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，在对基板的表面照射处理用的光的基板处理中能够有效地提高基板的表面内的光的照射量的均匀性。基板处理装置(1)具备：光照射部(30)，其向晶圆(W)的表面(Wa)的比处理对象区域(TA)小的照射区域(A1)内照射处理用的光；驱动部(15)，其使照射区域(A1)在沿着晶圆(W)的表面(Wa)的平面内沿彼此交叉的两个方向移动；以及控制器(100)，其控制驱动部(15)，使得照射位置按照移动图案沿两个方向移动，该移动图案是以向处理对象区域(TA)的整个区域照射光的方式设定的图案。
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公开(公告)号：CN110517952A
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201910413531.6
申请日：2019-05-17
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 古闲法久
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67 , G03F7/20
摘要： 本发明说明一种能够抑制臭氧的产生并且有效地处理基片的基片处理装置。基片处理装置包括：能够进行基片的处理的处理室；包含光源的光源室，其中该光源能够对基片的表面照射真空紫外光；能够对光源室内供给非活性气体的气体供给部；和控制部，其执行控制气体供给部以使得将光源室内维持为非活性气体气氛的处理。
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公开(公告)号：CN109560016A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811119272.8
申请日：2018-09-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置能够抑制装置的大型化并且确认基板的周缘部的状态。实施方式所涉及的基板处理装置具备搬入搬出站、交接站、处理站以及摄像单元。搬入搬出站具有将基板从盒取出并且进行搬送的第一搬送装置。交接站与搬入搬出站相邻地配置，具有用于载置由第一搬送装置搬送的基板的基板载置部。处理站与交接站相邻地配置，具有用于将基板从基板载置部取出并进行搬送的第二搬送装置以及用于对由第二搬送装置搬送来的基板进行处理的多个处理单元。摄像单元配置于交接站，用于拍摄基板的上表面和下表面中的一个面的周缘部和基板的端面。
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公开(公告)号：CN102809570B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201210135466.3
申请日：2012-05-03
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/9513 , G06T7/0004
摘要： 本发明提供不使用检查用基板、能够防止产生由照明部的照度的降低引起的检查的不顺利的问题的技术。本发明的基板检查装置，具有：模式选择部，用于在检查模式和维护模式之间选择模式，所述检查模式以载置于设置在机箱内的载置台的基板为被摄体进行摄像来进行检查，所述维护模式用于确认照明部的照度；导光部件，设置于上述机箱内，用于将上述照明部的光导向摄像部的摄像元件；判定部，对在维护模式执行时经由上述导光部件被摄像元件取得的照明部的光的亮度是否在预先设定的容许范围内进行判定；和报知部，当由上述判定部判定为上述亮度在上述容许范围外时，用于报知需要进行照明部的更换。
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公开(公告)号：CN102338990A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201110204680.5
申请日：2011-07-13
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 古闲法久
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/67288
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，能够适当地进行周边曝光处理后的基板的检查，并提高包括该检查的基板处理的处理能力。晶片处理装置(42)包括：保持晶片的保持部(120)；使保持部(120)旋转的并使保持部(120)在交接位置(P1)与周边曝光位置(P2)之间移动的驱动部(121)；在周边曝光位置(P2)将晶片(W)的周边部曝光的曝光部(140)；设置于曝光部(140)的上方对晶片(W)摄像的摄像部(150)；和改变形成于被保持部(120)保持的晶片(W)与摄像部(150)之间的光路的方向的方向转换部(153)。方向转换部(153)具有第一反射镜(154)、第二反射镜(155)和第三反射镜(156)，通过第二反射镜(155)和第三反射镜(156)使形成于晶片W与摄像部(150)之间的光路折回。
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公开(公告)号：CN115202154A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210305450.6
申请日：2022-03-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法，使利用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板中的曝光时的感光度在面内均匀。基板处理装置(1)具有：光源(42)，在对利用EUV光刻用抗蚀剂材料形成了抗蚀剂膜的基板进行曝光处理前该光源(42)向该基板照射包括真空紫外光的光；以及作为光量抑制构件的有孔板(52)，其设置于来自所述光源的光的光路上，用于将到达所述基板表面的光的光量在照射区域中整体性地抑制为微弱光，其中，包括真空紫外光的光包括10nm～200nm波长中所包含的至少一部分波长带的连续的光谱成分。
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