公开(公告)号：CN102349136A

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN201080011199.8

申请日：2010-03-10

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 松井英章 ,  守屋刚 ,  西村荣一 ,  河口慎一 ,  山涌纯 ,  宫内国男

IPC分类号： H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  B08B3/14 ,  B08B7/00 ,  H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/02101 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109

摘要： 本发明提供一种基板清洗方法，其能够以简单的装置构造实施，用于以短时间对形成有微细图案的基板进行清洗，并不会对该微细图案坏带来影响。从对晶片(W)的表面实施规定的加工的处理腔室向实施晶片(W)的清洗的清洗腔室输送晶片(W)，在清洗腔内将晶片(W)冷却到规定温度，将作为超流体的超流动氦供给到晶片(W)的表面，从晶片(W)的表面使超流动氦流出，由此冲走微细图案内的污染成分。