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公开(公告)号：CN118156114A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202311561355.3
申请日：2023-11-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开提供一种等离子体处理装置和清洁方法，能够使用远程等离子体对处理容器内进行清洁。在中真空的压力区域对矩形的基板实施基板处理的等离子体处理装置具备：载置台；处理容器；多个排气口；第一等离子体生成部，其生成用于对基板实施基板处理的处理等离子体；远程等离子体产生装置，其具有第二等离子体生成部；多个第一排气流路，其经由多个排气口的各排气口连接于处理容器，且分别具有前级排气装置；第二排气流路，在其一端处与多个第一排气流路分别连接；以及后级排气装置，其连接于第二排气流路的另一端，其中，在多个第一排气流路中的至少两个以上的第一排气流路中具有旁通流路，该旁通流路用于绕过前级排气装置且具有压力控制装置。
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