-
-
-
公开(公告)号：CN108987233B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201810558220.4
申请日：2018-06-01
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种等离子体处理装置、静电吸附方法和静电吸附程序，能够抑制聚焦环的吸附力的降低。在静电吸盘(25)的外周部(25b)载置聚焦环(30)，在内部以与聚焦环(30)相对地设置有电极板(29)。直流电源(28)在等离子体处理的期间中，对电极板(29)周期性地施加不同极性的电压，或者阶段性地施加绝对值大的电压。
-
公开(公告)号：CN110473761B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201910385178.5
申请日：2019-05-09
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明提供一种能够对在腔室内的减压环境下成为高温的构件进行冷却的等离子体处理装置。一实施方式的等离子体处理装置具备腔室。腔室提供有内部空间。一个以上的第1构件以其各自的至少一部分暴露于包括内部空间在内的减压环境的方式设置。一个以上的第1构件包含于腔室，或相对于腔室独立设置。一个以上的第2构件与一个以上的第1构件分别相接触。一个以上的第2构件各自的至少一部分配置于大气压环境下。一个以上的供给器分别向设置于一个以上的第2构件的所对应的第2构件中的空腔供给制冷剂。
-
公开(公告)号：CN110473761A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910385178.5
申请日：2019-05-09
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明提供一种能够对在腔室内的减压环境下成为高温的构件进行冷却的等离子体处理装置。一实施方式的等离子体处理装置具备腔室。腔室提供有内部空间。一个以上的第1构件以其各自的至少一部分暴露于包括内部空间在内的减压环境的方式设置。一个以上的第1构件包含于腔室，或相对于腔室独立设置。一个以上的第2构件与一个以上的第1构件分别相接触。一个以上的第2构件各自的至少一部分配置于大气压环境下。一个以上的供给器分别向设置于一个以上的第2构件的所对应的第2构件中的空腔供给制冷剂。
-
公开(公告)号：CN112863985A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011216079.3
申请日：2020-11-04
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 提供一种用于对反应产物附着在设置于等离子体处理装置上的部件之间的间隙的情况进行抑制的等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括：第一部件，设置在处理容器内；以及第二部件，设置在所述第一部件的外侧，其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。
-
公开(公告)号：CN118471779A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410392182.5
申请日：2019-05-09
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明提供一种能够对在腔室内的减压环境下成为高温的构件进行冷却的等离子体处理装置。一实施方式的等离子体处理装置具备腔室。腔室提供有内部空间。一个以上的第1构件以其各自的至少一部分暴露于包括内部空间在内的减压环境的方式设置。一个以上的第1构件包含于腔室，或相对于腔室独立设置。一个以上的第2构件与一个以上的第1构件分别相接触。一个以上的第2构件各自的至少一部分配置于大气压环境下。一个以上的供给器分别向设置于一个以上的第2构件的所对应的第2构件中的空腔供给制冷剂。
-
公开(公告)号：CN108987233A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810558220.4
申请日：2018-06-01
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种等离子体处理装置、静电吸附方法和静电吸附程序，能够抑制聚焦环的吸附力的降低。在静电吸盘(25)的外周部(25b)载置聚焦环(30)，在内部以与聚焦环(30)相对地设置有电极板(29)。直流电源(28)在等离子体处理的期间中，对电极板(29)周期性地施加不同极性的电压，或者阶段性地施加绝对值大的电压。
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
8 条记录 (耗时 0.029 秒)