公开(公告)号：CN102671835B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201210071652.5

申请日：2012-03-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  吉富济 ,  田上真也 ,  米冈诚司

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。

公开(公告)号：CN102671835A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210071652.5

申请日：2012-03-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  吉富济 ,  田上真也 ,  米冈诚司

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。